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武漢瑞德儀科技有限公司

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Anasys nanoIR3-s 納米掃描近場光學(xué)成像系統(tǒng)

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產(chǎn)品簡介

高性能的s-SNOM和AFM成像

詳細(xì)介紹

布魯克公司是從宏觀、亞微米到納米尺度紅外光譜（nanoIR）領(lǐng)域的世界。在納米尺度下的物理和化學(xué)性質(zhì)等測量方面，我們致力于為聚合物、二維材料、材料科學(xué)、生命科學(xué)和微電子工業(yè)等多個(gè)領(lǐng)域提供創(chuàng)新的產(chǎn)品和解決方案。
Anasys 納米紅外光譜儀（nanoIR) 已被多所大學(xué)、國家實(shí)驗(yàn)室和的化學(xué)/材料公司所采用。憑借高影響力和不斷增長的研究成果，通過廣大客戶的實(shí)際應(yīng)用，納米紅外光譜儀表現(xiàn)出了良好的易用性和高效性。

性能的散射式 -SNOM 和 AFM 成像系統(tǒng)

nanoIR3-s系統(tǒng)將散射式近場光學(xué)顯微鏡（s-SNOM）和納米紅外光譜儀（AFM-IR）集成于一臺原子力顯微鏡（AFM）中，所有功能可在一個(gè)測量平臺上實(shí)現(xiàn)。nanoIR3-s系統(tǒng)建立在Anasys的既有技術(shù)之上，并在基于AFM的納米光學(xué)表征領(lǐng)域中具有地位，它提供了納米級的紅外光譜分析，化學(xué)成像和具有10 nm空間分辨率的光學(xué)特性成像功能。該系統(tǒng)還支持納米級分辨率的AFM形貌成像和材料物理性質(zhì)成像功能，使其成為用于材料科學(xué)應(yīng)用領(lǐng)域相關(guān)研究的理想選擇。

nanoIR3-s系統(tǒng)的主要特點(diǎn):

飛秒級寬波帶nano-FTIR光譜
互補(bǔ)的s-SNOM和AFM-IR技術(shù)
具有電學(xué)、力學(xué)和熱學(xué)測試模塊的全功能高分辨的AFM平臺

納米尺度下互補(bǔ)的成像技術(shù)

1）散射式近場光學(xué)顯微鏡（s-SNOM）

s-SNOM 應(yīng)用技術(shù)進(jìn)行近場振幅和相位測量，測量過程中可以將探針定位在樣品上的固定位置，并改變光源的波長以提供近場光譜。s-SNOM 的點(diǎn)光譜成像是一項(xiàng)技術(shù)，由連續(xù)QCL激光器提供近場光譜、近場振幅和相位成像。

2）輕敲模式 AFM-IR

輕敲模式 AFM-IR 利用輕敲模式 AFM 作為傳感機(jī)構(gòu)，測量樣品表面的光熱膨脹分布。具體來說，輕敲模式AFM-IR 可以利用輕敲模式下探針懸臂不同的諧振模式來測量光熱膨脹。輕敲模式AFM-IR可以在樣品上施加較低的 AFM 作用力，以實(shí)現(xiàn)更高的化學(xué)成像空間分辨率，對于不同種類的樣品，其分辨率可達(dá)10nm或更低。

3）共振增強(qiáng)型 AFM-IR

共振增強(qiáng)型 AFM-IR 技術(shù)是利用寬帶、脈沖、可調(diào)諧的中紅外激光器自上而下照射樣品實(shí)現(xiàn)的，脈沖激光被樣品選擇性地吸收，引起快速和瞬時(shí)的局部膨脹，并通過AFM 探針的機(jī)械偏轉(zhuǎn)來檢測，得到的紅外吸收光譜可與傅里葉紅外光譜（FTIR）直接對應(yīng)解讀，并可根據(jù)現(xiàn)有的紅外光譜數(shù)據(jù)庫進(jìn)行檢索。

4）力學(xué)性質(zhì)成像，納米熱學(xué)分析和電學(xué)AFM模式

nanoIR3-s還可以提供以洛倫茲接觸共振技術(shù)（LCR）測量AFM懸臂梁的接觸共振頻率，從而繪制樣品的力學(xué)性質(zhì)分布圖。nanoIR3-s 還可以通過納米熱學(xué)分析技術(shù)（nanoTA）在納米空間分辨率下定量測量樣品的熱熔點(diǎn)，同時(shí)對樣品微區(qū)進(jìn)行熱性質(zhì)成像（SThM）。此外，nanoIR3-s 還提供了表面電勢測量模塊（KPFM）和導(dǎo)電原子力測量模塊（CAFM）。

Modes
化學(xué)成像模式	輕敲模式AFM-IR; 快速光譜(AFM-IR); 快速成像 (AFM-IR); 全像素三維成像模式;近場光學(xué)模式
AFM模式	標(biāo)準(zhǔn)工作模式:Contact; Tapping; Force Curve; Lateral Force 可選工作模式: NanoTA; SThM; LCR; CAFM; KPFM
主要可選激光器
POINTspectra QCL Laser	6 or 4 chip continuous wave/pulsed with 950-1900cm-1 range for s-SNOM and AFM-IR
Single/Multiple Chip QCL Laser	Single or multi-chip continuous wave/pulsed with different spectral ranges for s-SNOM
CO2 Laser	For use with s-SNOM
Visible 632.8 nm HeNe Laser	10 mw and optics package for integration into nanoIR3-s
1550 nm NIR Diode Laser	5 mw and optics package for integration into nanoIR3-s
AFM 主要技術(shù)參數(shù)
Z方向噪音水平	<75pm RMS
XY 掃描范圍	50 μm x 50 μm
Z 掃描范圍	>6 μm
掃描分辨率	≤1024 x 1024 pixels
XY 移動(dòng)樣品臺	Flexure with capacitive closed-loop sensing
針定位準(zhǔn)確性	±10 nm
樣品尺寸和移動(dòng)范圍
樣品尺寸	<25 mm dia max
樣品高度	<10 mm max
樣品臺移動(dòng)尺寸(XY)	8 x 8 mm motorized
樣品臺移動(dòng)尺寸(Z)	>5 mm motorized
光學(xué)顯微鏡參數(shù)
照明模式	光照明場
CCD 分辨率	1.5 μm 5MP
數(shù)字放大	3X
物鏡	10X
可視場范圍	~900 x 600 μm max; ~450 x 300 μm min

關(guān)鍵詞：紅外光譜儀光譜儀光學(xué)顯微鏡原子力顯微鏡顯微鏡

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