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      自潔涂料高剪切研磨分散機(jī)

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      具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)

      產(chǎn)品型號(hào)

      品       牌

      廠商性質(zhì)0

      所  在  地

      更新時(shí)間:2022-08-24 15:19:19瀏覽次數(shù):305次

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      自潔涂料高剪切研磨分散機(jī)轉(zhuǎn)子速度可以達(dá)到66m/s。在該速度范圍內(nèi),由剪切力所造成的湍流結(jié)合專門研制的電機(jī)可以使粒徑范圍小到納米級(jí)。剪切力更強(qiáng),乳液的粒徑分布更窄。

      自潔涂料高剪切研磨分散機(jī) 

      納米超親水自潔涂料高速分散機(jī),二氧化硅分散機(jī),納米二氧化硅高速分散機(jī),納米防水涂料 ,水性超親水無(wú)機(jī)納米樹(shù)脂高速分散機(jī)是指將不溶固體顆粒分散到液體中在液體介質(zhì)中的分散體系。在分散過(guò)程中,往往需要減小固體顆粒,這就是濕磨或高剪切分散。

      超親水自清潔涂料是由水性超親水無(wú)機(jī)納米樹(shù)脂,配合高活性光觸媒配制而成。在太陽(yáng)光的照射和雨水沖刷下下可有效保持表面的潔凈,減少灰塵和臟污附著,另外涂層具有增透作用,有效增加可見(jiàn)光的透過(guò)率。可廣泛用于太陽(yáng)能電池板表面、建筑玻璃幕墻清潔、鏡面防霧、汽車后視鏡防雨滴等市場(chǎng)領(lǐng)域。

      經(jīng)過(guò)簡(jiǎn)單擦涂、噴涂,可在30min常溫迅速固化。

      如何快速分散親水無(wú)機(jī)納米樹(shù)脂 是需要解決問(wèn)題  

      1 分散頭的形式(批次式和連續(xù)式)(連續(xù)式比批次好)

      2 分散頭的剪切速率 (越大,效果越好)

      3 分散頭的齒形結(jié)構(gòu)(分為初齒,中齒,細(xì)齒,超細(xì)齒,約細(xì)齒效果越好)

      4 物料在分散墻體的停留時(shí)間,乳化分散時(shí)間(可以看作同等的電機(jī),流量越小,效果越好)

      5 循環(huán)次數(shù)(越多,效果越好,到設(shè)備的期限,就不能再好)

      線速度的計(jì)算

      剪切速率的定義是兩表面之間液體層的相對(duì)速率。

      – 剪切速率 (s-1) = v 速率 (m/s) 
      g 定-轉(zhuǎn)子 間距 (m)

      由上可知,剪切速率取決于以下因素:

      – 轉(zhuǎn)子的線速率

      – 在這種請(qǐng)況下兩表面間的距離為轉(zhuǎn)子-定子 間距。 
      SID定-轉(zhuǎn)子的間距范圍為 0.2 ~ 0.4 mm

      速率V= 3.14 X D(轉(zhuǎn)子直徑)X 轉(zhuǎn)速 RPM / 60

      高的轉(zhuǎn)速和剪切率對(duì)于獲得超細(xì)微懸浮液是*重要的。根據(jù)一些行業(yè)特殊要求,希德公司在XM2000系列的基礎(chǔ)上又開(kāi)發(fā)出XMD2000超高速剪切研磨分散機(jī)。其剪切速率可以超過(guò)20000 rpm,轉(zhuǎn)子的速度可以達(dá)到66m/s。在該速度范圍內(nèi),由剪切力所造成的湍流結(jié)合專門研制的電機(jī)可以使粒徑范圍小到納米級(jí)。剪切力更強(qiáng),乳液的粒經(jīng)分布更窄。由于能量密度*,無(wú)需其他輔助分散設(shè)備,可以達(dá)到普通的高壓均質(zhì)機(jī)的400BAR壓力下的顆粒大小.

      2、設(shè)備特點(diǎn)

      ⑴  XMD設(shè)備與傳統(tǒng)設(shè)備相比:

      高效、節(jié)能

      傳統(tǒng)設(shè)備需8小時(shí)的分散加工過(guò)程,ERS設(shè)備1小時(shí)左右完成,超細(xì)分散*,能耗*降低;

      高速、高品質(zhì)

      傳統(tǒng)設(shè)備的攪拌轉(zhuǎn)速每分鐘幾十轉(zhuǎn),帶分散功能的轉(zhuǎn)速每分鐘1500轉(zhuǎn)以內(nèi),只完成宏觀分散加工,超細(xì)分散能力極為有限;ERS設(shè)備的轉(zhuǎn)速每分鐘10000~15000轉(zhuǎn)之間,超高線速度產(chǎn)生的剪切力,瞬間超細(xì)分散漿料中的粉體。

      ⑵ XMD設(shè)備與同類設(shè)備相比:

      多層多向剪切分散

      同類設(shè)備的定轉(zhuǎn)子等部件結(jié)構(gòu)單一,多級(jí)多層的結(jié)構(gòu)是單純重復(fù)性加工,相同的齒槽結(jié)構(gòu)易發(fā)生物料未經(jīng)分散便通過(guò)工作腔的短路現(xiàn)象;

      XMD設(shè)備的定轉(zhuǎn)子結(jié)構(gòu)采用多層多向剪切概念,裝配式結(jié)構(gòu)使物料得到不同方向剪切分散,杜絕了短路現(xiàn)象,超細(xì)分散更為*。

      XMD2000進(jìn)口超高剪切研磨分散機(jī)
      研磨分散機(jī)是由膠體磨分散機(jī)組合而成的高科技產(chǎn)品。

      *級(jí)由具有精細(xì)度遞升的三級(jí)鋸齒突起和凹槽。定子可以無(wú)限制的被調(diào)整到所需要的轉(zhuǎn)子之間距離。在增強(qiáng)的流體湍流下。凹槽在每級(jí)口可以改變方向。
      第二級(jí)由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計(jì)也很好的滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉(zhuǎn)子(乳化頭)和批次式機(jī)器的工作頭設(shè)計(jì)的不同主要是因?yàn)樵趯?duì)輸送性的要求方面,特別要引起注意的是:在粗精度、中等精度、細(xì)精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是轉(zhuǎn)子齒的排列,還有一個(gè)很重要的區(qū)別是不同工作頭的幾何學(xué)征不一樣。狹槽寬度以及其他幾何學(xué)特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能。

      以下為型號(hào)表供參考:

      型號(hào)

      標(biāo)準(zhǔn)流量

      L/H

      輸出轉(zhuǎn)速

      rpm

      標(biāo)準(zhǔn)線速度

      m/s

      馬達(dá)功率

      KW

      進(jìn)口尺寸

      出口尺寸

      XMD2000/4

      400

      18000

      44

      4

      DN25

      DN15

      XMD2000/5

      1500

      10500

      44

      11

      DN40

      DN32

      XMD2000/10

      4000

      7200

      44

      22

      DN80

      DN65

      XMD2000/20

      10000

      4900

      44

      45

      DN80

      DN65

      XMD2000/30

      20000

      2850

      44

      90

      DN150

      DN125

      XMD2000/50

      60000

      1100

      44

      160

      DN200

      DN150

      自潔涂料高剪切研磨分散機(jī) 

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