低放廢液處理裝置監(jiān)控軟件設(shè)計(jì)說(shuō)明書(shū)

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產(chǎn)品簡(jiǎn)介

1、綜述1.1主要功能：低放廢液處理裝置的主要工藝組成為超濾、反滲透、連續(xù)電除鹽和電滲析，主要功能是實(shí)現(xiàn)放射性核素的去除，保證出水的放射性水平達(dá)到規(guī)定的要求，同時(shí)盡量提高濃縮倍數(shù)，減少所產(chǎn)生的放射性濃縮液的體積

詳細(xì)介紹

1、綜述
1.1 主要功能：
低放廢液處理裝置的主要工藝組成為超濾、反滲透、連續(xù)電除鹽和電滲析，主要功能是實(shí)現(xiàn)放射性核素的去除，保證出水的放射性水平達(dá)到規(guī)定的要求，同時(shí)盡量提高濃縮倍數(shù)，減少所產(chǎn)生的放射性濃縮液的體積。
低放廢液處理裝置由四個(gè)單元組成：預(yù)處理單元、反滲透處理單元、連續(xù)電除鹽處理單元和電滲析處理單元。其中，預(yù)處理單元、反滲透處理單元和連續(xù)電除鹽處理單元這3個(gè)單元可以協(xié)同運(yùn)行，也可以獨(dú)立運(yùn)行。
儀表和控制單元，包括規(guī)定的所有儀表如溫度儀表及傳感器、壓力儀表及傳感器、流量?jī)x表及傳感器、液位傳感器、電氣元件（包括電纜）及參與控制的閥門(mén)、PLC、觸摸操作屏、操作電腦以及相關(guān)的軟件。各電控設(shè)備的工作狀態(tài)顯示，液位、流量、壓力、溫度、PH和電導(dǎo)率等工藝參數(shù)的實(shí)時(shí)顯示、記錄、查詢(xún)、打印等功能。
1.2 技術(shù)特點(diǎn)：
1）、采用PLC+觸摸屏／工控機(jī)集中控制，控制方式分為手動(dòng)、自動(dòng)；
2）、UF,RO,EDI系統(tǒng)的高壓泵采用變頻恒流量控制，PID參數(shù)可根據(jù)工藝需要在線(xiàn)修
改。
3）、時(shí)間等參數(shù)可在線(xiàn)修改，操作靈活方便。
4）、工藝參數(shù)的實(shí)時(shí)、歷史曲線(xiàn)，報(bào)警記錄及數(shù)據(jù)報(bào)表可在線(xiàn)瀏覽，查詢(xún)，
打印，復(fù)制。存儲(chǔ)時(shí)間長(zhǎng)達(dá)十年。
5）、PLC與上位機(jī)采用TCP/IP協(xié)議進(jìn)行通訊。

