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主要用途：

  廣泛用于藍(lán)寶石鐘表玻璃、手機(jī)玻璃、玻璃基片、MP3面板、光學(xué)玻璃晶片、LED藍(lán)寶石襯底、石英晶片、硅片、諸片、陶瓷基板、活塞環(huán)、閥片、鋁鐵硼、鉬片、鐵氧體、鈮酸鋰、鉭酸鋰、PTC熱敏電阻、光盤基片、陶瓷密封環(huán)、硬質(zhì)合金密封環(huán)、鎢鋼片、等各種材料的雙面研磨、拋光．

工作原理：

  該雙面研磨設(shè)備為精密磨削設(shè)備，上、下研磨盤作相反方向轉(zhuǎn)動(dòng)，工件在載體內(nèi)作既公轉(zhuǎn)又自轉(zhuǎn)的游星運(yùn)動(dòng)。磨削阻力小不損傷工件，而且兩面均勻磨削生產(chǎn)效率高。

特 點(diǎn)：

  1,系列雙面研磨設(shè)備運(yùn)行采用四臺(tái)電機(jī)驅(qū)動(dòng)，可以給上研磨盤、下研磨盤、齒圈、太陽輪單獨(dú)進(jìn)行調(diào)速，使研磨達(dá)到的轉(zhuǎn)速比，其太陽輪相對(duì)與其它三個(gè)轉(zhuǎn)速的速比可作無級(jí)調(diào)速,使游輪可實(shí)現(xiàn)正轉(zhuǎn)、反轉(zhuǎn)，滿足了不同研磨及修盤工藝的需求。

  2,系列雙面研磨設(shè)備為下研磨盤升降方式、下研磨盤的高低位置可在總行程范圍內(nèi)隨意停留自鎖，以滿足改變游輪嚙合高低位置的需要；

  3,系列雙面研磨設(shè)備采用四段壓力，即輕壓、中壓、重壓、修研的運(yùn)行過程；  

  4,系列雙面研磨設(shè)備采用PLC程控系統(tǒng)，變頻調(diào)速，觸摸屏操作面板，電機(jī)轉(zhuǎn)速與運(yùn)行時(shí)間可直接在觸摸屏上輸入。 5:可根據(jù)用戶要求增加光柵厚度控制系統(tǒng)，加工后的產(chǎn)品厚度公差可控制在±0.002mm范圍內(nèi)。

技術(shù)參數(shù)：

標(biāo)準(zhǔn)附件： 1、研磨泵 2、研磨循環(huán)箱 3、金剛石電鍍修正輪（4個(gè)）