一、簡介

美國ASI J200 LA飛秒激光剝蝕進樣系統(tǒng)與等離子體質(zhì)譜連用，組成LA-ICP-MS系統(tǒng)，對樣品的元素組成、元素分布進行檢測?？膳c市面上的普通四級桿質(zhì)譜儀、飛行時間質(zhì)譜儀和多接收質(zhì)譜儀等常見質(zhì)譜儀聯(lián)用。

二、J200 LA飛秒激光剝蝕進樣系統(tǒng)技術(shù)優(yōu)勢

• Q開關(guān)，短脈沖Nd:YAG激光器，擁有各種不同波長、不同能量的飛秒或納秒激光器，可根據(jù)您的實際應用需求進行選購；
• 創(chuàng)新的模塊化系統(tǒng)為獨立的LA，LIBS，或LA–LIBS復合系統(tǒng)的配置設(shè)計；
• 系統(tǒng)傳感器，確保激光剝蝕一致性：
  • 高度自動調(diào)整技術(shù)
  • 激光能量穩(wěn)定快門

• 雙攝像機，一個專用于高倍成像，另一個用于樣品表面的廣角觀察；
• 應用光譜Flex樣品室?guī)в锌苫Q鑲嵌模塊，以優(yōu)化運輸氣體流量和顆粒沖刷性能；
• 緊湊型微集氣管設(shè)計，以消除脫氣和記憶效應；
• 雙路高精度數(shù)字質(zhì)量流量控制器和電子控制閥門；
• 系統(tǒng)軟件：
  • 硬件部件的全面控制與測量自動化
  • 多功能取樣方法：全分析、微區(qū)&夾雜物分析，深度分析和元素成像
  • 用于LA-ICP-MS和LIBS分析的強大數(shù)據(jù)分析模塊

• 維護成本低；
• 升級為LA-LIBS復合系統(tǒng)簡單：
  • 用于判別和分類分析的LIBS化學計量軟件
  • 滿足不同分析要求的三種LIBS檢測器選項，LIBS可配置雙檢測器

• 可升級為飛秒激光剝蝕。

三、硬件特點

針對雙重LA/LIBS性能而設(shè)計的緊湊、模塊化系統(tǒng)

主體包括激光源、激光束傳輸光學器件、樣品室、氣體流量控制系統(tǒng)。

自動調(diào)整樣品高度，保證激光剝蝕的一致性

考慮到樣品表面的形態(tài)變化，采用自動調(diào)高傳感器?？杀３志_的激光聚焦，在所有采樣點上提供相同的激光能量，并在所有采樣點上實現(xiàn)一致的激光剝蝕。

具有可互換鑲嵌模塊的Flex樣品室，以優(yōu)化氣流和微粒沖洗性能

根據(jù)測量目的(主要成分分析、包裹體分析、高分辨率深度分析、元素成像等)，有必要對樣品室的各個性能指標進行優(yōu)化，指標包括：沖洗時間、顆?；旌稀悠肥覂?nèi)的流動特性。Flex樣品室的設(shè)計能夠容納直徑為4英寸的樣品，使用一組可互換的頂部和底部鑲嵌塊來調(diào)節(jié)氣流條件（層流和紊流）和微粒沖洗時間。此外，F(xiàn)lex樣品室的設(shè)計是為等離子體光提供一個好的視角，從而保證在激光剝蝕過程中進行靈敏的LIBS檢測。

創(chuàng)新集氣管設(shè)計

采用*的集氣管設(shè)計，限度地減少了脫氣，防止了任何燒蝕顆粒的堆積，并消除記憶效應。容易組裝，便于定期清潔輸氣管道。

高精度氣體流量控制系統(tǒng)

氣體控制系統(tǒng)使用兩個高精度、數(shù)字化質(zhì)量流量控制器（MFC）和電子控制閥，用于氬氣、氦氣及補充氣體的輸送，并精確控制氣流，防止等離子體火焰熄滅。預設(shè)配置可以選擇輸送氬氣、氦氣或補充氣體。

氣體流量控制系統(tǒng)

通過雙攝像頭和*照明實現(xiàn)樣品可視化

擁有*照明系統(tǒng)和高倍光學變焦(高達60X)功能，清晰呈現(xiàn)樣品的表面細節(jié)。配備雙高分辨率CMOS成像攝像機，提供廣角視野和高倍成像，以精確地研究精細區(qū)域(見下圖)。廣角視野視圖可以保存，并用于定位不同的樣品位置，使用高倍鏡研究樣品。

具有三種獨立的照明模式，提高圖像質(zhì)量和對比度：擴散式LED光源，透射光和同軸反射光,光的強度和顏色可控。

清晰、高倍放大的樣品表面圖像

同軸光線不同顏色和強度下的樣本圖像對比

三種LIBS檢測器可選，擴展了儀器功能

三種不同LIBS檢測器可選：(1)帶有ICCD攝像機的掃描Czerny Turner光譜儀；(2) 配備ICCD攝像機的中階梯光柵光譜儀；(3)同步六通道CCD光譜儀。做為獨立的LIBS儀器系統(tǒng)，可同時配備任意兩種檢測器。雙檢測器開辟了新的LIBS檢測功能。