2、意義分析
當(dāng)今世界核科學(xué)技術(shù)發(fā)展已進(jìn)入新階段,同位素和核技術(shù)的應(yīng)用更加廣泛深入，核能發(fā)電已成為解決當(dāng)前世界能源危機(jī)的重要途徑之一，很多國(guó)家已將其列為重點(diǎn)發(fā)展的能源。核能的開(kāi)發(fā)和利用給人類(lèi)帶來(lái)巨大的經(jīng)濟(jì)效益和社會(huì)效益的同時(shí)，也產(chǎn)生了大量的放射性廢物給人類(lèi)的生存環(huán)境帶來(lái)了較大的威脅。因此如何安全有效地處置放射性廢物，使其限度地與生物圈隔離已成為核工業(yè)、
核科學(xué)面臨的日益迫切的重要課題，也是影響核能持續(xù)健康發(fā)展的關(guān)鍵因素。
3軟件功能
3.1 總體介紹
本低放廢液處理裝置的HDS硬件設(shè)計(jì)設(shè)備電氣標(biāo)準(zhǔn)符合國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)。SDS軟件設(shè)計(jì)參考FDA- 21 CFR part 11以及GAMP5的要求。可提交應(yīng)用程序的輸入輸出、LOOP循環(huán)等項(xiàng)目進(jìn)行測(cè)試報(bào)告。備份應(yīng)用程序用于系統(tǒng)崩潰時(shí)的恢復(fù)。
采用PLC可編程控制器，實(shí)現(xiàn)系統(tǒng)液位聯(lián)鎖控制、電氣安全保護(hù)及全程啟?？刂?、關(guān)鍵參數(shù)時(shí)實(shí)動(dòng)態(tài)監(jiān)控并通過(guò)標(biāo)準(zhǔn)通訊接口可傳輸至控制上位計(jì)算機(jī)。進(jìn)行純化水系統(tǒng)動(dòng)態(tài)數(shù)據(jù)監(jiān)視、故障記錄及歷史趨勢(shì)分析。系統(tǒng)除具備完善的自控功能外，另有手動(dòng)操作功能，以供調(diào)試及臨時(shí)備用。
通過(guò)觸摸屏組態(tài)軟件平臺(tái)，可將整個(gè)水系統(tǒng)工藝過(guò)程以靜態(tài)，動(dòng)態(tài)圖形，實(shí)時(shí)數(shù)據(jù)，實(shí)時(shí)曲線(xiàn)，歷史曲線(xiàn)，各種報(bào)表形象、生動(dòng)的反映出來(lái)。并可在線(xiàn)修改工藝參數(shù)設(shè)定，對(duì)設(shè)備進(jìn)行操控等。
本低放廢液處理裝置的電氣控制系統(tǒng)基本元件由SIEMENS/S7-300系列PLC、SCHNEIDER低壓電氣元件、歐姆龍繼電器、ABB變頻器等構(gòu)成。其產(chǎn)品都符合國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)，安全可靠性強(qiáng)。
全工藝系統(tǒng)采用PLC+觸摸屏的控制方式實(shí)現(xiàn)全自動(dòng)控制。由PLC完成整個(gè)工藝系統(tǒng)的邏輯聯(lián)鎖控制，觸摸屏采用適合工業(yè)現(xiàn)場(chǎng)的高可靠性一體化工控機(jī)觸摸屏，使用Windows NT/2000/XP操作系統(tǒng)，運(yùn)行目前工業(yè)界廣泛采用的FameView組態(tài)軟件，觸摸屏與PLC之間通過(guò)專(zhuān)用連接板和連接電纜相連，完成它們之間的通訊功能。
4、HMI
一、系統(tǒng)操作說(shuō)明
1、運(yùn)行
（1）、超濾系統(tǒng)
?過(guò)濾
過(guò)程描述：原水經(jīng)超濾加壓泵P01進(jìn)入超濾膜元件，由膜元件側(cè)端出水口至RO原水箱，過(guò)濾時(shí)間可調(diào)。
?反洗
過(guò)程描述：產(chǎn)水經(jīng)超濾加壓泵進(jìn)入膜元件，由膜元側(cè)端產(chǎn)水口進(jìn)入膜元件，反洗污水排放至吸附前水箱。同時(shí)，由空壓機(jī)從膜元件進(jìn)水口壓入空氣進(jìn)行氣水聯(lián)合沖洗。
?正沖
過(guò)程描述：原水經(jīng)加壓泵進(jìn)入膜元件，經(jīng)膜元件頂端濃水出口沖洗膜表面，排水至系統(tǒng)外。
?化學(xué)清洗
過(guò)程描述：開(kāi)啟清洗循環(huán)泵，使清洗藥箱中的藥液在膜元件與藥箱中循環(huán)。（2）、反滲透系統(tǒng)
過(guò)程描述：UF產(chǎn)水經(jīng)一級(jí)RO加壓泵P02進(jìn)入一級(jí)RO膜系統(tǒng)，由濃水側(cè)出，對(duì)一級(jí)反滲透膜系統(tǒng)進(jìn)行沖洗。
過(guò)程描述：UF產(chǎn)水經(jīng)一級(jí)RO加壓泵P01、濃水循環(huán)增壓泵進(jìn)入一級(jí)RO系統(tǒng)，產(chǎn)水至二級(jí)RO系統(tǒng)。
過(guò)程描述：一級(jí)RO產(chǎn)水經(jīng)二級(jí)RO高壓泵P05進(jìn)入二級(jí)RO膜系統(tǒng)，由濃水側(cè)出，對(duì)二一級(jí)反滲透膜系統(tǒng)進(jìn)行沖洗。
?二級(jí)RO過(guò)濾
過(guò)程描述：一級(jí)RO產(chǎn)水經(jīng)二級(jí)RO加壓泵P05進(jìn)入二級(jí)RO系統(tǒng)，產(chǎn)水至EDI系統(tǒng)。
（3）、EDI系統(tǒng)
?一級(jí)EDI過(guò)濾
過(guò)程描述：反滲透系統(tǒng)正常運(yùn)行的條件下，RO產(chǎn)水進(jìn)入一級(jí)EDI系統(tǒng)，再開(kāi)啟一級(jí)EDI電源，產(chǎn)水儲(chǔ)存在EDI中間水箱。
?二級(jí)EDI過(guò)濾
過(guò)程描述：一級(jí)EDI產(chǎn)水經(jīng)P06進(jìn)入二級(jí)EDI系統(tǒng)，再開(kāi)啟二級(jí)EDI電源，產(chǎn)水儲(chǔ)存在EDI產(chǎn)水箱。
（1）、系統(tǒng)登陸界面
系統(tǒng)設(shè)有三級(jí)控制權(quán)限：缺省級(jí)操作員只能進(jìn)行自動(dòng)操作；第二級(jí)操作除級(jí)操作權(quán)限外，還可以進(jìn)行手動(dòng)操作；第三級(jí)操作除第二級(jí)操作權(quán)限外，還可以進(jìn)行參數(shù)調(diào)節(jié)。

（2）、工藝參數(shù)設(shè)定

關(guān)鍵詞：溫度儀表流量?jī)x 流量?jī)x表液位傳感器電導(dǎo)率

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