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1.清潔無振動真空環(huán)境的必要性
真空對人類的主要貢獻為:提供了zui清潔和zui少受外界干擾的試驗環(huán)境,對工業(yè)生產(chǎn)來說,則可以制造性能、甚至自然界的材料。二十世紀人類的三大成就是電子計算機、核能和航天器,但實際上它們都離不開真空。例如:計算機所需的半導體集成電路就需要在真空中熔制和提純硅單晶,以后的外延,鍍膜,干法刻蝕和離子注入等,也都是真空工藝。近年來納米技術(shù)蓬勃發(fā)展,但就應用來講,關(guān)鍵問題是更高的清潔環(huán)境,例如12〞(300毫米)硅片集成電路生產(chǎn)線要求圖形的線條寬度達到小于100納米,這就對真空的清潔度提出了更高的要求。
上世紀在真空獲得方面油擴散泵得到廣泛使用,但由于擴散泵返油造成的滲碳影響產(chǎn)品質(zhì)量,人們意識到油蒸汽污染的嚴重性。人們?yōu)橄驼羝廴咀髁瞬簧倥?,特別由于大規(guī)模集成電路的生產(chǎn)過程中要求嚴格的清潔真空,在世界范圍內(nèi)清潔真空設(shè)備如渦輪分子泵、低溫冷凝泵和干泵等迅速發(fā)展,目標都是無油真空系統(tǒng)。
研究表明,在真空度低于10-6托的環(huán)境下,殘余氣體成份中95%以上是水蒸氣 (簡稱為水氣),抽除水氣的泵稱為 “水氣泵” 或 “深冷水氣泵(阱)”。到目前為止,在集成電路生產(chǎn)過程中, 干泵和磁懸浮軸承耐腐蝕分子泵的應用,似已解決了目前集成電路生產(chǎn)的真空問題,但隨著集成電路的基片達到300毫米、圖形線條寬度達幾十納米的情況下,任何極為微小的污染都會影響產(chǎn)品的質(zhì)量。人們認識到納米技術(shù)要求的清潔真空除無油外還須無水氣。無油無水氣的清潔環(huán)境是納米技術(shù)實際應用的基本條件之一。
還值得提出的是:在集成電路芯片的輸送過程中,振動是一個特別重要的問題,振動可導致硅片(基片)“走動”。例如GM氦制冷機的活塞運動產(chǎn)生的振動對硅片的輸送是有害的。
2. 深冷水氣泵(阱)—Microstar 水氣泵(阱)
現(xiàn)在有一種新的超低振動型深冷水氣泵(阱),以色列 Ricor公司生產(chǎn)的Microstar 可適用于對振動非常靈敏的應用環(huán)境。
Microstar是司替林 (Stirling) 循環(huán)的水氣泵(阱),使用的是K535雙活塞司替林制冷器,可用作渦輪分子泵的冷阱或真空系統(tǒng)中的冷板。司替林制冷器原為紅外探測器制冷用,是Ricor公司的特色產(chǎn)品,由于體積小、超低振動、免維護等優(yōu)點,適合與集成電路制造設(shè)備配套,適于安裝在機柜內(nèi)狹小空間中。Microstar除具有超低振動的特點外,與目前常用的GM氦制冷機相比,尚有下列的特點和優(yōu)點:
特點 |
沒有外附的氦壓縮機組和氦氣管 |
的快速再生方法,不需要加熱器 |
壽命 >30000 小時 |
用簡單方便的溫度控制器控制溫度 |
用*的司替林制冷器冷卻冷板 |
免維護 |
控制器包括 RS-232 和分列信號輸出 |
優(yōu)點 |
緊湊易安裝,可節(jié)約支架 |
是簡單和安全的系統(tǒng)(無著火和燃燒的危險) |
簡單和可靠的制冷機構(gòu) |
使用者可在運行時調(diào)整基本溫度。溫度穩(wěn)定度可設(shè)置在± 0.25 0 K 的水平 |
冷凍循環(huán)—低輸入功率 |
低成本 |
適用于整機控制 |
在集成電路生產(chǎn)設(shè)備中,離子刻蝕進料室的真空配置常用 CTI-TORR8F 低溫冷凝泵抽氣,其抽水氣抽速為4000升/秒左右;Microstar IS200的水氣抽速可與此相當,但體積較小,價格比TORR8F便宜得多。
