日本DNK科研曝光機(jī)MEMS用光刻機(jī)

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更新時(shí)間：2023-07-16 13:18:57瀏覽次數(shù)：379次

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產(chǎn)品分類 品牌分類

  SIBATA柴田

分析機(jī)器
  OTSUKA大冢電子

量子點(diǎn)評系統(tǒng)

膜厚儀

分光計(jì)測機(jī)器

分光光度計(jì)

分析儀器
  KANETEC強(qiáng)力

真空吸盤

磁鐵工具

支架
  大冢電子
  SAKURAI櫻井

檢查設(shè)備/多任務(wù)機(jī)/周邊設(shè)備
  NEWKON新光

試驗(yàn)機(jī)
  IMV艾目微

振動(dòng)儀
  TANDD

溫濕度計(jì)
  ITOH伊藤

篩分機(jī)器/監(jiān)種

密度計(jì)
  SOMA相馬
  SONIC索尼克

三維超聲波風(fēng)速儀

漁網(wǎng)探測器
  SANKO山高

水分計(jì)

撿針器
  kotohira琴平工業(yè)

煙霧收集器

鞋底清潔裝置
  Marktec碼科泰克。

熒光滲透探傷儀
  marktec碼科泰克

UV探傷儀

滲透檢測設(shè)備

磁粉探測器
  Tokyokoden東京光電

火焰光度計(jì)
  TSUBOSAKA壺坂

照度計(jì) 光量計(jì)
  DNK科研

光刻機(jī) 曝光機(jī)
  MIKASA旋轉(zhuǎn)涂布機(jī)

曝光機(jī)
  PISCO匹斯克

空氣罐

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塔瑪薩崎電子（蘇州）有限公司

經(jīng)營模式：其他

商鋪產(chǎn)品：134條

所在地區(qū)：

聯(lián)系人：黃羅龍

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產(chǎn)品簡介

簡單介紹：主要特長采用獨(dú)自的鏡面?鏡頭光學(xué)系統(tǒng),實(shí)現(xiàn)**均勻的照射。配備有可設(shè)定非接觸?面內(nèi)均一間隙的間隙傳感器和對應(yīng)多層曝光的顯微鏡、X?Y?θ軸對位臺的對位系統(tǒng)。采用Moving UV mask法(使用Piezo Positioning Stage,使掩膜在曝光中微細(xì)移動(dòng))能夠控制厚膜光刻膠的側(cè)壁傾斜角度,形成三維微細(xì)構(gòu)造體。

詳細(xì)介紹

詳情介紹：

光刻機(jī)介紹

曝光裝置 MA-1200 基板追大尺寸 200 x 200mm ?4″ ～ ?6″

光源超高壓水銀燈：500W or 1kW

曝光裝置 MA-1400 基板追大尺寸400 x 400mm

光源超高壓水銀燈：2kW or 3.5kW

LED,LN曝光裝置MA-4000 圓晶尺寸?2～4″或者?4～6″

光源超高壓汞燈：500W 或 1kW

?200mm/?150 mm 對應(yīng)曝光裝置MA-4301M 材料SI 玻璃， 對齊精度自動(dòng)對齊：+/- 1 μm（
峰值搜索）

?300mm對應(yīng)曝光裝置MA-5301ML 光源超高壓汞燈：3.5kW ?200mm規(guī)格也可對應(yīng)

マスクレス露光裝置MX-1201 曝光掃描速度43.94mm/s 有效曝光區(qū)域200 x 200 追大曝光量（※3）245/70/245+70
マスクレス露光裝置MX-1201E 曝光掃描速度22.5mm/s 有效曝光區(qū)域200 x 200 追大曝光量（※3）460/70135

マスクレス露光裝置MX-1205 曝光掃描速度9/4.5mm/s 有效曝光區(qū)域100 x 100 追大曝光量（※3）100/50

主要規(guī)格

		MUM系列
掩膜尺寸		Max 9″ x 9″ x t3.0 mm
基板尺寸		Max Φ8″(Wafer)
光源		超高壓水銀燈：500W or 1kW
外觀尺寸及重量	本體尺寸	W2120 x D1305 x H1850 mm
外觀尺寸及重量	本體重量	640kg