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      行業(yè)產(chǎn)品
      
							
						
      
						
        
							
      • 行業(yè)產(chǎn)品
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      太倉希德機(jī)械科技有限公司
                                
                
                
      

							
      
                        			
      
		
      
	
      
	
	
      
		
      
            
      
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      光刻膠去除劑高剪切乳化機(jī)
      
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      參  考  價面議  
      
					                    
      具體成交價以合同協(xié)議為準(zhǔn)
      
				
      
				
				
      
						
      
							
      產(chǎn)品型號XMD
      
							
      品       牌
      
		                    
      廠商性質(zhì)生產(chǎn)商
      
		                    							
      所  在  地蘇州市
      
						
      
                        
                    
      
					 							        										
      聯(lián)系方式：陸經(jīng)理查看聯(lián)系方式
      
									                                                 
      
						
      
							
      
								更新時間：2022-08-11 17:07:37瀏覽次數(shù)：343次
							
      
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                    產(chǎn)品簡介
                
      
				
      
                      
      
                                                                      
      
					
      光刻膠去除劑高剪切乳化機(jī)新的結(jié)構(gòu)設(shè)計，將膠體磨和分散機(jī)一體化的設(shè)備，膠體磨磨頭+分散盤定轉(zhuǎn)子，先研磨后分散效果更佳。
      
				
      
				
      
                    詳細(xì)介紹
                
      
			    
      
			        
      
			            
