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      上海思峻機械設(shè)備有限公司
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      *研磨分散機

      參  考  價面議
      具體成交價以合同協(xié)議為準

      產(chǎn)品型號GMD2000/4

      品       牌

      廠商性質(zhì)生產(chǎn)商

      所  在  地上海市

      更新時間:2019-08-31 19:06:28瀏覽次數(shù):427次

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      *研磨分散機,*分散機,納米*分散機,*納米分散機,我們將三級高剪切均質(zhì)乳化機進行改裝,我們將三級變跟為一級,然后在乳化頭上面加配了膠體磨磨頭,使物料可以先經(jīng)過膠體磨細化物料,然后再經(jīng)過乳化機將物料分散乳化均質(zhì)。
      • *研磨分散機,*分散機,納米*分散機,*納米分散機,化工研磨分散機

         

        *適用十分廣泛,如油漆、防曬霜和藥片包衣。通常市場上都提供不同級別的粉末產(chǎn)品,但是實際使用時還會對細度提出新的要求。同時,這類粉體碰到液體時極易團聚,這就成為了*的分散的一個難點。SGN系列混合分散設(shè)備為快速分散而設(shè)計,達到窄粒徑分布,并防止結(jié)塊。

        技術(shù)及價格請來電:葛   公司有樣機可供客戶購前實驗,
        歡迎廣大客戶來我司參觀指導(dǎo)!

                                  

        SGN研磨分散機用于*分散和研磨的優(yōu)點

         

        一、縮短工藝時間。SGN高剪切乳化分散設(shè)備可以迅速地混合分散*粉末,并消除結(jié)塊和團聚。SGN也提供PLD和PLG粉體/液體混合機,將粉體直接加入液體,無需循環(huán)處理,一次性通過便可成型。

         

        二、提高品質(zhì)。SGN高剪切混合機可以打碎結(jié)塊粉體,并與液體充分混合。這樣可以改善產(chǎn)品光澤和透明度,這兩個特征由分散好壞直接決定。

         

        三、減少資金投入。SGN磨機可以更大程度縮小粒徑,達到窄粒徑分布。SGN分散研磨設(shè)備的流量比同類研磨設(shè)備高出很多,但也可達到相類似的效果。模塊化設(shè)計的SGN 2000系列產(chǎn)品,可以幫助客戶節(jié)約資金投資。

         

         

        GMD2000系列研磨分散設(shè)備是SGN(上海)公司經(jīng)過研究剛剛研發(fā)出來的一款新型產(chǎn)品,該機特別適合于需要研磨分散乳化均質(zhì)一步到位的物料。我們將三級高剪切均質(zhì)乳化機進行改裝,我們將三級變跟為一級,然后在乳化頭上面加配了膠體磨磨頭,使物料可以先經(jīng)過膠體磨細化物料,然后再經(jīng)過乳化機將物料分散乳化均質(zhì)。膠體磨可根據(jù)物料要求進行更換(我們提供了2P,2G,4M,6F,8SF等五種乳化頭供客戶選擇)


         

        SGN*研磨分散機,*分散機,納米*分散機,*納米分散機是由膠體磨,分散機組合而成的高科技產(chǎn)品。

         

        *級由具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。

         

        第二級由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計也很好地滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉(zhuǎn)子(乳化頭)和批次式機器的工作頭設(shè)計的不同主要是因為 在對輸送性的要求方面,特別要引起注意的是:在粗精度、中等精度、細精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是轉(zhuǎn)子齒的排列,還有一個很重要的區(qū)別是 不同工作頭的幾何學(xué)特征不一樣。狹槽數(shù)、狹槽寬度以及其他幾何學(xué)特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能。


        GMD2000系列,*分散機,納米*分散機,*納米分散機是由膠體磨的特點

         

        ①   線速度很高,剪切間隙非常小,當物料經(jīng)過的時候,形成的摩擦力就比較劇烈,結(jié)果就是通常所說的濕磨

        ②   定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形,具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。

        ③   定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離

        ④   在增強的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。

        ⑤   高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料,可以滿足不同行業(yè)的多種要求。

         

        GMD2000系列研磨分散設(shè)備選型表

         

        型號

        流量

        L/H

        轉(zhuǎn)速

        rpm

        線速度

        m/s

        功率

        kw

        入/出口連接

        DN

        GMD2000/4

        300

        9000

        23

        2.2

        DN25/DN15

        GMD2000/5

        1000

        6000

        23

        7.5

        DN40/DN32

        GMD2000/10

        2000

        4200

        23

        22

        DN80/DN65

        GMD2000/20

        5000

        2850

        23

        37

        DN80/DN65

        GMD2000/30

        8000

        1420

        23

        55

        DN150/DN125

        GMD2000/50

        15000

        1100

        23

        110

        DN200/DN150

         

        ,*分散機,納米*分散機,*納米分散機,化工研磨分散機

         

        信息來源:www.sgnprocess。。cn

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