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訪問次數(shù):159更新時間:2023-02-23 07:02:48
等離子體增強沉積爐
CNT等離子體增強沉積爐是專業(yè)生長高質(zhì)量石墨烯、碳納米管、二維硫化鉬的專用設(shè)備,也可用用于碳化硅、金屬薄膜、陶瓷薄膜其他材料的生長,已經(jīng)廣泛應(yīng)用于航空航天、微電子、生物醫(yī)藥、納米材料等領(lǐng)域。
※產(chǎn)品結(jié)構(gòu):
等離子體增強沉積爐主要由預(yù)熱爐(用于氣體預(yù)熱、固體原料蒸發(fā))、等離子射頻發(fā)生器、高溫生長腔體、石英管、石英支架、氣路系統(tǒng)、真空系統(tǒng)、自動化控制系統(tǒng)、冷卻系統(tǒng)等組成。
1、預(yù)熱爐可以給進入真空腔體的氣體或材料提前預(yù)熱、固體原料蒸發(fā),預(yù)熱溫度范圍室溫~8 00℃(可根據(jù)工藝的實際需要進行調(diào)整);
2、等離子射頻發(fā)生器,輸出功率 5 -500W可調(diào) ,頻率:13.56 MH
3、生長腔體采用進口高純石英管,配石英支架,
4、加熱腔體采用進口陶瓷纖維加熱器,均溫區(qū)200mm、對開式結(jié)構(gòu);
5、加熱爐體配有移動滑軌,可左右移動;
6、密封法蘭均采用不銹鋼材質(zhì),配水冷套,可連續(xù)長時間工作;
7、氣路系統(tǒng)采用多路質(zhì)量流量計,配預(yù)混系統(tǒng);
8、真空系統(tǒng)采用機械泵,可選配擴散泵或分子泵機組;
9、控制系統(tǒng)采用10寸觸摸屏加西門子PLC模塊;
10、氣體種類:N2、H2、CH4、C 2H4D、 He/Ar 、C2H2、 NH3 、N2, H2、 PH3 、GeH4、 B2H6 等
11、溫度、氣體、真空、冷卻水等通過PLC控制,通過PC實時控制和顯示相關(guān)的實驗參數(shù),自動保存實驗參數(shù),也可采用手動控制;
12、系統(tǒng)采用集成化設(shè)計,控制系統(tǒng)、混氣罐、質(zhì)量流量計等均內(nèi)置在箱體內(nèi)部,占地面積小。整體安裝四個可移動輪子,方便整體移動。
參數(shù)名稱 | 單 位 | 型 號 | ||||||||
PECVD-6-12 | PECVD-8-12 | PECVD-10-12 | PECVD-15-12 | PECVD-200-12 | ||||||
額定功率 | KW | 5 | 5 | 5 | 9 | 12 | ||||
額定電壓 | V | 220 | 380 | |||||||
工作溫度 | ℃ | ≤1100℃ | ||||||||
冷態(tài)真空度 | Pa | 真空度:10pa (標配機械泵) | ||||||||
可選配分子泵機組 真空度可達 6x10-3pa | ||||||||||
預(yù)熱區(qū)長度 | mm | 200mm | ||||||||
預(yù)熱區(qū)溫度 | ℃ | 室溫~800℃ | ||||||||
加熱區(qū)長度 | mm | L=450mm | ||||||||
恒溫區(qū)長度 | mm | L=200mm | ||||||||
石英管尺寸 | 直徑 | Φ60 | Φ80 | Φ100 | Φ150 | 200 | ||||
長度 | L=1500(直徑和長度可根據(jù)實際需要非標訂做) | |||||||||
等離子射頻發(fā)生器 | 1、輸出功率: 5 -500W可調(diào) 2、穩(wěn)定性為:+/-1% 3、射頻電源頻率:13.56 MH 4、反向功率: 200W 5、射頻電源電子輸出口: 50 Ω, N型半導(dǎo)體 , 陰極 | |||||||||
氣路系統(tǒng) |
| 3路質(zhì)量流量計(可拓展多路) | ||||||||
爐膛材料 | V | 進口陶瓷纖維 | ||||||||
加熱元件 |
| HRE | ||||||||
升溫速率 | ℃/min | ≤30℃/min | ||||||||
控溫精度 | ℃ | ±1℃ | ||||||||
爐體移動 |
| 加熱爐配有滑軌、可左右移動 | ||||||||
外形尺寸 | 配滑軌 | 1850×600 × 1450 | 1850×600 × 1450 | 1850×600 × 1450 | 1850×650 × 1500 |
| ||||
重 量 |
| 180kg | 210kg | 260kg | 280kg | 320kg | ||||
氣路系統(tǒng) |
| 采用三路質(zhì)量流量計、精確控制氣體的流量
| ||||||||
生長腔體 |
| 采用進口高純石英管、配石英支架、方便氣體更好的流入 | ||||||||
真空系統(tǒng) |
| 配機械泵、為二維材料生長提供一個低真空環(huán)境,配手動微調(diào)閥,可保持低壓環(huán)境 | ||||||||
加熱爐體 |
| 采用進口的陶瓷纖維,提供一個高溫環(huán)境。爐體配滑軌、可移動爐體 | ||||||||
控制系統(tǒng) |
| 采用10寸觸摸屏或工控機自動控制,模塊采用西門子plc模塊,自動手動可隨意切換 | ||||||||
冷水系統(tǒng) | 選配 | 采用閉環(huán)冷卻系統(tǒng),冷卻系統(tǒng)循環(huán)壓力1.2-1.7(bar),制冷量 4200K/car/hr,出口溫度可調(diào)(5-35℃);冷凝器為翅片結(jié)構(gòu),水箱容積40L,制冷劑采用環(huán)保型。 |