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      行業(yè)產(chǎn)品
      
							
						
      
						
        
							
      • 行業(yè)產(chǎn)品
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      廣東駿楠光子科技有限公司
                                
                
                
      

							
      
                        			
      
		
      
	
      
	
	
      
		
      
            
      
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      無掩膜激光直寫納米光刻機(jī)
      
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											參  考  價(jià):￥1000000 - ￥2000000
					                    /件                    
      具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
      
				
      
			
			
      
				
      
					
        
						
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							產(chǎn)品型號(hào)
							
        DALI-A/B
        
						
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							品牌
							
        其他品牌
        
						
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							廠商性質(zhì)
							
        生產(chǎn)商
        
		                
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							所在地
							
        廣州市
        
						
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      聯(lián)系方式：曹經(jīng)理查看聯(lián)系方式
      
									                                                 
      
					
      
						
      
							更新時(shí)間：2023-08-18 11:33:22瀏覽次數(shù)：2411次
						
      
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      經(jīng)營(yíng)模式：生產(chǎn)廠家
      
						
      商鋪產(chǎn)品：6條
      
						
      所在地區(qū)：廣東廣州市
      
						
      聯(lián)系人：曹經(jīng)理 （銷售經(jīng)理）
      												
					
      
				
      
			
      			
      
                                
      
                    產(chǎn)品簡(jiǎn)介
                
      
				
      
                      
      
                                                                      
      
					
      DALI是由Aresis、CENN Nano center 和 LPKF 聯(lián)合研發(fā)的高精度無掩膜納米光刻機(jī)，是一款性能穩(wěn)定，操作簡(jiǎn)單，對(duì)環(huán)境要求低，界面友好，零維護(hù)的桌面型高精度激光直寫設(shè)備。其采用的是AOD聲光調(diào)制器來控制激光進(jìn)行高精度光刻，可以實(shí)現(xiàn)優(yōu)于80nm平滑的邊緣結(jié)構(gòu)，100-150nm最小結(jié)構(gòu)間距，400nm套刻精度，是實(shí)驗(yàn)室級(jí)微納加工與器件制作專業(yè)設(shè)備。
      
				
      
				
      
                    詳細(xì)介紹
                
      
			    
      
			        
      
			            
      DALI是由Aresis、CENN  Nano  center  和  LPKF  聯(lián)合研發(fā)的高精度無掩膜納米光刻機(jī)，是一款性能穩(wěn)定，操作簡(jiǎn)單，對(duì)環(huán)境要求低，界面友好，零維護(hù)的桌面型高精度激光直寫設(shè)備。其采用的是AOD聲光調(diào)制器來控制激光進(jìn)行高精度光刻，可以實(shí)現(xiàn)優(yōu)于80nm平滑的邊緣結(jié)構(gòu)，100-150nm最小結(jié)構(gòu)間距，400nm套刻精度，是實(shí)驗(yàn)室級(jí)微納加工與器件制作專業(yè)設(shè)備。DALI憑借優(yōu)異的性能，目前已廣泛應(yīng)用到微電子、微器件、納米光學(xué)、材料科學(xué)、自旋電子學(xué)等研究領(lǐng)域。

      *的AOD技術(shù)，定位分辨率優(yōu)于0.1nm
      • A. 可以獲得任意平滑、銳利的結(jié)構(gòu)邊緣
      • 1660753138558376.jpg
      • B. 可高分辨調(diào)整特征結(jié)構(gòu)間的距離
      • 1660753321812584.jpg
      • C. 可以實(shí)現(xiàn)亞微米級(jí)精細(xì)結(jié)構(gòu)的構(gòu)建
      • 1660753355940409.jpg

      主要特點(diǎn)：
      # 最小特征結(jié)構(gòu)小于1μm
      # 針對(duì)I-line光刻膠進(jìn)行優(yōu)化（SU-8，AZ，……）
      # 超快與超高精度定位，光斑定位分辨率＜1nm
      # 可構(gòu)建高深寬比結(jié)構(gòu)（可達(dá)10:1）
      # 12nm-1μm光斑間距調(diào)節(jié)以獲得超高平滑度
      # 100-150nm最小結(jié)構(gòu)間距
      # 400nm套刻精度
      # 適用于從CAD設(shè)計(jì)到各種結(jié)構(gòu)的快捷構(gòu)建
      # 具備非平表面直寫能力
      
			        
      
			    
      
                                                				
			
      
			
      
		
      
	
      
	
    
      
		
      
			
      
				
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