共立DPM-MTSP型多項(xiàng)目水質(zhì)分析儀
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深圳市巨杰儀器設(shè)備有限公司
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| 參 考 價(jià) | 面議 |
產(chǎn)品型號(hào)DPM-MTSP
品 牌
廠商性質(zhì)其他
所 在 地深圳市
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更新時(shí)間：2023-02-22 07:47:05瀏覽次數(shù)：207次
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簡(jiǎn)單介紹： 共立DPM-MTSP型多項(xiàng)目水質(zhì)分析儀，配備了校準(zhǔn)曲線對(duì)應(yīng)于測(cè)定試劑充填試驗(yàn)79項(xiàng)濃度測(cè)量，吸光度測(cè)定，光譜測(cè)定，可以是時(shí)間的掃描共立DPM-MTSP型多項(xiàng)目水質(zhì)分析儀可同時(shí)測(cè)定4個(gè)項(xiàng)目除了水質(zhì)測(cè)定器皿(1.5mL檢水量)，10mm比色皿（正方形），半微光比色皿也可以使用
共立DPM-MTSP型多項(xiàng)目水質(zhì)分析儀
配備了校準(zhǔn)曲線對(duì)應(yīng)于測(cè)定試劑充填試驗(yàn)79項(xiàng)
濃度測(cè)量，吸光度測(cè)定，光譜測(cè)定，可以是時(shí)間的掃描
可同時(shí)測(cè)定4個(gè)項(xiàng)目
除了水質(zhì)測(cè)定器皿(1.5mL檢水量)，10mm比色皿（正方形），半微光比色皿也可以使用
可從網(wǎng)站下載標(biāo)準(zhǔn)曲線
共立DPM-MTSP型多項(xiàng)目水質(zhì)分析儀基本參數(shù)：
| 測(cè)量波長(zhǎng) | 420?680nm（推薦范圍：450?670nm） |
| 波長(zhǎng)準(zhǔn)確度 | ±3nm |
| 波長(zhǎng)分辨率 | 為15nm以下（帶寬） |
| 測(cè)光范圍 | -1.500?1.500Abs |
| 測(cè)光精度 | ±5％Abs以內(nèi)（0.5Abs, 1.0Abs） |
| 測(cè)量方法(光源) | 可見(jiàn)光譜，分光光度法（白光LED） |
| 儀器尺寸 | 185L×205W×95H ㎜ |
| 儀器重量 | 約1.1Kg |
| 電源 | AC適配器(100-240V 50/60 Hz)/6節(jié)AA電池 |
| 操作語(yǔ)言 | 日語(yǔ)、英語(yǔ) |
| 配置 | 主機(jī)、水質(zhì)測(cè)定用器皿、記憶卡、USB連接線、電源適配器、電池 |
共立DPM-MTSP型多項(xiàng)目水質(zhì)分析儀測(cè)定項(xiàng)目：
| | 測(cè)定范圍（mg/L） | 測(cè)定時(shí)間 | 試藥型式 | 備注 |
| 鋁 | 0.050～0.400 | 5分 | LR-Al | |
| 砷 | 0.20～3.00 | 30分 | DPR-As | |
| 砷(低濃度) | 0.009～0.2 | 12分 | SPK-As(D) | |
| 硼(高濃度) | 5.0～40.0 | 12分 | WAK-B(C) | |
| 硼 | 0.50～4.00 | 40分 | WAK-B | |
| 鈣 | 0.5～15.0 | 2分 | LR-Ca-B | |
| 氯化物(高濃度) | 20～500 | 3分 | DPR-Cl | |
| 氯化物 | 2～50 | 3分 | DPR-Cl | |
| 殘留氯 | 2～500 | 1分 | WAK-ClO(C) | |
| 殘留氯(游離) | 0.05～3 | 1分 | WAK-ClO?DP | |
| 總殘留氯 | 0.05～3 | 2分 | WAK-T?ClO | |
| 二氧化氯 | 0.2～6 | 0.5分 | WAK-ClO2 | |
| 亞氯酸鈉 | 2～500 | 1分 | WAK-NaClO2 | |
| 亞氯酸鈉(低濃度) | 0.1～2 | 1分 | WAK-NaClO2(D) | |
|
| 0.01～1 | 10分 | WAK-CN-2 | |
| 總 | 0.1～3 | 18分 | LR-CNT | 需總氰檢定器 |
| 總(低濃度) | 0.005～0.15 | 40分 | LR-CN-B | |
| COD | 2～10 | 10分 | LR-COD-B | |
| 色度 | 50～1000度 | 0分 | － | |
| 六價(jià)鉻 | 0.05～1.5 | 2分 | WAK-Cr6+ | |
| 六價(jià)鉻(低濃度) | 0.003 ~0.1 | 10分 | DPR-Cr6+D | |
| 總鉻 | 0.00～1.5 | 12分 | Cr-RA+WAK-Cr6+ | 需加熱器具 |
| 銅 | 0.1～5 | 1分 | WAK-Cu | |
| 銅(排水) | 0.5～5 | 3分 | WAK-CuM | |
| 陰離子界面活性劑 | 0.05～1.2 | 3分 | WA-DET | |
