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      行業(yè)產(chǎn)品
      
							
						
      
						
        
							
      • 行業(yè)產(chǎn)品
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      微納（香港）科技有限公司
                                
                
                
      

							
      
                        			
      
		
      
	
      
	
	
      
		
      
            
      
                當前位置：微納（香港）科技有限公司>>>>REAL RTP150型快速退火爐
            
      
			
      
				
      
					
      REAL RTP150型快速退火爐
      
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      具體成交價以合同協(xié)議為準
      
				
      
				
				
      
						
      
							
      產(chǎn)品型號
      
							
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      廠商性質(zhì)其他
      
		                    							
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      聯(lián)系方式：劉經(jīng)理查看聯(lián)系方式
      
									                                                 
      
						
      
							
      
								更新時間：2022-11-01 12:32:15瀏覽次數(shù)：294次
							
      
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      經(jīng)營模式：其他
      
						
      商鋪產(chǎn)品：9條
      
						
      所在地區(qū)：北京北京市
      
						
      聯(lián)系人：劉經(jīng)理
      												
					
      
				
      
			
      			
      
                                
      
                    產(chǎn)品簡介
                
      
				
      
                      
      
                                                                      
      
					
      REAL RTP150型快速退火爐
      
				
      
				
      
                    詳細介紹
                
      
			    
      
			        
      
			            
      ? 產(chǎn)品簡介：
        REAL RTP150型快速退火爐是韓國ULTECH公司的一款6寸片快速退火爐，采用革新的加熱技術(shù)，可實現(xiàn)真正的基底溫度測量，不需要采用傳統(tǒng)快速退火爐的溫度補償，溫度控制精確，溫度重復性高，客戶包括國際上許多半導體公司及科研團隊，是半導體制程退火工藝的理想選擇。
      ? 技術(shù)特色：
      ? 真正的基片溫度測量，無需傳統(tǒng)的溫度補償
      ? 紅外鹵素管燈加熱
      ? 極其優(yōu)異的加熱溫度精確性與均勻性
      ? 快速數(shù)字PID溫度控制
      ? 不銹鋼冷壁真空腔室
      ? 系統(tǒng)穩(wěn)定性好
      ? 結(jié)構(gòu)緊湊，小型桌面系統(tǒng)
      ? 帶觸摸屏的PC控制
      ? 兼容常壓和真空環(huán)境，真空度標準值為5×10-3Torr，采用二級分子泵真空度低至5×10-6Torr
      ? 3路氣體（MFC控制）
      ? 沒有交叉污染，沒有金屬污染
      ? 真實基底溫度測量技術(shù)介紹：


            
        如上圖，由陣列式鹵素燈輻射出熱量經(jīng)過石英窗口到達樣品表面，樣品被加熱，傳統(tǒng)的快速退火爐采用熱電偶進行測量基片溫度，由于熱電偶與基片有一定距離，測量的不是基片真實的溫度，必須進行溫度補償。
        REAL RTP150型快速退火爐采用專用的一根片狀的Real T/C KIT進行測溫，如上圖，接觸測溫儀與片狀Real T/C KIT相連，工作時片狀Real T/C KIT位于樣品上方很近的位置，陣列式鹵素燈輻射出熱量經(jīng)過石英窗口到達樣品表面，樣品被加熱，片狀Real T/C KIT同時被加熱，由于基片與Real T/C KIT很近，它們之間也會進行熱量傳遞，并很快達到熱平衡，所以片狀Real T/C KIT測量的溫度就無限接近基片真實的溫度，從而實現(xiàn)基片溫度的真實測量。
      ? 主要技術(shù)參數(shù)：
      ? 基片尺寸：6英寸
      ? 基片基座：石英針（可選配SiC涂層石墨基座）
      ? 溫度范圍：150-1250℃
      ? 加熱速率：10-150℃/S
      ? 溫度均勻性：≤±1.5% (@800℃, Silicon wafer)
       ≤±1.0% (@800℃, Substrate on SiC coated graphite susceptor)
      ? 溫度控制精度：≤ ±3℃
      ? 溫度重復性：≤ ±3℃
      ? 真空度：5.0E-3 Torr / 5.0E-6 Torr
      ? 氣路供應：標準1路N2吹掃及冷卻氣路，由MFC控制（最多可選3路）
      ? 退火持續(xù)時間：≥35min@1250℃
      ? 溫度控制：快速數(shù)字PID控制
      ? 尺寸：870mm*650mm*620mm
      ? 基片類型：
      ? Silicon wafers硅片
      ? Compound semiconductor wafers化合物半導體基片
      ? GaN/Sapphire wafers for LEDs 用于LED的GaN/藍寶石基片
      ? Silicon carbide wafers碳化硅基片
      ? Poly silicon wafers for solar cells用于太陽能電池的多晶硅基片
      ? Glass substrates玻璃基片
      ? Metals金屬
      ? Polymers聚合物
      ? Graphite and silicon carbide susceptors石墨和鍍碳化硅的石墨基座
      ?  應用領域：
        離子注入/接觸退火，快速熱處理(RTP)，快速退火(RTA)，快速熱氧化(RTO)，快速熱氮化(RTN)，可在真空、惰性氣氛、氧氣、氫氣、混合氣等不同環(huán)境下使用，SiAu, SiAl, SiMo合金化，低介電材料，晶體化，致密化，太陽能電池片鍵合等。
           
			        
      
			    
      
                			    
      關(guān)鍵詞：PID  觸摸屏  熱電偶
      
                                                				
      
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