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更新時間:2022-10-13 10:56:59瀏覽次數(shù):150次
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加氫除氧氮氣純化設(shè)備利用氧氣和氫氣在催化劑作用下反應(yīng)生成水的原理,在氮氣中加入氫氣,混合氣在裝有高效的催化劑的除氧器中反應(yīng),去除氧雜質(zhì),再經(jīng)過冷卻、吸附兩級干燥除水,得到高純氮氣。
品牌 其他品牌 產(chǎn)地類別 國產(chǎn) 應(yīng)用領(lǐng)域 醫(yī)療衛(wèi)生,環(huán)保,生物產(chǎn)業(yè),農(nóng)業(yè)
加氫除氧氮氣純化設(shè)備原理;
O2 + H2 ----- HO2
利用氧氣和氫氣在催化劑作用下反應(yīng)生成水的原理,在氮氣中加入氫氣,混合氣在裝有高效的催化劑的除氧器中反應(yīng),去除氧雜質(zhì),再經(jīng)過冷卻、吸附兩級干燥除水,得到高純氮氣。
加氫除氧氮氣純化設(shè)備特點:
● 純氣含過量氫,適合需還原性氣氛的應(yīng)用,氫含量可調(diào)。
● 原理簡單,結(jié)構(gòu)合理,能耗低
● 氣體指標溫度,雜質(zhì)含量低
● 可選配自動系統(tǒng),實現(xiàn)無人值守
● 應(yīng)用范圍廣,對原料氣無特殊要求
技術(shù)指標:
普通氮氣:
● 壓力—— 0.6~0.7Mpa
● 常壓露點—— 無要求
● 氧含量——≤3%
● 處理氣量——10~5000Nm3/hr
高純氮氣:
● 壓力—— 0.5~0.6Mpa(可調(diào))
● 常壓露點——≤-70℃
● 氧含量——≤3ppm
● 氫含量—— 500~2000ppm
● 氮氣量——10~5000Nm3/hr
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