      光刻膠去除劑高剪切乳化機(jī)
      一、產(chǎn)品名稱關(guān)鍵詞：光刻膠去除劑分散機(jī)，高剪切清洗液均質(zhì)機(jī)，氧化物拋光液研磨分散機(jī)，超高速三級乳化機(jī)
      二、光刻膠去除劑
      根據(jù)光刻膠下游應(yīng)用領(lǐng)域不同，公司光刻膠去除劑包括集成電路制造用、晶圓級封裝用、LED/OLED用等系列產(chǎn)品，是用于圖形化工藝光刻膠殘留物去除的濕化學(xué)品，通過將半導(dǎo)體晶片浸入清洗液中或者利用清洗液沖洗半導(dǎo)體晶片，去除半導(dǎo)體晶片上的光刻膠殘留物。
      三、光刻膠去除技術(shù)
      隨著集成電路技術(shù)的發(fā)展，其關(guān)鍵尺寸逐漸降低到亞微米。濕法蝕刻工藝因其各向同性蝕刻特性，越來越不能滿足需求，干法蝕刻工藝應(yīng)運(yùn)而生。干法蝕刻工藝提供各向異性蝕刻形成金屬線（metal）、通孔（via）的同時，其離子束對光刻膠及鋁硅銅、鋁銅、氧化物非介電質(zhì)材質(zhì)進(jìn)行轟擊，使其表面形成高度交聯(lián)的光刻膠殘留物，同時因氬氣轟擊反濺作用，側(cè)壁富含金屬材質(zhì)。干法灰化工藝的采用，使其殘留物中含有有機(jī)、無機(jī)氧化物及其金屬化合物。這就要求光刻膠去除同時具有有機(jī)殘留物、無機(jī)殘留物以及金屬交聯(lián)殘留物去除能力。
      四、光刻膠剝離液氧化物分散問題
      在制備光刻膠去除劑中，需要加入一些無機(jī)氧化物或金屬化合物，以粉體的形式加入液中，納米的細(xì)小顆粒與液體介質(zhì)充分接觸時候，粒子相互之間的團(tuán)聚力導(dǎo)致粉體出現(xiàn)團(tuán)聚現(xiàn)象，光刻膠去除劑的技術(shù)要求，需將氧化物粉體在液相中均質(zhì)打開，分散均勻。XMD超高速研磨分散機(jī)是我公司*的主要產(chǎn)品，可很好的解聚，均質(zhì)，分散。得到更穩(wěn)定的懸浮液。
      五、XMD超高速研磨分散機(jī)的優(yōu)勢
      研磨分散機(jī)是由電動機(jī)通過皮帶傳動帶動轉(zhuǎn)齒（或稱為轉(zhuǎn)子）與相配的定齒（或稱為定子）作相對的高速旋轉(zhuǎn)，被加工物料通過本身的重量或外部壓力（可由泵產(chǎn)生）加壓產(chǎn)生向下的螺旋沖擊力，透過膠體磨定、轉(zhuǎn)齒之間的間隙（間隙可調(diào)）時受到強(qiáng)大的剪切力、摩擦力、高頻振動等物理作用，使物料被有效地乳化、分散和粉碎，達(dá)到物料超細(xì)粉碎及乳化的效果。
      研磨分散機(jī)的細(xì)化作用一般來說要強(qiáng)于均質(zhì)機(jī)，但它對物料的適應(yīng)能力較強(qiáng)（如高粘度、大顆粒），所以在很多場合下，它用于均質(zhì)機(jī)的前道或者用于高粘度的場合。 
      1、超高剪切速率，SID研磨分散機(jī)，轉(zhuǎn)速高達(dá)18000rpm，線速度為44m/s，剪切速率為約為200000 S-1。而國內(nèi)普通分散機(jī)的轉(zhuǎn)速一般為3000rpm，我們的轉(zhuǎn)速是他們的4-5倍。
      2、超細(xì)定轉(zhuǎn)子間隙，SID研磨分散機(jī)定轉(zhuǎn)子間隙一般為0.2-0.3mm，而國產(chǎn)分散設(shè)備一般為0.5-0.7mm，間隙越小研磨分散效果越好。
      3、高精密度磨頭分散盤定轉(zhuǎn)子，分散盤分為粗、中、細(xì)、超細(xì)齒。   
      4、全新的結(jié)構(gòu)設(shè)計，將膠體磨和分散機(jī)一體化的設(shè)備，膠體磨磨頭+分散盤定轉(zhuǎn)子，先研磨后分散效果更佳。
      六、高剪切研磨分散機(jī)
      研磨式分散機(jī)是由膠體磨,分散機(jī)組合而成的高科技產(chǎn)品。
      *級由具有精細(xì)度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強(qiáng)的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。
      第二級由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計也很好地滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉(zhuǎn)子（乳化頭）和批次式機(jī)器的工作頭設(shè)計的不同主要是因為在對輸送性的要求方面，特別要引起注意的是：在粗精度、中等精度、細(xì)精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是轉(zhuǎn)子齒的排列，還有一個很重要的區(qū)別是不同工作頭的幾何學(xué)特征不一樣。狹槽數(shù)、狹槽寬度以及其他幾何學(xué)特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能。根據(jù)以往的慣例，依據(jù)以前的經(jīng)驗工作頭來滿足一個具體的應(yīng)用。在大多數(shù)情況下，機(jī)器的構(gòu)造是和具體應(yīng)用相匹配的，因而它對制造出終產(chǎn)品是很重要。當(dāng)不確定一種工作頭的構(gòu)造是否滿足預(yù)期的應(yīng)用。線速度很高，剪切間隙非常小，這樣當(dāng)物料經(jīng)過的時候，形成的摩擦力就比較劇烈，結(jié)果就是通常所說的濕磨。定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形，具有精細(xì)度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強(qiáng)的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料，可以滿足不同行業(yè)的多種要求
       
      以下為型號表供參考：
      型號
      標(biāo)準(zhǔn)流量
      L/H
      輸出轉(zhuǎn)速
      rpm
      標(biāo)準(zhǔn)線速度
      m/s
      馬達(dá)功率
      KW
      進(jìn)口尺寸
      出口尺寸
      XMD2000/4
      400
      18000
      44
      4
      DN25
      DN15
      XMD2000/5
      1500
      10500
      44
      11
      DN40
      DN32
      XMD2000/10
      4000
      7200
      44
      22
      DN80
      DN65
      XMD2000/20
      10000
      4900
      44
      45
      DN80
      DN65
      XMD2000/30
      20000
      2850
      44
      90
      DN150
      DN125
      XMD2000/50
      60000
      1100
      44
      160
      DN200
      DN150
      光刻膠去除劑高剪切乳化機(jī)
      
			        
      
			    
      
                                                				
			
      
			
      
		
      
	
      
	
    
      
		
      
			
      
				
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