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河北欣榮環(huán)保設(shè)備制造有限公司
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更新時(shí)間:2023-02-10 13:06:52瀏覽次數(shù):179次
聯(lián)系我時(shí),請(qǐng)告知來(lái)自 智能制造網(wǎng)利用高能UV光束裂解惡臭氣體中細(xì)菌的分子鍵,破壞細(xì)菌的核酸(DNA),再通過(guò)臭氧進(jìn)行氧化反應(yīng),達(dá)到脫臭及殺滅細(xì)菌的目的。
一、uv光解等離子凈化設(shè)備一體機(jī)簡(jiǎn)藝圖:
有機(jī)廢氣→高磁+紫外光++O2+光觸媒+電離→O-+O*(活性氧)O+O2+氣泡微過(guò)濾→O3→CO2+H2O(達(dá)標(biāo)排放),
二、產(chǎn)品技術(shù)原理:
一、本產(chǎn)品通過(guò)高壓電源產(chǎn)生高磁以及高壓電離吸咐,通過(guò)高磁發(fā)生器向設(shè)備內(nèi)部發(fā)射高磁使UV光紫外燈產(chǎn)生紫外線和臭氧分解惡臭氣體,改變惡臭氣體如:氨、甲胺、硫化氫、甲硫氫、甲硫醇、甲硫醚、二甲二硫、二硫化碳和苯乙烯,硫化物H2S、VOC類,苯系物、苯、甲苯、甲苯、苯乙烯、丙酮、丁酮、乙酸乙酯、甲醛、乙醛、乙酸乙酯、苯乙烯、烷烴、烯烴、炔烴、芳香烴、酚、硫化氫、硫醇、硫醚、氨、胺、吲哚、硝基、的分子鏈結(jié)構(gòu),使有機(jī)或無(wú)機(jī)高分子惡臭化合物分子鏈,在高能紫外線光束照射下,降解轉(zhuǎn)變成低分子化合物,如CO2、H2O等。
二、先利于強(qiáng)高磁對(duì)流對(duì)有機(jī)廢或無(wú)機(jī)廢氣進(jìn)行快速列解分裂打短,再利用高能高臭氧UV紫外線光束分解空氣中的氧分子產(chǎn)生游離氧,即活性氧,因游離氧所攜正負(fù)電子不平衡所以需與氧分子結(jié)合,進(jìn)而產(chǎn)生臭氧。后通過(guò)臭氧發(fā)生器制造足夠的氧離子對(duì)廢氣進(jìn)行氧化,達(dá)到讓廢氣生成二氧化碳和水的效果。
有機(jī)廢氣→對(duì)流高磁+光解+高壓電解+O2→O-+O*(活性氧)O+O2→O3→CO2+H2O(達(dá)標(biāo)排放),
臭氧對(duì)有機(jī)物具有很強(qiáng)的氧化作用,對(duì)惡臭氣體及其它刺激性異味有很好的清理效果。
三、惡臭氣體利用排風(fēng)設(shè)備輸入到本凈化設(shè)備后,凈化設(shè)備運(yùn)用高能UV紫外線光束及臭氧對(duì)惡臭氣體進(jìn)行協(xié)同分解氧化反應(yīng),使惡臭氣體物質(zhì)其降解轉(zhuǎn)化成低分子化合物、水和二氧化碳,再通過(guò)排風(fēng)管道排出室外。
四、利用高能UV光束裂解惡臭氣體中細(xì)菌的分子鍵,破壞細(xì)菌的核酸(DNA),再通過(guò)臭氧進(jìn)行氧化反應(yīng),達(dá)到脫臭及殺滅細(xì)菌的目的。
三、UV光解廢氣凈化設(shè)備的性能優(yōu)勢(shì)
?、?、除惡臭:能去除揮發(fā)性有機(jī)物(VOC)、無(wú)機(jī)物、硫化氫、氨氣、硫醇類等主要污染物,以及各種惡臭味,脫臭效率高限位可達(dá)99以上。
?、妗o(wú)需添加任何物質(zhì):只需要設(shè)置相應(yīng)的排風(fēng)管道和排風(fēng)動(dòng)力,使惡臭/工業(yè)廢氣通過(guò)本設(shè)備進(jìn)行脫臭分解凈化,無(wú)需添加任何物質(zhì)參與化學(xué)反應(yīng)。
?、?、適應(yīng)性強(qiáng):ZLDL-系列工業(yè)廢氣(工業(yè)廢氣)UV光解廢氣凈化設(shè)備可適應(yīng)高濃度,大氣量,不同工業(yè)廢氣物質(zhì)的脫臭、凈化處理,可每天24小時(shí)連續(xù)工作,運(yùn)行穩(wěn)定可靠。
㈣、運(yùn)行成本低:ZLDL-系列工業(yè)廢氣(工業(yè)廢氣)UV光解廢氣凈化設(shè)備無(wú)任何機(jī)械動(dòng)作,無(wú)噪音,無(wú)需專人管理和日常維護(hù),只需作定期檢查,本設(shè)備能耗低,設(shè)備風(fēng)阻很低<50pa,可節(jié)約大量排風(fēng)動(dòng)力能耗。
㈤、設(shè)備占地面積小,自重輕:適合于布置緊湊、場(chǎng)地狹小等特殊條件,設(shè)備占地面積<1.2m2/處理10000m3/h風(fēng)量。
?、?、材料制造:防火、防腐蝕性能高,設(shè)備性能穩(wěn)定,采用不銹鋼材質(zhì),設(shè)備使用壽命在十五年以上。
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