plasma離子清洗機(jī)射頻電源

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更新時(shí)間：2024-05-03 12:44:18瀏覽次數(shù)：92次

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產(chǎn)品簡介

plasma離子清洗機(jī)射頻電源，不同氣體的等離子體具有不同的化學(xué)性能，如氧氣的等離子體具有很高的氧化性，能氧化光刻膠反應(yīng)生成氣體，從而達(dá)到清洗的效果。

詳細(xì)介紹

plasma離子清洗機(jī)射頻電源，

等離子體清洗的機(jī)理，主要是依靠等離子體中活性粒子的"活化作用"達(dá)到去除物體表面污漬的目的。等離子體清洗通常包括以下過程:無機(jī)氣體被激發(fā)為等離子態(tài);氣相物質(zhì)被吸附在固體表面;被吸附基團(tuán)與固體表面分子反應(yīng)生成產(chǎn)物分子;產(chǎn)物分子解析形成氣相;反應(yīng)殘余物脫離表面。等離子體清洗技術(shù)的特點(diǎn)是不分處理對(duì)象的基材類型，均可進(jìn)行處理，對(duì)金屬、半導(dǎo)體、氧化物和大多數(shù)高分子材料，可實(shí)現(xiàn)整體和局部以及復(fù)雜結(jié)構(gòu)的清洗。

plasma離子清洗機(jī)射頻電源

供電電源	AC220V（AC110V可選)
工作電流	整機(jī)工作電流不大于3.5A(不含真空泵)
射頻電源功率	150W
射頻頻率	13.56MHz
頻率偏移量	＜0.2MHz
特性阻抗	50歐姆，手動(dòng)匹配
耦合方式	電容耦合
真空度	≤50Pa
腔體材質(zhì)	高純石英
腔體容積	2L(內(nèi)徑110MMX深度220MM)
觀察窗內(nèi)徑	Φ50
氣體流量	0—50ml/min（其他量程可選）
過程控制	過程手動(dòng)控制
清洗時(shí)間	手動(dòng)開關(guān)
開蓋方式	鉸鏈側(cè)開式法蘭
外形尺寸	450x450x360mm
重量	23Kg
真空室溫度	小于65°C
冷卻方式	強(qiáng)制風(fēng)冷
標(biāo)配	KF16真空管1米，kf16卡箍2個(gè)，不銹鋼網(wǎng)匣1個(gè)，電源線一根，說明書一本。

關(guān)鍵詞：清洗機(jī)

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