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      行業(yè)產(chǎn)品

      • 行業(yè)產(chǎn)品

      重慶摩方精密科技有限公司


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      microArch RS240

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      更新時(shí)間:2021-12-30 15:39:44瀏覽次數(shù):326次

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      經(jīng)營(yíng)模式:其他

      商鋪產(chǎn)品:7條

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      產(chǎn)品簡(jiǎn)介

      microArch RS240

      詳細(xì)介紹

      微納3D精密制造之門

      nanoArchR P130 系統(tǒng)簡(jiǎn)介

      nanoArch P130是可以實(shí)現(xiàn)高精度微尺度3D打印的設(shè)備系統(tǒng),它采用的是面投影微立體光刻(PμSL:Projection Micro Stereolithography)技術(shù)。該技術(shù)使用高精密紫外光刻投影系統(tǒng),將需打印圖案投影到樹脂槽液面,在液面固化樹脂并快速微立體成型,從數(shù)字模型直接加工三維復(fù)雜的模型和樣件,完成樣品的制作。該技術(shù)具備成型效率高、打印精度高等突出優(yōu)勢(shì),被認(rèn)為是目前前景的微納加工技術(shù)之一。

      微納3D打印和

      作為微納3D打印和,在三維復(fù)雜結(jié)構(gòu)微納加工領(lǐng)域,BMF Material團(tuán)隊(duì)擁有超過(guò)二十年的科研經(jīng)驗(yàn),針對(duì)客戶在項(xiàng)目研究中可能出現(xiàn)的工藝和材料難題,我們將持續(xù)提供簡(jiǎn)易高效的技術(shù)支持方案。

      3D打印系統(tǒng)

      nanoArch P130是3D打印系統(tǒng),擁有2μm的超高打印精度和5μm的超低打印層厚,從而實(shí)現(xiàn)超高精度的樣件制作,非常適合高校和研究機(jī)構(gòu)用于科學(xué)研究及應(yīng)用創(chuàng)新。
      3D打印系統(tǒng)
      3D打印系統(tǒng)

      3D打印系統(tǒng)

      nanoArch P130是3D打印系統(tǒng),擁有2μm的超高打印精度和5μm的超低打印層厚,從而實(shí)現(xiàn)超高精度的樣件制作,非常適合高校和研究機(jī)構(gòu)用于科學(xué)研究及應(yīng)用創(chuàng)新。

      nanoArchR P130 系統(tǒng)性能

      光源

      UV-LED(405nm)

      打印材料

      光敏樹脂

      光學(xué)精度

      2μm

      XY打印精度

      2μm~10μm

      打印層厚

      5μm~20μm

      打印樣品尺寸

      3.84mm(L)×2.16mm(W)×10mm(H)

      打印文件格式

      STL

      系統(tǒng)外形尺寸

      1720mm(L)×750mm(W)×1820(H)mm3

      重量

      650kg

      電氣要求

      200~240V AC,50/60HZ,3KW

      其他要求

      部分工藝可選配加速模塊及涂層模塊

      設(shè)備功率

      2000W

      注:①、樣品高度典型2mm,10mm

      微納制造 精密必現(xiàn)

      nanoArch P130是可以實(shí)現(xiàn)高精度微尺度3D打印的設(shè)備系統(tǒng),它采用的是面投影微立體光刻技術(shù)(PμSL:Projection Micro Stereolithography)
      微納制造 精密必現(xiàn)
      微納制造 精密必現(xiàn)

      微納制造 精密必現(xiàn)

      nanoArch P130是可以實(shí)現(xiàn)高精度微尺度3D打印的設(shè)備系統(tǒng),它采用的是面投影微立體光刻技術(shù)(PμSL:Projection Micro Stereolithography)

      打印材料

      高強(qiáng)度材料(GR/HTL)

      非常適合高強(qiáng)度產(chǎn)品快速原型
      (prototype)打印和制造,強(qiáng)度接近工程材料PC。

      韌性材料(HEK/HD/UTL)

      性能類似ABS材料,適合有卡扣等有裝配關(guān)系的原型結(jié)構(gòu)件加工和測(cè)試。

      耐高溫材料(HTL)

      熱變形溫度142℃(@0.45MPa),適用于高溫環(huán)境下使用,例如科研高溫消毒等應(yīng)用。

      生物相容性材料(BIO)

      通過(guò)了生物相容性認(rèn)證,適用于食品、牙科和科研等行業(yè)。

      打印材料

      高強(qiáng)度材料(GR/HTL)

      非常適合高強(qiáng)度產(chǎn)品快速原型
      (prototype)打印和制造,強(qiáng)度接近工程材料PC。

      韌性材料(HEK/HD/UTL)

      性能類似ABS材料,適合有卡扣等有裝配關(guān)系的原型結(jié)構(gòu)件加工和測(cè)試。

      耐高溫材料(HTL)

      熱變形溫度142℃(@0.45MPa),適用于高溫環(huán)境下使用,例如科研高溫消毒等應(yīng)用。

      生物相容性材料(BIO)

      通過(guò)了生物相容性認(rèn)證,適用于食品、牙科和科研等行業(yè)。

      系統(tǒng)特點(diǎn)

      高精度
      (XY打印精度高達(dá)2μm)

      低層厚
      (5μm~20μm的打印層厚效果對(duì)比)
      點(diǎn)擊查看

      nanoArch P130
      打印精度:2μm~10μm,層厚5μm~20μm。
      普通光固化機(jī)器
      打印精度:30μm,層厚20μm。
      ×

      微尺度大幅面的打印能力

      光學(xué)監(jiān)控系統(tǒng),自動(dòng)對(duì)焦功能

      配置氣浮平臺(tái),提高打印質(zhì)量

      優(yōu)良的光源穩(wěn)定性

      配備完善的樣品后處理組件
      包括抽真空及紫外后固化

      應(yīng)用案例

      三維點(diǎn)陣模型

      三維點(diǎn)陣模型

      超高XY打印精度

      超高XY打印精度

      微型彈簧

      微型彈簧

      關(guān)鍵詞:監(jiān)控系統(tǒng)
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