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      韓國開發(fā)出新技術(shù) 芯片工藝有望達(dá)到5納米

      2009年03月04日 19:34來源:西安建華科技實(shí)業(yè)有限公司>>進(jìn)入該公司展臺人氣:878

      韓國開發(fā)出新技術(shù) 芯片工藝有望達(dá)到5納米

      日期:2005-9-11  發(fā)布人:admin  人氣:96

      據(jù)法新社報(bào)道,該小組已表示成功制造出了所謂的“Mott Insulator”(莫特絕緣體)  ,小組由電子與通信研究院(ETRI)的Kim Hyun-Tak牽頭。新材料是以獲得1977年諾貝爾物理獎(jiǎng)的英國科學(xué)家Nevill Mott的名字命名的,盡管Mott insulators也屬于金屬,但它不能導(dǎo)電。然而,在高電壓狀態(tài)下,Mott insulators在相對較低的67攝氏度(華氏152.6度)下具有導(dǎo)電性能。 

        ETRI院長Lim Joo-Hwan表示,“硅物質(zhì)導(dǎo)電發(fā)熱的物理性質(zhì)使得芯片上無法建立超薄集成電路,然而Mott metals卻不會發(fā)熱。” 

        Kim Hyun-Tak表示,“20世紀(jì)在電子界風(fēng)靡一時(shí)的半導(dǎo)體zui終將給Mott insulators讓路”。 

        他表示,Mott insulators材料可開創(chuàng)一下每年達(dá)1000億美元銷售額的市場,包括顯示器與大量新設(shè)備都可放棄硅半導(dǎo)體而選擇Mott insulators。 

        他表示,使用Mott金屬絕緣體之后,芯片的工藝可能達(dá)到5納米制程,而目前的半導(dǎo)體芯片的制程理論可達(dá)到40納米,但當(dāng)前市場上zui的產(chǎn)品也使用90納米制造工藝。三星電子公司去年展示了*的閃存芯片技術(shù),該芯片采用的是60納米工藝。

        專家們提示,60納米很可能代表了硅元素半導(dǎo)體芯片的工藝極限。

       

      (來源:西安建華科技實(shí)業(yè)有限公司)
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