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      行業(yè)產(chǎn)品
      
							
						
      
						
        
							
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      青島佳鼎分析儀器有限公司
                                
                
                
      

							
      
                        			
      
		
      
	
      
	
	
      
		
      
            
      
                當(dāng)前位置：青島佳鼎分析儀器有限公司>>曝光顯影設(shè)備>>TEL CLEAN TRACK ACT8（ACT12）涂膠顯影機(jī)
            
      
			
      
				
      
					
      TEL CLEAN TRACK ACT8（ACT12）涂膠顯影機(jī)
      
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      參  考  價(jià)面議  
      
					                    
      具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
      
				
      
				
				
      
						
      
							
      產(chǎn)品型號(hào)
      
							
      品       牌
      
		                    
      廠商性質(zhì)其他
      
		                    							
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								更新時(shí)間：2023-06-18 13:42:51瀏覽次數(shù)：2873次
							
      
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                    產(chǎn)品簡(jiǎn)介
                
      
				
      
                      
      
                                                                      
      
					
      日本東京電子公司生產(chǎn)的TEL牌涂膠顯影機(jī)CLEANTRACKACT8/12，是有著良好性能和可靠性的半導(dǎo)體微電子生產(chǎn)設(shè)備,是可對(duì)應(yīng)200/300mm硅片生產(chǎn)的涂膠顯影設(shè)備
      
				
      
				
      
                    詳細(xì)介紹
                
      
			    
      
			        
      
			                                  
       日本東京電子公司生產(chǎn)的TEL牌涂膠顯影機(jī)CLEANTRACK ACT8/12，是有著良好性能和可靠性的半導(dǎo)體微電子生產(chǎn)設(shè)備,是可對(duì)應(yīng)200/300mm硅片生產(chǎn)的涂膠顯影設(shè)備。 
       
       半導(dǎo)體制造設(shè)備涂膠顯影機(jī),應(yīng)用于半導(dǎo)體制造的光刻工藝中，是感光劑(photoresist)的涂布(coat)和顯影(develop)的設(shè)備。在該設(shè)備的涂膠（coat）單元中，硅片上面的感光劑首先被涂布，后被送到曝光設(shè)備里，通過(guò)光刻機(jī)將MASK上面圖形投影到硅片上。 
       
       接下來(lái),硅片回到涂膠顯影機(jī)的顯影單元中，通過(guò)對(duì)硅片表面感光膠噴涂顯影液，使被感光部分的感光劑融化，這樣wafer上就出現(xiàn)了凹凸的圖形。經(jīng)過(guò)各種工序重復(fù),最終就形成了細(xì)微而復(fù)雜的集成電路。 
       
       設(shè)備各個(gè)單元功能說(shuō)明 
       
        涂膠顯影機(jī)各單元功能說(shuō)明
              
       
       
       
       
       工藝技術(shù)指標(biāo)與要求： 
       
       涂膠膜厚均勻性：3sigma 小于 10nm 
       
       顯影條寬均勻性：（0.15μmCD 測(cè)試）3sigma 小于 10nm 
       
       腔體氨氣濃度：<1ppb（FAB 環(huán)境小于 100ppb 條件下） 
       
       CHP 熱板（如果有）：50～200℃(±0.3℃) 
       
       產(chǎn)能：60WPH  
       
       與曝光機(jī)聯(lián)機(jī)要求:需與曝光機(jī)聯(lián)機(jī)作業(yè)(inline)。 
       
       
       
                        
			        
      
			    
      
                			    
                                                				
      
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