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      美國(guó) KRi 離子源常見(jiàn)工藝應(yīng)用

      2023年08月02日 15:44:28人氣:252來(lái)源:伯東企業(yè)(上海)有限公司

      KRi 離子源常見(jiàn)工藝應(yīng)用
      通過(guò)使用上海伯東美國(guó) KRi 離子源可以對(duì)材料進(jìn)行加工, 真空環(huán)境下, 實(shí)現(xiàn)沉積薄膜, 干式蝕刻和材料表面改性等工藝.
      KRI離子源

      KRi 離子源常見(jiàn)工藝應(yīng)用

      工藝應(yīng)用

      簡(jiǎn)稱

      In-situ substrate preclean 預(yù)清潔

      PC

      Ion-beam modification of material and surface properties
      材料和表面改性

      IBSM

      - Surface polishing or smoothing 表面拋光

       

      - Surface nanostructures and texturing
      表面納米結(jié)構(gòu)和紋理

       

      - Ion figuring and enhancement 離子計(jì)算和增強(qiáng)

       

      - Ion trimming and tuning 離子修整和調(diào)諧

       

      - Surface-activated bonding 表面激活鍵合

      SAB

      Ion-beam-assisted deposition 輔助鍍膜

      IBAD

      Ion-beam etching 離子蝕刻

      IBE

      - Reactive ion-beam etching 活性離子束蝕刻

      RIBE

      - Chemically assisted ion-beam etching 化學(xué)輔助離子束蝕刻

      CAIBE

      Ion-beam sputter deposition 離子濺射

      IBSD

      - Reactive ion-beam sputter deposition 反應(yīng)離子濺射

      RIBSD

      - Biased target ion-beam sputter deposition
      偏壓靶離子束濺射

      BTIBSD

      Direct deposition 直接沉積

      DD

      - Hard and functional coatings
      硬質(zhì)和功能性涂料

       


      KRI離子源 

      1978 年 Dr. Kaufman 博士在美國(guó)創(chuàng)立 Kaufman & Robinson, Inc 公司, 研發(fā)生產(chǎn)寬束離子源, 根據(jù)設(shè)計(jì)原理分為考夫曼離子源, 霍爾離子源和射頻離子源. 美國(guó)考夫曼離子源歷經(jīng) 40 年改良及發(fā)展已取得多項(xiàng)專. KRi 離子源廣泛用于離子清洗 PC, 離子蝕刻 IBE, 輔助鍍膜 IBAD, 離子濺射鍍膜 IBSD 和離子束拋光工藝 IBF 等領(lǐng)域, 上海伯東是美國(guó) KRi考夫曼公司離子源中國(guó)總代理.
       

      若您需要進(jìn)一步的了解美國(guó) KRi 離子源詳細(xì)信息或討論, 請(qǐng)參考以下聯(lián)絡(luò)方式
      上海伯東: 羅先生

       

      關(guān)鍵詞:離子計(jì)
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