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KRi 射頻離子源應(yīng)用于紅外截止濾光片 IRCF 工藝
上海伯東某客戶為精密光學(xué)鍍膜產(chǎn)品生產(chǎn)商, 生產(chǎn)過程中需在白玻璃上進(jìn)行鍍膜. 由于國產(chǎn)鍍膜設(shè)備在射頻和光控性能方面的限制, 鍍制過程易出現(xiàn)溫漂現(xiàn)象, 材料折射率不高, 品質(zhì)無法保證; 且工藝上需要加熱, 這大大增加了鍍膜時(shí)間. 經(jīng)過伯東推薦選用國產(chǎn)鍍膜機(jī)加裝美國進(jìn)口 KRi 射頻離子源進(jìn)行輔助鍍膜, 保證工藝效果, 提高生產(chǎn)效率.
紅外截止濾光片是一種用于過濾紅外波段的濾鏡, IRCF 利用精密光學(xué)鍍膜技術(shù)在白玻璃, 藍(lán)玻璃或樹脂片等光學(xué)基片上交替鍍上高低折射率的光學(xué)膜, 其可通過實(shí)現(xiàn)近紅外光區(qū)截止以消除紅外光對成像的影響, 是高性能攝像頭的組件, 工藝上對所用的鍍膜設(shè)備有著高的要求.
KRi 射頻離子源應(yīng)用于紅外截止濾光片 IRCF 工藝
應(yīng)用領(lǐng)域: 光學(xué)鏡頭
薄膜工藝: IR-CUT
產(chǎn)品類別: 紅外截止濾光片
應(yīng)用方向: 國產(chǎn)鍍膜機(jī)加裝 KRi 射頻離子源進(jìn)行離子清洗和輔助沉積, 實(shí)現(xiàn) IR-CUT 單面鍍膜
美國 KRi 考夫曼品牌射頻離子源通過輔助鍍膜在白玻璃 IRCF 上進(jìn)行工藝升級, 解決溫漂問題, 上海伯東美國 KRi 射頻離子源 RFICP 系列, 無需燈絲提供高能量, 低濃度的離子束, 通過柵極控制離子束的能量和方向, 單次工藝時(shí)間更長! 射頻離子源適合多層膜的制備, 離子濺鍍鍍膜和離子蝕刻, 改善靶材的致密性, 光透射, 均勻性, 附著力等. 上海伯東是美國 KRi 離子源中國總代理.
美國 KRi RFICP 射頻離子源技術(shù)參數(shù):
型號 | RFICP 40 | RFICP 100 | RFICP 140 | RFICP 220 | RFICP 380 |
Discharge 陽極 | RF 射頻 | RF 射頻 | RF 射頻 | RF 射頻 | RF 射頻 |
離子束流 | >100 mA | >350 mA | >600 mA | >800 mA | >1500 mA |
離子動(dòng)能 | 100-1200 V | 100-1200 V | 100-1200 V | 100-1200 V | 100-1200 V |
柵極直徑 | 4 cm Φ | 10 cm Φ | 14 cm Φ | 20 cm Φ | 30 cm Φ |
離子束 | 聚焦, 平行, 散射 | ||||
流量 | 3-10 sccm | 5-30 sccm | 5-30 sccm | 10-40 sccm | 15-50 sccm |
通氣 | Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他 | ||||
典型壓力 | < 0.5m Torr | < 0.5m Torr | < 0.5m Torr | < 0.5m Torr | < 0.5m Torr |
長度 | 12.7 cm | 23.5 cm | 24.6 cm | 30 cm | 39 cm |
直徑 | 13.5 cm | 19.1 cm | 24.6 cm | 41 cm | 59 cm |
中和器 | LFN 2000 |
上海伯東同時(shí)提供真空系統(tǒng)所需的渦輪分子泵, 真空規(guī), 高真空插板閥等產(chǎn)品, 協(xié)助客戶生產(chǎn)研發(fā)高質(zhì)量的真空系統(tǒng).
1978 年 Dr. Kaufman 博士在美國創(chuàng)立 Kaufman & Robinson, Inc 公司, 研發(fā)生產(chǎn)考夫曼離子源, 霍爾離子源和射頻離子源. 美國考夫曼離子源歷經(jīng) 40 年改良及發(fā)展已取得多項(xiàng)利. 離子源廣泛用于離子清洗 PC, 離子蝕刻 IBE, 輔助鍍膜 IBAD, 離子濺射鍍膜 IBSD 領(lǐng)域.
若您需要進(jìn)一步的了解 KRi 射頻離子源, 請參考以下聯(lián)絡(luò)方式
上海伯東: 羅先生
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2025第十一屆中國國際機(jī)電產(chǎn)品交易會 暨先進(jìn)制造業(yè)博覽會
展會城市:合肥市展會時(shí)間:2025-09-20