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      行業(yè)產(chǎn)品
      
							
						
      
						
        
							
      • 行業(yè)產(chǎn)品
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      塔瑪薩崎電子（蘇州）有限公司
                                
                
                
      

							
      
                        			
      
		
      
	
      
	
	
      
		
      
            
      
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      日本DNK科研曝光機MA-1200光刻機
      
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      參  考  價面議  
      
					                    
      具體成交價以合同協(xié)議為準
      
				
      
				
				
      
						
      
							
      產(chǎn)品型號
      
							
      品       牌
      
		                    
      廠商性質(zhì)其他
      
		                    							
      所  在  地
      
						
      
                        
                    
      
					 							        										
      聯(lián)系方式：黃羅龍查看聯(lián)系方式
      
									                                                 
      
						
      
							
      
								更新時間：2023-07-26 11:47:24瀏覽次數(shù)：368次
							
      
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                    產(chǎn)品簡介
                
      
				
      
                      
      
                                                                      
      
					
      簡單介紹：                            產(chǎn)品信息實驗?研究用曝光裝置簡練設(shè)計的手動式整面單次曝光裝置。主要特長對應(yīng)玻璃、Wafer、膠片等基材的實驗研究用手動整面單次曝光機。也適合小批量生產(chǎn)?？蛇x擇接觸曝光(軟接觸、硬接觸)和近接曝光。對應(yīng)*大尺寸為500mm×500mm的基板。根據(jù)用途和基板尺寸,配置有*佳組合的光學系統(tǒng)。其中包括:超高壓水銀燈(500W?1kW?2kW?3.5kW)、各種光學鏡、特殊鏡頭、聚光鏡等。
      
				
      
				
      
                    詳細介紹
                
      
			    
      
			        
      
			                     
                   詳情介紹：         
               
                   
       光刻機介紹 
       
       曝光裝置  MA-1200 基板追大尺寸 200 x 200mm ?4″ ～ ?6″   
       
       光源 超高壓水銀燈 ：500W or 1kW  
       
       曝光裝置 MA-1400  基板追大尺寸400 x 400mm  
       
       光源 超高壓水銀燈 ：2kW or 3.5kW  
       
       LED,LN曝光裝置MA-4000 圓晶尺寸?2～4″或者?4～6″  
       
       光源 超高壓汞燈：500W 或 1kW  
       
       ?200mm/?150 mm 對應(yīng)曝光裝置MA-4301M   材料SI 玻璃， 對齊精度自動對齊：+/- 1 μm（
       峰值搜索）        
       
       ?300mm對應(yīng)曝光裝置MA-5301ML  光源超高壓汞燈：3.5kW  ?200mm規(guī)格也可對應(yīng)  
       
       マスクレス露光裝置MX-1201 曝光掃描速度43.94mm/s  有效曝光區(qū)域200 x 200 追大曝光量（※3）245/70/245+70
       マスクレス露光裝置MX-1201E  曝光掃描速度22.5mm/s  有效曝光區(qū)域200 x 200 追大曝光量（※3）460/70135        
       
       マスクレス露光裝置MX-1205  曝光掃描速度9/4.5mm/s  有效曝光區(qū)域100 x 100 追大曝光量（※3）100/50  
       
         
       
       主要規(guī)格 
       
       
       
       
         
       MA-1200、MA-1400 
              
       
       
        
        
            MA-1200   MA-1400  
               
        基板尺寸   追大 200 x 200mm ?4″ ～ ?6″   追大 400 x 400mm  
       
        光源   超高壓水銀燈 ：500W or 1kW   超高壓水銀燈 ：2kW or 3.5kW  
       
        外觀尺寸及重量   本體尺寸   W1240 x D1100 x H1725 mm   W1440 x D1590 x H1882 mm  
       
        本體重量   400kg   400kg(包含無塵機房)  
       
        光源重量   －   250kg  
       
        選購項   無塵機房、背面對位、硬接觸(真空密著式)、自動對位、對應(yīng)破碎基板等特殊尺寸(需商洽)。  
              
       
        
       ※基板尺寸和水銀燈瓦數(shù)及特殊規(guī)格可商洽 
              
       
       
       
       
               
       
       
       
         
       
         
               
           
			        
      
			    
      
                                                				
			
      
			
      
		
      
	
      
	
    
      
		
      
			
      
				
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