低溫真空探針臺(tái)

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更新時(shí)間：2024-05-03 13:28:17瀏覽次數(shù)：145次

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鄭州科探儀器設(shè)備有限公司

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低溫真空探針臺(tái) 廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體工業(yè)（芯片、晶圓片、封裝器件）、MEMS、超導(dǎo)、電子學(xué)、物理學(xué)和材料學(xué)等領(lǐng)域。為了提高系統(tǒng)的實(shí)用性，系統(tǒng)還可以提供3.2K的溫度擴(kuò)展選件、振動(dòng)隔離裝置、LN2杜瓦、高放大倍數(shù)的顯微鏡、分子泵機(jī)組、熱輻射屏的溫度控制裝置、探針臂的光纖電纜、光學(xué)樣品架等選件。

詳細(xì)介紹

低溫真空探針臺(tái)是一款為晶片、器件和材料（薄膜、納米、石墨烯、電子材料、超導(dǎo)材料、鐵電材料等）提供真空和低溫測(cè)試條件下進(jìn)行非破壞性的電學(xué)表征和測(cè)量平臺(tái)。可以對(duì)材料或器件進(jìn)行電學(xué)特性測(cè)量、光電特性測(cè)量、參數(shù)測(cè)量、高阻測(cè)量、DC測(cè)量、RF測(cè)量和微波特性測(cè)量，

低溫真空探針臺(tái)廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體工業(yè)（芯片、晶圓片、封裝器件）、MEMS、超導(dǎo)、電子學(xué)、物理學(xué)和材料學(xué)等領(lǐng)域。為了提高系統(tǒng)的實(shí)用性，系統(tǒng)還可以提供3.2K的溫度擴(kuò)展選件、振動(dòng)隔離裝置、LN2杜瓦、高放大倍數(shù)的顯微鏡、分子泵機(jī)組、熱輻射屏的溫度控制裝置、探針臂的光纖電纜、光學(xué)樣品架等選件。

KT-Z1604T探針臺(tái)主要應(yīng)用于傳感器，半導(dǎo)體，光電，集成電路以及封裝的測(cè)試。廣泛應(yīng)用于復(fù)雜、高速器件的精密電氣測(cè)量的研發(fā)，旨在確保質(zhì)量及可靠性，并縮減研發(fā)時(shí)間和器件制造工藝的成本。

該探針臺(tái)的承載臺(tái)為60x60不銹鋼臺(tái)面，臺(tái)面可升溫到350℃。真空腔體設(shè)計(jì)有進(jìn)氣口和抽真空接口。探針臂為X/Y/Z三軸移動(dòng)，三個(gè)方向均可在真空環(huán)境下精密移位調(diào)節(jié)，其中X方向調(diào)節(jié)范圍：0－30mm；y方向調(diào)節(jié)范圍：0－20mm；z方向調(diào)節(jié)范圍：0－20mm；用戶可根據(jù)需要自行調(diào)節(jié)。使用時(shí)將需檢測(cè)的器件固定在加熱臺(tái)上，再微調(diào)探針支架X/Y/Z 方向行程，通過顯微鏡觀察，使探針對(duì)準(zhǔn)檢測(cè)點(diǎn)后，即可進(jìn)行檢測(cè)

真空腔體
腔體材質(zhì)	304不銹鋼
上蓋開啟	鉸鏈側(cè)開
加熱臺(tái)材質(zhì)	304不銹鋼
內(nèi)腔體尺寸	φ160x90mm
觀察窗尺寸	Φ70mm
加熱臺(tái)尺寸	φ60mm
觀察窗熱臺(tái)間距	75mm
加熱臺(tái)溫度	35-350℃
加熱臺(tái)溫控誤差	±1℃
真空度	機(jī)械泵≤10Pa 分子泵≤10-3Pa
允許正壓	≤0.1MPa
真空抽氣口	KF25真空法蘭
氣體進(jìn)氣口	3mm-6mm卡套接頭
電信號(hào)接頭	SMA轉(zhuǎn)BNC X 4
電學(xué)性能	絕緣電阻 ≥4000MΩ 介質(zhì)耐壓 ≤500V
探針數(shù)量	4探針
探針材質(zhì)	鎢針
探針尖	10μm
探針移動(dòng)平臺(tái)
X軸移動(dòng)行程	30mm ±15mm
X軸控制精度	≤0.01mm
Y軸移動(dòng)行程	13mm ±12.5mm
Y軸控制精度	≤0.01mm
Z軸移動(dòng)行程	13mm ±12.5mm
Z軸控制精度	≤0.01mm
電子顯微鏡
顯微鏡類別	物鏡
物鏡倍數(shù)	0.7-4.5倍
工作間距	90mm
相機(jī)	sony 高清
像素	1920※1080像素
圖像接口	VGA
LED可調(diào)光源	有
顯示屏	8寸
放大倍數(shù)	19-135倍,視場(chǎng)范圍15×13-2.25×1.7mm，小可分辨0.08mm

關(guān)鍵詞：顯微鏡電子顯微鏡

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