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北京科創(chuàng)鼎新真空技術(shù)有限公司
參 考 價(jià) | 面議 |
產(chǎn)品型號(hào)
品 牌
廠商性質(zhì)其他
所 在 地北京市
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更新時(shí)間:2022-11-19 12:35:00瀏覽次數(shù):431次
聯(lián)系我時(shí),請(qǐng)告知來自 智能制造網(wǎng)設(shè)備主要配置:技術(shù)指標(biāo)規(guī)格型號(hào)PHOENIXQuadroTRIVACD2
設(shè)備主要配置:技術(shù)指標(biāo)
規(guī)格型號(hào) | PHOENIX Quadro TRIVAC D2.5E |
真空模式可檢測的氦泄漏率 | 5x10-12mbar l/s |
響應(yīng)時(shí)間 | <1 s |
入口壓力 | 15 mbar |
抽氦速度ULTRA | >3.1 l/s |
可檢測的氣體 | 4He、H2、質(zhì)量數(shù)3 |
吸槍-模式可檢測的氦泄漏率 | 1x10-8mbar l/s |
吸槍SL300的氣流量 | 20-25 sccm |
測量范圍 | 12個(gè)數(shù)量級(jí) |
啟動(dòng)時(shí)間 | 110 s |
離子源 | 雙燈絲 |
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