產(chǎn)品名稱:DS-2000/14G型光刻機 | ||
主要技術(shù)指標: | ||
單次曝光面積:1.4mm×1mm | ||
曝光基片:100mm ×100mm | ||
對準精度:±0.8μm(半自動對準) | ||
膠厚:300μm(SU8膠) | ||
自動逐場對焦; | ||
分辨力:1μm; | ||
X、Y、Z、θ四自由度電動位移臺 | ||
X、Y平移重復定位精度:0.65μm(3σ) | ||
Z向運動精度:1μm | ||
技術(shù)特點: | ||
該機可采用紫外光、深紫外光、甚至更短波長的極紫外光作為光源,用DMD數(shù)字微鏡陣列替代傳統(tǒng)掩模板,采用積木 錯位蠅眼透鏡實現(xiàn)高均勻照明,并配備了雙目雙視顯微鏡和CCD圖象對準系統(tǒng)(可同時使用),拼接獲得大面積圖形,曝光設(shè)定采用微機控制,菜單界面友好,操作簡便。 |
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微控設(shè)備
DS-2000/14G型光刻機 產(chǎn)品信息
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