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鴻峰環(huán)??萍迹ㄅ_(tái)州)有限公司
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更新時(shí)間:2022-12-30 11:47:56瀏覽次數(shù):270次
聯(lián)系我時(shí),請(qǐng)告知來(lái)自 智能制造網(wǎng)工作原理:高能高臭氧UV紫外線光束照射廢氣,裂解工業(yè)廢氣如:氨、三甲胺、硫化氫、甲硫氫、甲硫醇、甲硫醚、乙酸丁酯、乙酸乙酯、二甲二硫、二硫化碳和苯乙烯,硫化物H2S、VOC類,苯、甲苯、二甲苯等
工作原理:
高能高臭氧UV紫外線光束照射廢氣,裂解工業(yè)廢氣如:氨、三甲胺、硫化氫、甲硫氫、甲硫醇、甲硫醚、乙酸丁酯、乙酸乙酯、二甲二硫、二硫化碳和苯乙烯,硫化物H2S、VOC類,苯、甲苯、二甲苯等。UV紫外線使有機(jī)或無(wú)機(jī)高分子惡臭化合物分子鏈,在高能紫外線光束照射下,降解轉(zhuǎn)變成低分子化合物,如CO2、H2O等。
上面的反應(yīng)式子中,利用高能高臭氧UV紫外線光束分解空氣中的羥基自由基(• OH)和超氧離子自由基(•O2-)都有很強(qiáng)的氧化性,無(wú)論它們?cè)跉庀噙€是在液相中,都能將一些有機(jī)或無(wú)機(jī)物質(zhì)氧化,應(yīng)游離氧所攜正負(fù)電子不平衡所以需要與氧分子結(jié)合,進(jìn)而生產(chǎn)臭氧。臭氧對(duì)有機(jī)物具有的氧化作用,對(duì)工業(yè)廢氣及其它刺激性異味有的清除效果。 利用高能UV光束裂解惡臭氣體中細(xì)菌的分子鍵,破壞細(xì)菌的核酸(DNA),再通過(guò)臭氧進(jìn)行氧化反應(yīng),達(dá)到脫臭及殺滅細(xì)菌的目的。
適用范圍:
適用于煉油廠、橡膠廠、化工廠、制藥廠、污水處理廠、垃圾轉(zhuǎn)運(yùn)站、餐廚垃圾處理廠、飼料廠、印染廠、噴涂廠等各種有污染源惡臭氣體的脫臭凈化。
技術(shù)特點(diǎn):
無(wú)毒無(wú)任何副作用,超越了傳統(tǒng)的臭氧等空氣凈化器,能在有人在場(chǎng)的環(huán)境中持續(xù)滅菌,能廣泛地截獲滅殺空氣中的各類細(xì)菌。有效消除污染有害氣體異味。
型號(hào) | 風(fēng)量(m³/h) | 設(shè)備尺寸(mm) | 功率(kw) | 燈管(組) | 備注 |
HFZUV-5K | 5000 | 1050*1380*960 | 2.4 | 16 | 設(shè)備外殼材質(zhì)不銹鋼201 |
HFZUV-5K | 5000 | 3180*1200*1200 | 3 | 20 | |
HFZUV-10K | 10000 | 1900*1380*960 | 4.8 | 32 | |
HFZUV-10K | 10000 | 3680*1200*1500 | 6 | 40 | |
HFZUV-20K | 20000 | 1900*1380*1680 | 9.6 | 64 | |
HFZUV-20K | 20000 | 3680*1900*2000 | 12 | 80 | |
HFZUV-30K | 30000 | 1900*1380*2400 | 14.4 | 96 | |
HFZUV-30K | 30000 | 4180*1900*2500 | 18 | 120 | |
HFZUV-40K | 40000 | 1900*1380*3120 | 19.2 | 128 | |
HFZUV-40K | 40000 | 4680*2000*3000 | 24 | 160 | |
HFZUV-50K | 50000 | 1900*1970*2400 | 14.4 | 96 | |
HFZUV-50K | 50000 | 5170*2400*3000 | 30 | 200 | |
HFZUV-60K | 60000 | 1900*1970*3120 | 19.2 | 128 | |
HFZUV-60K | 60000 | 5680*2400*3000 | 36 | 240 |
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