3.渦輪分子泵(Turbomolecular pump)與 Microstar組合泵—Turbostar
低溫冷凝泵有抽水氣的能力,因此應用廣泛; 而分子泵的主要優(yōu)點就是不需要再生,但在抽除水氣方面,還遠遜于冷凝泵 (磁懸浮分子泵振動很小,但依然存在抽水氣能力不強的問題)。新的設(shè)想是把它們二者組合起來, 取長補短。
在設(shè)計能組合分子泵工作的深冷水氣泵(阱)時,關(guān)鍵是選擇制冷溫度,在118.5K的低溫下,水的平衡蒸汽壓是10-12 托。 其它氣體仍由分子泵抽走,于是Microstar就成為合適的選擇。
Microstar 冷板溫度可在110K-140K間調(diào)節(jié).,如有特殊要求,可下調(diào)至80K。如果在耐腐蝕渦輪分子泵(Turbomolecular pump,機械式或磁懸浮軸承式)上安裝了一個Microstar,簡稱Turbostar。它彌補了某些現(xiàn)有傳統(tǒng)低溫冷凝泵的缺陷(見下表),提高了分子泵的極限真空并大大降低了抽氣時間。
性能 | 低溫冷凝泵 | Turbostar |
水蒸氣抽速 | 高 | 高 |
再生 | 經(jīng)常 | 偶爾 |
可與已有抽氣設(shè)備配套 | 否 | 是 |
能抽有毒的、腐蝕的和易爆的氣體 | 否,危險 | 是 |
有能力承受高流量過程 | 有問題 | 好 |
附加空間 | 需要 | 不需要 |
恒定的惰性氣體抽速 | 差 | 好 |
而從集成電路生產(chǎn)中應用考慮,GM低溫冷凝泵,很難達到超低振動,因此磁懸浮Turbostar是一種適合超大規(guī)模集成電路生產(chǎn)的新設(shè)備。
4. 展望應用
集成電路生產(chǎn)中使用的都是連續(xù)生產(chǎn)設(shè)備,不斷進料。在進料室下安裝水氣泵可基本避免大氣中的水氣進入工作室,避免了工作氣體和從大氣中引入的水氣形成腐蝕性酸氣。但離子刻蝕、離子注入和濺射鍍膜時,樣品均受到離子轟擊,因此吸附在試樣和部分容器上的極為微量的水氣仍會放出,還是會影響產(chǎn)品質(zhì)量,因此在工作室安裝磁懸浮渦輪分子泵和Microstar 的組合泵還是必要的。目前國外己開始了這方面的應用。
在薄膜尤其是高級光學薄膜制備方面 ,GM低溫冷凝泵得到了廣泛的應用,綜合上述的比較,組合泵的優(yōu)勢是明顯的,由于彌補了分子泵抽水氣慢的缺點,加了深冷水氣泵(阱)后的分子泵抽氣時間,在達到同樣真空度的條件下,縮短到的四分之一,極限真空度可提高一個數(shù)量級,大大提高了分子泵的使用效率,.組合泵在國外的應用逐漸廣泛,如Leybold Varian 等大公司都巳開始在有關(guān)產(chǎn)品上配套使用。 清潔真空一直得到國內(nèi)外有關(guān)專家們的重視,華中一在去世前曾關(guān)心過組合泵的研制工作.姜燮昌總工曾在上海市真空學會20週年學術(shù)報告會上作了”21世紀真空獲得技術(shù)的展望”報告,提出:”必須大力研究開發(fā)清潔,無油,耐腐蝕和高可靠的分子泵,低溫泵和不仝類型的干式真空泵,逐步實現(xiàn)我國真空獲得設(shè)備更新?lián)Q代”。
目前,國內(nèi)磁懸浮軸承分子泵尚處于研制階段.復合分子泵由于應用面廣,生產(chǎn)廠商增加很快,形成熱潮。脂潤滑復合分子泵前景看好。大抽氣量的深冷水氣泵已在諸如大型連續(xù)涂膜等設(shè)備上應用。上海和北京都有大抽氣量的深冷水氣泵的生產(chǎn)廠商。但應用于與分子泵配套使用的如Ricor生產(chǎn)的Microstar那樣的深冷水氣泵(阱),國內(nèi)尚無生產(chǎn)單位.這就需要有關(guān)專家和*的重視和支持,使這臺取冷凝泵之長,補分子泵之短的組合泵能早日問世,既能提供清潔真空又能降低能耗,提高生產(chǎn)效率。
來源:真空技術(shù)網(wǎng)
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