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      行業(yè)產(chǎn)品

      • 行業(yè)產(chǎn)品

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      當(dāng)前位置:江蘇飛思拓環(huán)??萍加邢薰?/a>>>質(zhì)譜>>賽默飛電感耦合等離子體質(zhì)譜儀 (ICP-MS)

      賽默飛電感耦合等離子體質(zhì)譜儀 (ICP-MS)

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      產(chǎn)品型號(hào)

      品       牌

      廠商性質(zhì)其他

      所  在  地

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      更新時(shí)間:2022-11-02 09:59:09瀏覽次數(shù):362次

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      產(chǎn)品簡(jiǎn)介

      采用此適用于高通量實(shí)驗(yàn)室的完整痕量元素分析解決方案可以擴(kuò)展您的分析能力。Thermo Scientific™ iCAP™ RQ ICP-MS 集按照用戶意見(jiàn)設(shè)計(jì)的硬件和軟件于一體,提高生產(chǎn)率和耐用性。操作簡(jiǎn)單且易用,可簡(jiǎn)化工作流程并實(shí)現(xiàn)“一次成功"的結(jié)果。

      詳細(xì)介紹

      概述
      操作簡(jiǎn)單保證用戶友好的操作體驗(yàn)。
      • 快速連接進(jìn)樣系統(tǒng)
      • 下拉門高度與工作臺(tái)一樣,輕松使用錐部
      • 幾何架構(gòu)可輕松與外圍設(shè)備連接
      • 直觀式平臺(tái)軟件可實(shí)現(xiàn)無(wú)縫工作流程

      在更短的時(shí)間內(nèi)完成更多的分析,提高生產(chǎn)率
      • 減少軟件和硬件培訓(xùn)
      • 可以很好地與自動(dòng)化系統(tǒng)和樣品處理系統(tǒng)兼容
      • 單次測(cè)量模式下綜合去除干擾
      • 減少偏移和操作人員的干擾
      耐用性強(qiáng)可確保較長(zhǎng)的正常運(yùn)行時(shí)間和較低維護(hù)要求
      • 完善的基質(zhì)耐受性界面
      • 配備全新的電子設(shè)備
      • 新型耐用射頻發(fā)生器
      • 熱等離子體和冷等離子體操作可靠性強(qiáng)

      去除干擾可保證數(shù)據(jù)的準(zhǔn)確性,同時(shí)我們擁有氦動(dòng)能識(shí)別 (He KED) 技術(shù)能夠在單次測(cè)定模式下檢測(cè)所有分析物。

      較之單獨(dú)使用 He KED,我們將 QCell 碰撞池/反應(yīng)池和的 Flatapole 設(shè)計(jì)結(jié)合,通過(guò)巧妙地動(dòng)態(tài)應(yīng)用低質(zhì)量截留功能 (LMCO) 可進(jìn)一步減少 BEC。

      直觀式 Thermo Scientific™ Qtegra™ Intelligent Scientific Data Solution™ (ISDS) 軟件不僅具有實(shí)現(xiàn)具挑戰(zhàn)的應(yīng)用的靈活性,還具備所有實(shí)驗(yàn)室所需的支持功能。


      技術(shù)參數(shù):

      環(huán)境要求

      溫度范圍:15-35 ℃;

      溫度變化率:< 2 °C/h;

      濕度范圍:20-80%(無(wú)冷凝)

      配置

      霧化器:硼硅玻璃, 霧化室:石英,旋流, 等離子炬:石英,可裝載,無(wú)屏蔽;

      進(jìn)樣器:石英,2 .5 mm內(nèi)徑;選項(xiàng)為:1 .02.0mm內(nèi)徑;

      采樣錐/接口: 采樣錐 Ni1.1mm孔徑;耐受高鹽基質(zhì)的接口;選項(xiàng)為:Ni錐,耐受的接口(已提供)和高靈敏度的;

      數(shù)字控制等離子體氣流:3路;

      氦碰撞池質(zhì)量流量控制MFC

      氧化物和雙電荷比率

      CeO/Ceb 2;

      Ba++/ Ba+b 3

      隨機(jī)背景(cps

      m/z 4.5b

      <1

      短期穩(wěn)定性

      2% RSD10 min

      長(zhǎng)期穩(wěn)定性

      3% RSD3 h

      同位素比率精度

      107Ag/109Ag : 0.1% RSD

      等離子體源

      等離子體炬:石英,推入式(Push-in),單片;

      平行和垂直的位置:+/- 2 mm

      采樣深度:015 mm

      RF發(fā)生器

      固態(tài)RF發(fā)生器,~27 MHz

      RF功率范圍:400W~1600W

      離子光學(xué)

      RAPID透鏡:90度離子透鏡,操作在單個(gè)固定電壓下;

      電子連接:無(wú)纜,固定位置,彈簧安裝的黃金觸點(diǎn)

      碰撞/反應(yīng)池

      標(biāo)配的MFC:純He碰撞氣;

      可選的MFC:反應(yīng)氣體混合物: O2, NH3/He, H2/He

      氣體純度:> 99.999 % ;

      氣體流速:10 L/min;

      氣體壓力:0.1 - 0.15 MPa (1 - 1.5 bar, 15 - 22.5 psi)

      四極桿質(zhì)量分析器

      場(chǎng):虛擬的雙曲面場(chǎng);

      頻率:2 MHz;

      質(zhì)量范圍:2-290 u;

      掃描速度:>3700 amu/sec,Li~U40個(gè)區(qū)間質(zhì)量;

      質(zhì)量穩(wěn)定性:< ± 0.025每天;

      豐度靈敏度:< 0.5 ppm ;

      分辨率:用戶可定義

      離子檢測(cè)系統(tǒng)

      4個(gè)數(shù)量級(jí)上同時(shí)進(jìn)行脈沖/模擬檢測(cè);

      最小駐留時(shí)間:100 µs 脈沖和模擬;

      動(dòng)態(tài)范圍:>9個(gè)數(shù)量級(jí)

      真空系統(tǒng)

      配置:三階,差分泵;

      真空泵:分流分子渦輪泵,外部后部的機(jī)械泵;

      抽真空時(shí)間:在維護(hù)后<15 min,可抽到< 1 x 10-6 mbar

      供電

      供電:200-240 V AC, 50/60 Hz 單相

      功率

      3000 VA; 有效: 2200 W

      冷卻水

      溫度: 20 ~ 30 °C

      供應(yīng)流速:> 5.5 L/min

      氬氣

      純度:> 99.996 %

      流速:24 L/min ;

      壓力:0.55 - 0.6 MPa (5.5 - 6.0 bar; 82.5 - 90 psi)

      關(guān)鍵詞:發(fā)生器 PID
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