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行業(yè)產(chǎn)品
上海瓦克儀器有限公司
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產(chǎn)品型號(hào)GD Profiler 2
品 牌
廠商性質(zhì)其他
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更新時(shí)間:2022-10-11 09:31:29瀏覽次數(shù):233次
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解密鍍層工藝、解析鍍層結(jié)構(gòu)輝光放電光譜儀是解密鍍層工藝、解析鍍層結(jié)構(gòu)的強(qiáng)有力手段,可以通過(guò)元素變化獲得鍍層結(jié)構(gòu)、層間擴(kuò)散、元素富集、表面處理、鍍層均一性等信息,從而改善工藝條件等
解密鍍層工藝、解析鍍層結(jié)構(gòu)
輝光放電光譜儀是解密鍍層工藝、解析鍍層結(jié)構(gòu)的強(qiáng)有力手段,可以通過(guò)元素變化獲得鍍層結(jié)構(gòu)、層間擴(kuò)散、元素富集、表面處理、鍍層均一性等信息,從而改善工藝條件等。主要應(yīng)用行業(yè)有金屬冶金、半導(dǎo)體器件、LED芯片、薄膜太陽(yáng)能電池、鋰電池陰陽(yáng)、光學(xué)玻璃、核材料等。
GD-Profiler 2 作為快鍍層分析的理想工具,適合于導(dǎo)體和非導(dǎo)體復(fù)合鍍層的分析,操作簡(jiǎn)單、便于維護(hù),是鍍層材料研發(fā)、質(zhì)控的理想工具。
? 使用脈沖式射頻輝光源,可有效分析熱導(dǎo)性能差以及熱敏感的樣品。
技術(shù)參數(shù):
1、射頻發(fā)生器-標(biāo)準(zhǔn)配置、復(fù)合D級(jí)標(biāo)準(zhǔn)、穩(wěn)定性高、濺射束斑為平坦、等離子體穩(wěn)定時(shí)間短,表面信息無(wú)任何失真。
儀器原理:
輝光放電腔室內(nèi)充滿低壓氬氣,當(dāng)施加在放電兩的電壓達(dá)到一定值,超過(guò)激發(fā)氬氣所需的能量即可形成輝光放電,放電氣體離解為正電荷離子和自由電子。在電場(chǎng)的作用下,正電荷離子加速轟擊到(陰)樣品表面,產(chǎn)生陰濺射。在放電區(qū)域內(nèi),濺射的元素原子與電子相互碰撞被激化而發(fā)光。您感興趣的產(chǎn)品PRODUCTS YOU ARE INTERESTED IN
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