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鄭州科探儀器設(shè)備有限公司
鄭州科探儀器設(shè)備有限公司
KT--Z1650CVD
鄭科探
生產(chǎn)商
鄭州市
臺 38600元 99臺可售
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更新時間：2024-07-18 16:00:31瀏覽次數(shù)：98次
聯(lián)系我時，請告知來自 智能制造網(wǎng)鄭科探小型坩堝真空蒸鍍儀：KT—Z1650CVD是一款小型臺式加熱功率可控蒸發(fā)鍍膜儀，儀器雖小功能齊全，配備有電壓，電流反饋，樣品臺旋轉(zhuǎn)，樣品高度調(diào)節(jié)及電動擋板功能。通過定時調(diào)節(jié)預(yù)濺射功率及薄膜沉積功率，可對大部分金屬進(jìn)行均勻物理沉積，真空腔室為透明石英玻璃減少樣品污染，樣品臺可旋轉(zhuǎn)以獲得更均勻的薄膜，可制備各種金屬薄膜和有機物薄膜。
鄭科探小型坩堝真空蒸鍍儀：是一款小型多功能鍍膜儀，額定1800度高溫，自動樣品擋板，靶臺旋轉(zhuǎn)，觸摸屏多段控制，工藝儲存等功能。
正空蒸發(fā)鍍膜包括以下基本過程：
（1）加熱蒸發(fā)過程：包括由凝聚相轉(zhuǎn)變?yōu)闅庀嗟倪^程，每種蒸發(fā)物質(zhì)在不同的溫度有不同的飽和蒸氣壓。（2）氣態(tài)原子或分子在蒸發(fā)源與基片之間運輸，即原子或分子在環(huán)境氣氛中的飛行過程。
（3）蒸發(fā)原子或分子在基片表面張得沉積過程。即是蒸發(fā)，凝聚，成核，核生長，形成連續(xù)的膜。由于基板溫度遠(yuǎn)低于基板溫度遠(yuǎn)低于蒸發(fā)源溫度，因此，氣態(tài)分子在基片表面將發(fā)生直接由氣態(tài)到固態(tài)的相轉(zhuǎn)變過程。
鄭科探小型坩堝真空蒸鍍儀技術(shù)參數(shù)
控制方式 | 7寸人機界面 手動 自動模式切換控制 |
加熱方式 | 數(shù)字式功率調(diào)整器 |
鍍膜功能 | 0-999秒5段可變換功率及擋板位和樣品速度程序 |
功率 | ≤1200W |
輸出電壓電流 | 電壓≤12V 電流≤120A |
真空度 | 機械泵 ≤5Pa（5分鐘） 分子泵≤10^-3Pa |
擋板類型 | 電控 |
真空腔室 | 石英+不銹鋼腔體φ160mm x 160mm |
樣品臺 | 可旋轉(zhuǎn)φ62 （可安裝φ50基底） |
樣品臺轉(zhuǎn)速 | 8轉(zhuǎn)/分鐘 |
樣品蒸發(fā)源調(diào)節(jié)距離 | 70-140mm |
蒸發(fā)溫度調(diào)節(jié) | ≤1800℃ |
支持蒸發(fā)坩堝類型 | 鎢絲藍(lán) 帶坩堝鎢絲藍(lán) 鎢舟 碳繩 |
預(yù)留真空接口 | KF25抽氣口 KF16真空計接口 KF16放氣口 6mm卡套進(jìn)氣口 |
可選配擴展 | 機械真空泵（可抽真空 5分鐘＜5Pa） 數(shù)顯真空計（測量范圍大氣壓到0.1Pa） 分子泵機組（可抽真空20分鐘≤5x10-3Pa） |
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