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      行業(yè)產(chǎn)品

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      涿州圣威爾UV科技發(fā)展有限公司


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      光清洗燈

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      廠商性質(zhì)經(jīng)銷商

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      聯(lián)系方式:張秀云查看聯(lián)系方式

      更新時(shí)間:2024-04-28 15:16:42瀏覽次數(shù):143次

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      經(jīng)營(yíng)模式:經(jīng)銷商

      商鋪產(chǎn)品:26條

      所在地區(qū):河北

      聯(lián)系人:張秀云 (銷售部經(jīng)理)

      產(chǎn)品簡(jiǎn)介

      主要在液晶顯示器件、半導(dǎo)體硅晶片、集成電路、高精度印制電路板、光學(xué)器件、石英晶體、密封技術(shù)、帶氧化膜的金屬材料等生產(chǎn)過程中采用光清洗方法Z為合適。主要材料:ITO玻璃、光學(xué)玻璃、鉻板、掩膜板、拋光石英晶體、硅晶片和 帶有氧化膜的金屬等進(jìn)行精密清洗處理。

      詳細(xì)介紹

      光清洗燈light clean lamp

      隨著光電子產(chǎn)業(yè)的迅猛發(fā)展,清洗工藝在光電產(chǎn)品中是*的工藝,清洗對(duì)產(chǎn)品的質(zhì)量、精度、外觀等方面的影響也越來越重要。目前國(guó)外廣泛使用的清洗方法是紫外(UV)光清洗,它一方面能避免由于使用有機(jī)溶劑造成的污染,同時(shí)能夠?qū)⑶逑催^程縮短。

      一、紫外光清洗的工作原理ultraviolet light clean"s principle of operation

      光清洗技術(shù)是利用有機(jī)化合物的光敏氧化作用達(dá)到去除黏附在材料表面上的有機(jī)物質(zhì),經(jīng)過光清洗后的材料表面可以達(dá)到"原子清潔度"。更詳盡的講:UV光源發(fā)射波長(zhǎng)為185nm254nm的光波,具有很高的能量,當(dāng)這些光子作用到被清洗物體表面時(shí),由于大多數(shù)碳?xì)浠衔飳?duì)185nm波長(zhǎng)的紫外光具有較強(qiáng)的吸收能力, 并在吸收185nm波長(zhǎng)的紫外光的能量后分解成離子、游離態(tài)原子、受激分子和中子,這就是所謂光敏作用??諝庵械难鯕夥肿釉谖樟?/span>185nm波長(zhǎng)的紫外光后也會(huì)產(chǎn)生臭氧和原子氧。臭氧對(duì)254nm波長(zhǎng)的紫外光 同樣具有強(qiáng)烈的吸收作用,臭氧又分解為原子氧和氧氣。其中原子氧是極活潑的,在它作用下,物體表面上的碳和碳?xì)浠衔锏姆纸馕锟苫铣煽蓳]發(fā)的氣體:二氧化碳和水蒸氣等逸出表面,從而*清除了黏附在物體表面上的碳和有機(jī)污染物。清洗時(shí),使基板治濕性向上。玻璃基板是以滾輪方式輸送,上方裝置低壓水銀燈產(chǎn)生紫外線照射。玻璃基板所累積紫外線能量愈多,其表面水接觸愈小,成反比關(guān)系。一般STN-LCD制作過程中,需求的玻璃基板累積紫外線能量為300nj/cm2(253.7nm)以上。而彩色STN-LCD及彩色濾光片制作過程中,要求的玻璃基板累積紫外線能量為600nj/cm2(253.7nm)。在TFT-LCD制作過程中,除了低壓水銀燈產(chǎn)生臭氧清洗玻璃外,目前制程的主流是,使用Excimer Lamp,172nm波長(zhǎng)紫外線的高反應(yīng)性質(zhì)對(duì)玻璃的清洗效率更好。

      二、光清洗的特點(diǎn)light clean feature

      1、是一種摳上磾方式,可在空氣中進(jìn)行并且在清洗后不必進(jìn)行干燥。                  

      2、可*清除物體表面的碳和有機(jī)污染物。

      3、無溶劑揮發(fā)及廢棄溶劑的處理問題。

      4、保證產(chǎn)品的高可靠性和高成品率。

      5、產(chǎn)品表面清洗處理的均勻度*。

      6、由于光清洗是通過光敏、氧化反應(yīng)去除物體表面的碳和有機(jī)化合物,所以容易發(fā)生氧化的表面不宜用光清洗方法,只適對(duì)表面污垢清洗、不適對(duì)污垢量較多,無機(jī)類污垢清洗。

      三、光清洗的技術(shù)應(yīng)用范圍light clean technology"s range of application

      主要在液晶顯示器件、半導(dǎo)體硅晶片、集成電路、高精度印制電路板、光學(xué)器件、石英晶體、密封技術(shù)、帶氧化膜的金屬材料等生產(chǎn)過程中采用光清洗方法zui為合適。

      主要材料:ITO玻璃、光學(xué)玻璃、鉻板、掩膜板、拋光石英晶體、硅晶片和 帶有氧化膜的金屬等進(jìn)行精密清洗處理。

      可以去除污垢:有機(jī)性污垢、人體皮脂、化妝品油脂、樹脂添加劑及聚酰亞胺、石蠟、松香、潤(rùn)滑油、殘余的光刻膠等。

      UV光源在LCD工藝中又具有UV改質(zhì)(紫外光表面質(zhì)變)的特點(diǎn),目前在液晶顯示器STN的生產(chǎn)過程中,主要是用在膜處理技術(shù)上,對(duì)于改善膜與膜之間的密接是非常有效的,如ITO膜與感光膠膜層,TOP涂層與PI涂層等等。另在研究部門又可用來UV改性塑料材料產(chǎn)品,用于納米技術(shù)研究,產(chǎn)品經(jīng)此UV光照射發(fā)生化學(xué)反應(yīng),使產(chǎn)品表面性質(zhì)改變。STN-LCD、彩色濾光片及OLED的制作過程中,有些制程設(shè)備相當(dāng)雷同,差別在于制造工藝要求的不同。隨著線路的精細(xì)化及產(chǎn)品的彩色比,LCD產(chǎn)業(yè)對(duì)制造工藝的要求也不斷地提升,而有"工欲善其事,必先利其器"之需求,因此只有設(shè)備能力不斷地精進(jìn),才能提高生產(chǎn)的質(zhì)量與效率。

      關(guān)鍵詞:液晶顯示器 顯示器
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