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廣東新一辰設(shè)備有限公司

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XploRA Nano納米拉曼光譜儀

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更新時間：2023-08-13 07:55:12瀏覽次數(shù)：206次

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產(chǎn)品簡介

多樣品分析平臺宏觀、微觀和納米尺度的測量可以在同一個平臺上進(jìn)行簡單易用全自動操作，在幾分鐘內(nèi)即可開始測量，而不是幾小時！真正的共聚焦高空間分辨率，自動樣品臺，全顯微鏡可視化

詳細(xì)介紹

多樣品分析平臺

宏觀、微觀和納米尺度的測量可以在同一個平臺上進(jìn)行

簡單易用

全自動操作，在幾分鐘內(nèi)即可開始測量，而不是幾小時！

真正的共聚焦

高空間分辨率，自動樣品臺，全顯微鏡可視化。

高收集效率

頂部和側(cè)向拉曼光譜檢測都可以獲得高分辨和高通量測量同區(qū)域和針尖增強(qiáng)光譜測量（TERS和TEPL)

高光譜分辨率

高光譜分辨能力，多光柵自動切換，寬光譜范圍的拉曼和光致發(fā)光分析。

高空間分辨率

針尖增強(qiáng)的納米級光譜分辨率（優(yōu)于10nm）

豐富的光學(xué)光譜（拉曼和光致發(fā)光）

多技術(shù)/多環(huán)境

結(jié)合TERS/TEPL化學(xué)成像的多模式SPM技術(shù)包括AFM、導(dǎo)電和電學(xué)模式（cAFM、KPFM）、STM、液池和電化學(xué)環(huán)境。一個工作站和強(qiáng)大的軟件即可對兩臺儀器進(jìn)行控制，SPM和光譜儀可以同時或獨(dú)立操作。

堅(jiān)固性/穩(wěn)定性

高共振頻率AFM掃描器，遠(yuǎn)離噪音干擾！高性能表現(xiàn)，無需主動隔振系統(tǒng)。

配置

SmartSPM掃描器和基座

閉環(huán)平板掃描器： 100 µm x 100 µm x 15 µm (±10 %)

掃描器非線性：XY≤0.05 %; Z≤0.05 %

噪聲水平：XY≤0.1 nm RMS（200 Hz帶寬，電容傳感器打開）；XY≤0.02 nm RMS（100 Hz帶寬，電容傳感器關(guān)閉）；Z<0.04 nm="" rms="" （1000="">

高頻掃描器：XY≥7 kHz; Z≥ 15 kHz

X, Y, Z自動趨近：XYZ數(shù)字閉環(huán)控制，Z向馬達(dá)趨近距離18mm

樣品尺寸：40 mm x 50 mm x 15 mm

樣品定位：自動樣品臺范圍：5 mm x 5 mm

定位精度：1µm

AFM測試頭

激光波長：1300nm（光譜檢測器無干擾）

激光準(zhǔn)直：全自動懸臂—光電二極管激光準(zhǔn)直

探針通道：為外部操作和探針提供自由通道

SPM測量模式

標(biāo)準(zhǔn)模式：接觸模式、半接觸模式、非接觸模式、相位成像模式、側(cè)向力模式（LFM）、力調(diào)制模式、磁力顯微鏡模式（MFM）、開爾文探針模式（表面電勢，SKM，KPFM）、掃描電容模式、靜電力顯微鏡模式（EFM）、力曲線測量、壓電響應(yīng)模式（PFM）、納米蝕刻、納米操縱

升級模式：溶液環(huán)境接觸模式、溶液環(huán)境半接觸模式、導(dǎo)電力顯微鏡模式、STM模式、光電流成像模式、伏安特性曲線測量等

光譜模式

共聚焦拉曼、熒光和光致發(fā)光光譜和成像

針尖增強(qiáng)拉曼光譜（AFM，STM等）

針尖增強(qiáng)熒光

近場光學(xué)顯微鏡和光譜(NSOM/SNOM)

導(dǎo)電力AFM（選購）

電流范圍：100fA~10µA;三檔量程自動切換（1 nA, 100 nA 和 10 µA）

光路耦合通道

頂部和側(cè)向能夠同時使用消色差物鏡：從頂部或側(cè)向可用100X，NA0.7物鏡；可同時使用20倍和100倍

長期光譜激光穩(wěn)定對準(zhǔn)的閉環(huán)壓電物鏡掃描器：20µm x 20µm x 15µm；

分辨率：1nm

光譜儀

全自動緊湊型XploRA Plus顯微光譜儀，可獨(dú)立使用顯微拉曼光譜儀

波長范圍：75cm-1至4000 cm-1

光柵：四光柵自動切換(600, 1200, 1800 and 2400 g/mm)

自動化：全自動，軟件控制操作

檢測器

全光譜范圍CCD和EMCCD檢測器。

光源

典型波長：532nm、638nm、785nm；其它波長可根據(jù)需求提供

自動化：全自動，軟件控制操作

軟件

集成軟件包，包括全功能SPM、光譜儀和數(shù)據(jù)采集控制、光譜和SPM數(shù)據(jù)分析和處理套件，包括光譜擬合、去卷積和濾波，可選模塊包括單變量和多變量分析套件（PCA、MCR、HCA、DCA），顆粒檢測和光譜搜索功能。

典型應(yīng)用

爆炸物納米顆粒表征

石墨烯納米帶的TERS表征

光刻技術(shù)誘導(dǎo)的石墨烯損傷的納米尺度表征

本應(yīng)用報告介紹了對電子束光刻法制造的石墨烯納米帶（GNRs）的TERS表征。TERS可實(shí)現(xiàn)的化學(xué)納米尺度分辨率揭示了GNRs邊緣的無定形碳的存在，并定位了有機(jī)殘留物。TERS可以被認(rèn)為是表征納米石墨烯的一個有價值的工具，這是開發(fā)基于石墨烯的納米設(shè)備的一個重要步驟。

關(guān)鍵詞：顯微鏡工作站光譜儀光學(xué)顯微鏡拉曼光譜儀

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