| 氟(游離) | 0.4～1.5 | 15分 | WAK-F | |
| 鐵 | 0.1～5. | 3分 | WAK-Fe | |
| 鐵(低濃度) | 0.05～2 | 3分 | WAK-Fe(D) | |
| 二價(jià)鐵 | 0.1～5 | 3分 | WAK-Fe2+ | |
| 二價(jià)鐵(低濃度) | 0.05～2 | 3分 | WAK-Fe2+(D) | |
| 三價(jià)鐵 | 1～50 | 1分 | WAK-Fe3+ | |
| 甲醛 | 0.2～1 | 5分 | WAK-FOR | |
| 過(guò)氧化氫(高濃度) | 1～200 | 1分 | WAK-H2O2(C) | |
| 過(guò)氧化氫 | 0.1～2.5 | 2分 | WAK-H2O2 | |
| 聯(lián)氨 | 0.03～1 | 20分 | WAK-HYD | |
| 鉀 | 1～10 | 5分 | DPR-K | |
| 消費(fèi)量 | 2～10 | 10分 | LR-COD-B | |
| 錳 | 0.5～20 | 3分 | WAK-Mn | |
| 鉬 | 5～150 | 2分 | WAK-Mo | |
| 鎳(DPM) | 0.3～10 | 5分 | WAK-Ni(D) | |
| 銨 | 0.2～5 | 10分 | WAK-NH4 | |
| 氨氮 | 0.2～4 | 10分 | WAK-NH4 | |
| 銨(低濃度) | 0.05～2 | 30分 | LR-NH4-A | |
| 氨氮(低濃度) | 0.05～1.5 | 30分 | LR-NH4-A | |
| 亞硝酸鹽(高濃度) | 3～100 | 5分 | WAK-NO2(C) | |
| 亞硝態(tài)氮(高濃度) | 1～30 | 5分 | WAK-NO2(C) | |
| 亞硝酸鹽 | 0.02～1 | 3分 | WAK-NO2 | |
| 亞硝態(tài)氮 | 0.01～0.3 | 3分 | WAK-NO2 | |
| 硝酸（高濃度）(NO2≦1) | 200～2000 | 5分 | WAK-NO3(C) | |
| 硝酸（高濃度）(NO2≦10) | 200～2000 | 10分 | NO3-RA+WAK-NO3(C) | 需加熱器具 |
| 硝態(tài)氮（高濃度）(NO2-N≦0.3) | 45～450 | 5分 | WAK-NO3(C) | |
| 硝態(tài)氮（高濃度）(NO2-N≦3) | 45～450 | 10分 | NO3-RA+WAK-NO3(C) | 需加熱器具 |
| 硝酸(NO2=0) | 1～25 | 5分 | WAK-NO3 | |
| 硝酸(NO2≦0.2) | 1～25 | 8分 | WAK-NO2+WAK-NO3 | |
| 硝酸(NO2≦5) | 1～25 | 10分 | NO3-RA+WAK-NO3 | 需加熱器具 |
| 硝態(tài)氮(NO2-N=0) | 0.2～5.8 | 5分 | WAK-NO3 | |
| 硝態(tài)氮(NO2-N≦0.06) | 0.2～5.8 | 8分 | WAK-NO2+WAK-NO3 | |
| 硝態(tài)氮(NO2-N≦1.5) | 0.2～5.8 | 10分 | NO3-RA+WAK-NO3 | 需加熱器具 |
| 油分-礦物油 | 5～60 | 15分 | WA-OIL-R | 需油分測(cè)定試藥套裝 |
| 油分-礦物油 | 5～60 | 15分 | WA-OIL-R | 需油分測(cè)定試藥套裝 |
| 土壤油分 | 400～5000mg/kg | 10分 | SOA-OIL-RR | 需土壤油分試藥套裝 |
| 鉛-SPK | 0.03～0.5 | 12分 | SPK-Pb | |
|
| 0.2～5 | 8分 | WAK-PNL | |
| 磷酸（高濃度） | 2～50 | 3分 | WAK-PO4(C) | |
| 磷酸態(tài)磷（高濃度） | 0.7～15 | 3分 | WAK-PO4(C) | |
| 磷酸 | 0.1～5 | 3分 | WAK-PO4 | |
| 磷酸態(tài)磷 | 0.03～1.5 | 3分 | WAK-PO4 | |
| 磷酸（低濃度） | 0.1～3 | 5分 | WAK-PO4(D) | |
| 磷酸態(tài)磷（低濃度） | 0.03～1 | 5分 | WAK-PO4(D) | |
| 硫化物 | 0.05～0.8 | 3分 | WAK-S | |
| 二氧化硅 | 3～60 | 8.5分 | WAK-SiO2 | |
| 二氧化硅(低濃度) | 0.3～7 | 8.5分 | WAK-SiO2(D) | |
| 硫酸鹽 | 5～100 | 3分 | DPR-SO4 | |
| 總硬度 | 10～100 | 1分 | WAK-TH | |
| 總氮 TN-2 | 0.5～7. | 60分 | TNP-N-R | 需高壓分解器 |
| 總磷 TP-2 | 0.1～2 | 60分 | TNP-P-R | 需高壓分解器 |
| 濁度 | 10～400度 | 0分 | － | |
| 濁度 | 10～100度 | 0分 | - | |
| 鋅(低濃度) | 0.02～0.4 | 6分 | WAK-Zn(D) |
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