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      昆山友碩新材料有限公司


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      聚焦離子束掃描電子顯微鏡Crossbeam

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      更新時(shí)間:2023-01-08 09:35:56瀏覽次數(shù):324次

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      產(chǎn)品簡(jiǎn)介

      蔡司Crossbeam系列的FIB-SEM結(jié)合了場(chǎng)發(fā)射掃描電子顯微鏡(FE-SEM)出色的成像和分析性能,和新一代聚焦離子束(FIB)優(yōu)異的加工性能。無(wú)論是在科研或是工業(yè)實(shí)驗(yàn)室,您都可以在一臺(tái)設(shè)備上實(shí)現(xiàn)多用戶(hù)同時(shí)操作。得益于蔡司Crossbeam系列模塊化的平臺(tái)設(shè)計(jì)理念,您可以根據(jù)自己需求的變化隨時(shí)升級(jí)儀器系統(tǒng)。在加工、成像或是實(shí)現(xiàn)三維重構(gòu)分析時(shí),Crosssbeam系列都將大大提升您的應(yīng)用體驗(yàn)。

      詳細(xì)介紹

        蔡司Crossbeam系列的FIB-SEM結(jié)合了場(chǎng)發(fā)射掃描電子顯微鏡(FE-SEM)出色的成像和分析性能,和新一代聚焦離子束(FIB)優(yōu)異的加工性能。無(wú)論是在科研或是工業(yè)實(shí)驗(yàn)室,您都可以在一臺(tái)設(shè)備上實(shí)現(xiàn)多用戶(hù)同時(shí)操作。得益于蔡司Crossbeam系列模塊化的平臺(tái)設(shè)計(jì)理念,您可以根據(jù)自己需求的變化隨時(shí)升級(jí)儀器系統(tǒng)。在加工、成像或是實(shí)現(xiàn)三維重構(gòu)分析時(shí),Crosssbeam系列都將大大提升您的應(yīng)用體驗(yàn)。

        使用Gemini電子光學(xué)系統(tǒng),您可以從高分辨率SEM圖像中提取真實(shí)樣本信息

        使用新的Ion-sculptor FIB鏡筒以及全新的樣品處理方式,您可以大限度地提高樣品質(zhì)量、降低樣品損傷,同時(shí)大大加快實(shí)驗(yàn)操作過(guò)程

        使用Ion-sculptor FIB的低電壓功能,您可以制備超薄的TEM樣品,同時(shí)將非晶化損傷降到非常低

        使用Crossbeam 340的可變氣壓功能

        或使用Crossbeam 550實(shí)現(xiàn)更苛刻的表征,大倉(cāng)室甚至為您提供更多選擇

        EM樣品制備流程

        按照以下步驟,高效率、高質(zhì)量地完成制樣

        Crossbeam 為制備超薄、高質(zhì)量的TEM樣品提供了一整套解決方案,您可以高效地準(zhǔn)備樣品,并在TEM或STEM上實(shí)現(xiàn)透射成像模式的分析。

        1.自動(dòng)定位——感興趣的區(qū)域(ROI)輕松導(dǎo)航

        您可以不費(fèi)功夫地找到感興趣的區(qū)域(ROI)

        使用樣品交換室的導(dǎo)航相機(jī)對(duì)樣品進(jìn)行定位

        集成的用戶(hù)界面使得您可以輕松定位到ROI

        在SEM上獲得寬視野、無(wú)畸變的圖像

        2. 自動(dòng)制樣——從體材料開(kāi)始制備薄片樣品

        您可以通過(guò)簡(jiǎn)單的三個(gè)步驟制備樣品:ASP(自動(dòng)樣品制備)

        定義參數(shù)包括漂移修正,表面沉積以及粗切、精細(xì)切割

        FIB鏡筒的離子光學(xué)系統(tǒng)保證了工作流程具有的通量

        將參數(shù)導(dǎo)出為副本,進(jìn)而可以重復(fù)操作實(shí)現(xiàn)批量制備

        3. 輕松轉(zhuǎn)移——樣品切割、轉(zhuǎn)移機(jī)械化

        導(dǎo)入機(jī)械手,將薄片樣品焊接在機(jī)械手的針尖上

        將薄片樣品與樣品基體連接部分進(jìn)行切割,使其分離

        薄片隨后會(huì)被提取并轉(zhuǎn)移到TEM柵網(wǎng)上

        4. 樣品減薄——獲取高質(zhì)量TEM樣品至關(guān)重要的一步

        儀器在設(shè)計(jì)上允許用戶(hù)實(shí)時(shí)監(jiān)控樣品厚度,并最終達(dá)到所需求的目標(biāo)厚度

        您可以同時(shí)通過(guò)收集兩個(gè)探測(cè)器的信號(hào)判斷薄片厚度,一方面可以通過(guò)SE探測(cè)器以高重復(fù)性獲取最終厚度,另一方面可以通過(guò)Inlens SE 探測(cè)器控制表面質(zhì)量

        制備高質(zhì)量的樣品,并將非晶化損傷降到可以忽略的地步

       蔡司 Crossbeam 340蔡司 Crossbeam 550
      掃描電子束系統(tǒng)Gemini I VP 鏡筒

      Gemini II鏡筒

      可選Tandem decel

      樣品倉(cāng)尺寸和接口標(biāo)準(zhǔn)樣品倉(cāng)有18個(gè)擴(kuò)展接口標(biāo)準(zhǔn)樣品倉(cāng)有18個(gè)擴(kuò)展接口或者加大樣品倉(cāng)有22個(gè)擴(kuò)展接口
      樣品臺(tái)X/Y方向行程均為100mmX/Y方向行程:標(biāo)準(zhǔn)樣品倉(cāng)100mm加大樣品倉(cāng)153 mm 
      荷電控制

      荷電中和電子槍

      局域電荷中和器

      可變氣壓

      荷電中和電子槍

      局域電荷中和器

       

      可選選項(xiàng)

      Inlens Duo探測(cè)器可依次獲取SE/EsB圖像

      VPSE探測(cè)器

      Inlens SE 和 Inlens EsB可同時(shí)獲取SE和ESB成像

      大尺寸預(yù)真空室可傳輸8英寸晶元

      注意加大樣品倉(cāng)可同時(shí)安裝3支壓縮空氣驅(qū)動(dòng)的附件。例如 STEM, 4分割背散射 探測(cè)器和局域電荷中和器

      特點(diǎn)由于采用了可變氣壓模式,從而具有更大范圍的樣品兼容性,適用于各類(lèi)原位實(shí)驗(yàn),可依次獲取SE/EsB圖像高效的分析和成像,在各種條件下保持高分辨特性,同時(shí)獲取Inlens SE和Inlens ESB圖像


      *SE 二次電子,EsB 能量選擇背散射電子



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