RLK900高分辨率XAFS/XES光譜儀

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更新時間：2024-12-05 07:08:11瀏覽次數(shù)：78次

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西安中川光電科技有限公司

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產(chǎn)品簡介

RLK900高分辨率XAFS/XES光譜儀RLK900高分辨率XAFS/XES光譜儀，是目前國際的新型XAFS/XES光譜儀

詳細介紹

RLK900高分辨率XAFS/XES光譜儀

RLK900高分辨率XAFS/XES光譜儀，是目前國際的新型XAFS/XES光譜儀。RLK900居于新原理和新結(jié)構；采用的、的SBCA晶體，實現(xiàn)X射線的單色掃描；采用小功率的X-Ray源，使研究試驗室內(nèi)就能夠方便運行。

RLK900高分辨率XAFS/XES光譜儀，可以完成XAS(X-ray Absorbtion SpectroScopy)和XES(X-ray Emmision Spectroscopy)兩種光譜的研究，能夠獲得掃描范圍5keV-12keV，分辨率優(yōu)于1eV的譜線。

RLK900高分辨率XAFS/XES光譜儀，將信號探測、掃描控制、數(shù)據(jù)顯示高度集成化，使用前只需簡單的參數(shù)設置、校準確認，即可方便進行研究試驗。

RLK900高分辨率XAFS/XES光譜儀，作為一種目前國際型的儀器，為各種材料研究分析拓展手段，用戶能夠在實驗室就能隨時開展研究，而不再受到條件限制。可廣泛應用于各種材料研究分析領域，包括納米材料、半導體材料、催化材料、生物材料、特種材料、礦產(chǎn)分析等。將成為材料研究必選設備。

v 產(chǎn)品特點(Features)

? 新原理新構造：居于新原理和新構造的X-ray光譜儀；

? 高分辨率：采用的、的SBCA晶體作為核心器件，實現(xiàn)X射線單色掃描，分辨率達到1eV；

? 高品質(zhì)能譜曲線：與同步輻射相當品質(zhì)的能譜曲線；

? 試驗室儀器：在試驗室就可完成XAFS/XES的研究，不再受到條件限制；

? 高集成性：儀器集成探測、控制、分析，軟件運行于Windows操作系統(tǒng)；

? 應用面廣：納米材料、半導體材料、催化材料、生物材料、特種材料、礦產(chǎn)分析等各種材料研

究分析領域

v 技術指標(Specification)

型號Model	RLK900 高分辨率XAFS/XES光譜儀
原理Principle	SBCA晶體、Roland圓、X-ray單色掃描
能量范圍 Energy Range	5KeV-12KeV
能量分辨率 Energy Resolution	0.5-1.5eV
工作模式 Working Mode	XAS/XES
布拉格角范圍 Bragg Angle Range	65°-85°
X射線源 X-ray Tube	10W（Max）50KV@200uA(X 光點直徑～0.5mm)
光學系統(tǒng) Optics System	SBCA單色分光、Roland圓Bragg掃描(Rolａnd 直徑500mm)
探測器Detector	半導體電制冷SDD
通訊接口 Communication interface	RS-232
工作電壓 Power Supply	220VAC
工作溫度 Temperature	-10℃ ~ +50℃
外形尺寸Dimension	1200(L)1200(W)1100(H)
重量Weight	350Kg
軟件Software	RLK900專用軟件(WindowsXP/Windows 7)