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ChemTron Strike 20 大型旋轉(zhuǎn)蒸發(fā)儀

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產(chǎn)品簡(jiǎn)介

產(chǎn)品描述Strike20旋轉(zhuǎn)蒸發(fā)儀可應(yīng)用于工業(yè)和實(shí)驗(yàn)室，所有與蒸汽和液體接觸部件均采用硼硅玻璃或PTFE材質(zhì)，幾乎可以適用任何物料

詳細(xì)介紹

產(chǎn)品描述

Strike 20 旋轉(zhuǎn)蒸發(fā)儀可應(yīng)用于工業(yè)和實(shí)驗(yàn)室，所有與蒸汽和液體接觸部件均采用硼硅玻璃或PTFE 材質(zhì)，幾乎可以適用任何物料?？梢园岩讚]發(fā)性成分（低沸點(diǎn)）從剩余的高沸點(diǎn)物料中分離出來(lái)。真空度可以達(dá)到8mbar，加熱浴槽溫度150℃，3kw 加熱功率。

加熱浴槽
加熱槽通過(guò)一個(gè)液壓系統(tǒng)，在斷電的情況下會(huì)自動(dòng)下降，以避免被分離樣品過(guò)熱。

密封系統(tǒng)
Strike 20 的特點(diǎn)就是它的密封系統(tǒng)，采用免維護(hù)材料, 形成一個(gè)的真空密封體系，該密封系統(tǒng)不需要任何維護(hù)。

壓力和溫度
Strike 20 可以在常壓或真空條件下運(yùn)行，真空度可以達(dá)到8mbar。減少了樣品的處理時(shí)間，適用于在低蒸發(fā)溫度下提取組分。恒溫槽介質(zhì)可使用水或?qū)嵊?，溫度可達(dá)150℃；它也允許任何溶劑蒸發(fā)。加熱浴槽提供兩3kw 的電加熱器。

通過(guò)觸摸屏可對(duì)以下參數(shù)進(jìn)行測(cè)量，顯示和控制
* 加熱浴槽設(shè)置溫度和實(shí)際溫度
* 蒸汽設(shè)定溫度和實(shí)際溫度
* 蒸發(fā)瓶旋轉(zhuǎn)速度設(shè)定值和實(shí)際值
* 真空度設(shè)定值和實(shí)際值 (已標(biāo)標(biāo)配了真空控制器

應(yīng)用范圍

* 蒸餾（連續(xù)和間歇）
* 溶劑回收
* 回流反應(yīng)過(guò)程
* 組件干燥
* 化學(xué)合成
* 結(jié)晶
* 提取
* 凈化
* 研究

應(yīng)用領(lǐng)域

* 制藥
* 化學(xué)
* 化妝品
* 草本植物提取
* 餐飲
* 研究
* 石化

Measurement, display and data recording of the following Parameters:
* Set and actual temperature value of the bath
* Set and actual vapour temperature value
* Set and actual rotation speed value of the evaporation flask
* Set and actual vacuum value (vacuum controller included as 支架ard)

技術(shù)指標(biāo)

加熱浴槽
溫度范圍 ℃	室溫~150
溫度精度 ℃	±2
分辨率 ℃	0.1
溫度設(shè)置	可設(shè)置 (1℃ 增減)
溫度控制方式	PID
溫度波動(dòng)度 ℃	±3
加熱功率 kW	3
加熱器功率/ 密度	≤3W / cm2
過(guò)溫保護(hù)功能	√
溫度傳感器	PT100
液位	手動(dòng)
蒸發(fā)溫度
溫度范圍 ℃	室溫 ... 150
溫度精度 ℃	±2
分辨率 ℃	0.1
溫度傳感器	PT100
轉(zhuǎn)速
轉(zhuǎn)速范圍 Rpm	10~150
轉(zhuǎn)速精度 Rpm	±2
實(shí)際轉(zhuǎn)速顯示	√
轉(zhuǎn)速分辨率 Rpm	1
真空控制
真空范圍 mbar	8~ 常壓
真空精度 mbar	±5mbar
真空分辨率 mbar	1
實(shí)際真空值顯示	√
顯示方式	數(shù)字顯示
真空值設(shè)定	√
升降支架
開(kāi)/ 關(guān)	√
電動(dòng)	√

關(guān)鍵詞：觸摸屏真空控制器 PID 溫度傳感器

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