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      行業(yè)產(chǎn)品

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      柯岷國際貿(mào)易(上海)有限公司


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      高性能FIB-SEM系統(tǒng) Ethos NX5000

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      產(chǎn)品型號

      品       牌

      廠商性質(zhì)其他

      所  在  地上海市

      聯(lián)系方式:宋先生查看聯(lián)系方式

      更新時間:2024-06-18 10:16:45瀏覽次數(shù):125次

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      產(chǎn)品簡介

      “Ethos"采用日立高新的核心技術(shù)--的高亮度冷場發(fā)射電子槍及新研發(fā)的電磁復(fù)合透鏡,不但可以在低加速電壓下實現(xiàn)高分辨觀察,還可以在FIB加工時實現(xiàn)實時觀察。SEM鏡筒內(nèi)標(biāo)配3個探測器,可同時觀察到二次電子信號的形貌像以及背散射電子信號的成分襯度像;可非常方便的幫助FIB找尋到納米尺度的目標(biāo)物,對其觀察以及加工分析。另外,全新設(shè)計的超大樣品倉設(shè)置了多個附件接口,可安裝EDS*1和EBSD*......

      詳細(xì)介紹

       核心理念 

      1. 搭載兩種透鏡模式的高性能SEM鏡筒

      image.png HR模式下可實現(xiàn)高分辨觀察(半內(nèi)透鏡)

      image.png FF模式下可實現(xiàn)高精度加工終點檢測(Timesharing Mode)

      2. 高通量加工

      image.png 可通過高電流密度FIB實現(xiàn)快速加工(束流100nA)

      image.png 用戶可根據(jù)自身需求設(shè)定加工步驟

      3. Micro Sampling System*3

      image.png 運用ACE技術(shù)(加工位置調(diào)整)抑制Curtaining效應(yīng)

      image.png 控制離子束的入射角度,制備厚度均勻的薄膜樣品

      4. 實現(xiàn)低損傷加工的Triple Beam System*3

      image.png 采用低加速(Ar/Xe)離子束,實現(xiàn)低損傷加工

      image.png 去除鎵污染

      5. 樣品倉與樣品臺適用于各種樣品分析

      image.png 多接口樣品倉(大小接口)

      image.png 超大防振樣品臺(150 mm□)

      *3選配


      ◆ 高性能SEM鏡筒

      Ethos搭載的SEM配有兩種透鏡模式。HR模式可將樣品置于透鏡磁場之中,實現(xiàn)樣品的高分辨觀察。FF模式可在最短10nsec內(nèi)切換FIB照射與SEM觀察。用戶可在高速幀頻下觀察SEM圖像的同時,進行FIB加工,因此,可輕松判斷截面的加工終點。NX5000采用電磁復(fù)合透鏡,即使在FF模式下也可保持高分辨觀察。

      掃描電子顯微鏡


      ◆ 高分辨SEM觀察實例

      掃描電子顯微鏡     掃描電子顯微鏡

                         Fin-FET 14 nm device                                                 3D-NAND device


      ◆ 高性能FIB鏡筒

      通過高電流密度FIB可實現(xiàn)快速加工、廣域加工、多處自動加工等

      掃描電子顯微鏡     掃描電子顯微鏡


      ◆ 分時掃描模式

      在FIB、Ar/Xe離子束照射時,可實時或分時觀察SEM圖像

      掃描電子顯微鏡

      ■ 分時掃描模式可在的位置停止加工

      ■ Cut & See模式可實現(xiàn)高分辨SEM觀察

      ■ 實時加工模式是加工時間優(yōu)先的FIB加工模式


      ◆ 采用Cut & See模式可實現(xiàn)三維重構(gòu)

      掃描電子顯微鏡

      FOV:20 μm

      Cut & See:200張

      Slice pitch:20 nm

      SEM加速電壓:1.5 kV

      固體氧化物燃料電池的燃料極(Ni-YSZ)

      樣品提供:東京大學(xué) 生產(chǎn)技術(shù)研究所

      鹿園直毅 教授


      ◆ 抑制FIB加工損傷的高質(zhì)量TEM樣品制備

      采用低加速氬離子束以及高電流密度FIB,可實現(xiàn)快速加工、廣域加工以及多處自動加工等.

      掃描電子顯微鏡

      在2kV低加速電壓下進行FIB加工時,觀察Ga+離子照射造成的樣品損傷(紅色箭頭)(圖a)

      然后,在1kV低加速電壓下進行氬離子研磨,消除FIB加工產(chǎn)生的損傷層后,可以清晰觀察到晶格像。


      Triple Beam System(氬氣/氙氣)

      掃描電子顯微鏡

      在制備極薄樣品時,必須采用廣域且低損傷的加工方法。

      Ethos采用樣品加工位置調(diào)整與低加速氬離子束精加工相結(jié)合的ACE技術(shù),可制備出高質(zhì)量的TEM薄膜樣品。

      ACE: Anti Curtaining Effect


      ◆ GUI設(shè)計進一步提升了視覺美觀和響應(yīng)速度

      掃描電子顯微鏡

      4種信號可供選擇

      ■ In-Column探測器(SED×1、BSE×2)與樣品倉SE探測器可同時采集信號

      ■ 搭載各SEM光學(xué)系統(tǒng)的Beam條件保存與讀取功能

      ■ 可根據(jù)不同觀察需求(形貌/成分),選擇的探測器

      ■ 每種探測器均可實現(xiàn)對比度、亮度等個性設(shè)置、保存與輸出


      ◆ 建立多樣化的加工模式與定序

      掃描電子顯微鏡

      登錄和輸出各種加工模式/觀察條件

      ■ 拖拽即可簡單建立加工/觀察定序

      ■ 各加工模式與程序加工均可自由編輯與登錄

      ■ 可通過輸出當(dāng)前的程序加工,簡單完成加工設(shè)置

      ■ 可通過讀取當(dāng)前的定序,大大簡化重復(fù)操作

      ■ 可通過復(fù)制并編輯定序,進一步提高擴展性與靈活性


      通過運用各種加工模式,靈活設(shè)置加工范圍

      ■ 加工模式支持矩形、圓形、三角形、平行四邊形、傾斜加工、Bit-map加工等

      ■ 應(yīng)用加工支持橫截面加工以及TEM樣品制備

      ■ Vector Scan*3可根據(jù)向量信息顯示加工范圍,完成精準(zhǔn)定位。而且,圖像(bmp)轉(zhuǎn)換成向量后,也可繼續(xù)進行樣品加工

      ■ 搭載各種離子束照射位置補償功能(漂移校正功能),可實現(xiàn)高精度加工

      *3選配


      ◆ 超大樣品倉支持各種用途

      ■ 配置支持高分辨觀察的防振樣品臺

      ■ 設(shè)置多種接口,可加裝更多的選配附件,實現(xiàn)多種樣品加工、觀察以及分析

      掃描電子顯微鏡

      掃描電子顯微鏡

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      關(guān)鍵詞:探測器

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