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      上海依肯機械設(shè)備有限公司

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      CMD2000聚氨酯( PUR)改性環(huán)氧樹脂研磨分散機
      參考價: 面議
      具體成交價以合同協(xié)議為準
      • CMD2000 產(chǎn)品型號
      • 品牌
      • 生產(chǎn)商 廠商性質(zhì)
      • 上海市 所在地

      訪問次數(shù):365更新時間:2019-06-18 18:45:57

      聯(lián)系我們時請說明是智能制造網(wǎng)上看到的信息,謝謝!

      濕法粉碎機

      石墨烯分散機

      乳化機

      膠體磨

      粉液混合機

      攪拌機

      均質(zhì)機

      分散機

      乳化泵

      研磨分散機

      混合機

      研磨機

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      聯(lián)人:
      于倩龍

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      產(chǎn)品簡介
      聚氨酯( PUR)改性環(huán)氧樹脂研磨分散機,聚氨酯( PUR)改性環(huán)氧樹脂分散機,聚氨酯( PUR)改性研磨分散機,改性環(huán)氧樹脂研磨分散機 比普通的分散機的速度達到4-5倍以上,分散乳化均質(zhì)研磨效果非常好,Z高轉(zhuǎn)速可以達到14000RPM。
      產(chǎn)品介紹

      聚氨酯( PUR)改性環(huán)氧樹脂研磨分散機,聚氨酯( PUR)改性環(huán)氧樹脂分散機,聚氨酯( PUR)改性研磨分散機,改性環(huán)氧樹脂研磨分散機 比普通的分散機的速度達到4-5倍以上,分散乳化均質(zhì)研磨效果非常好,zui高轉(zhuǎn)速可以達到14000RPM。

      聚氨酯( PUR)改性環(huán)氧樹脂研磨分散機

      互穿聚合物網(wǎng)絡(luò)( IPN)是制備特殊性能高分子合金的有效方法。PUR的高彈性、耐磨性與EP的高粘接性可通過IPN體系互補與強化

      利用聚合物合金的思想,采用熔體共混法制備出了EP /PUR共混體系。他們以異氰酸基封端PUR預(yù)聚體與EP在熔融條件下加入固化劑固化后得到共混改性體系,由于異氰酸基本身能與環(huán)氧基團反應(yīng),因此得到的改性體系兩相間有良好的相容性。

      用不同的PUR EP 制備一系列EP /PUR IPN,通過DSC對其進行分析,發(fā)現(xiàn)網(wǎng)絡(luò)互穿程度的提高增加了組分之間的相容性。楊亞輝等以聚酯和二異氰酸酯為聚合單體,合成了端異氰酸基聚酯,采用原位多相聚合技術(shù),用芳香二胺將其擴鏈生成聚氨酯脲,從而與E - 51 EP形成IPN,實現(xiàn)對EP的增韌

      環(huán)氧樹脂是泛指分子中含有兩個或兩個以上環(huán)氧基團的有機高分子化合物,除個別外,它們的相對分子質(zhì)量都不高。環(huán)氧樹脂的分子結(jié)構(gòu)是以分子鏈中含有活潑的環(huán)氧基團為其特征,環(huán)氧基團可以位于分子鏈的末端、中間或成環(huán)狀結(jié)構(gòu)。由于分子結(jié)構(gòu)中含有活潑的環(huán)氧基團,使它們可與多種類型的固化劑發(fā)生交聯(lián)反應(yīng)而形成不溶、不熔的具有三向網(wǎng)狀結(jié)構(gòu)的高聚物。環(huán)氧樹脂是一種綜合性能優(yōu)良的熱固性樹脂,但其韌性不足,耐熱性能也較低耐沖擊損傷差。

      聚 氨酯( PUR)改性環(huán)氧樹脂研磨分散機 

      研磨分散機的細化作用一般來說要強于均質(zhì)機,但它對物料的適應(yīng)能力較強(如高粘度、大顆粒),所以在很多場合下,它用于均質(zhì)機的前道或者用于高粘度的場合。 

      研磨式分散機是由錐體磨,分散機組合而成的高科技產(chǎn)品。

      *級由具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。

      第二級由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計也很好地滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉(zhuǎn)子(乳化頭)和批次式機器的工作頭設(shè)計的不同主要是因為在對輸送性的要求方面,特別要引起注意的是:在粗精度、中等精度、細精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是轉(zhuǎn)子齒的排列,還有一個很重要的區(qū)別是不同工作頭的幾何學特征不一樣。狹槽數(shù)、狹槽寬度以及其他幾何學特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能。根據(jù)以往的慣例,依據(jù)以前的經(jīng)驗工作頭來滿足一個具體的應(yīng)用。在大多數(shù)情況下,機器的構(gòu)造是和具體應(yīng)用相匹配的,因而它對制造出zui終產(chǎn)品是很重要。當不確定一種工作頭的構(gòu)造是否滿足預(yù)期的應(yīng)用。

      CMD2000系列的線速度很高,剪切間隙非常小,這樣當物料經(jīng)過的時候,形成的摩擦力就比較劇烈,結(jié)果就是通常所說的濕磨。定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形,具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料,可以滿足不同行業(yè)的多種要求。


      設(shè)備等級:化工級、衛(wèi)生I級、衛(wèi)生II級、無菌級
      電機形式:普通馬達、變頻調(diào)速馬達、防爆馬達、變頻防爆馬達、
      電源選擇: 380V/50HZ、220V/60HZ、440V/50HZ
      電機選配件: PTC 熱保護、降噪型
      研磨分散機材質(zhì):SUS304 、SUS316L 、SUS316Ti,氧化鋯陶瓷
      研磨分散機選配:儲液罐、排污閥、變頻器、電控箱、移動小車
      研磨分散機表面處理:拋光、耐磨處理
      進出口聯(lián)結(jié)形式:法蘭、螺口、夾箍
      研磨分散機選配容器:本設(shè)備適合于各種不同大小的容器

      膠體磨

      流量*

      輸出

      線速度

      功率

      入口/出口連接

      類型

      l/h

      rpm

      m/s

      kW



      300

      9,000

      23

      2.2

      DN25/DN15

      CMD 2000/5

      1000

      6,000

      23

      7.5

      DN40/DN32

      CMD 2000/10

      200

      4,200

      23

      22

      DN80/DN65

      CMD 2000/20

      5000

      2,850

      23

      37

      DN80/DN65

      CMD 2000/30

      8000

      1,420

      23

      55

      DN150/DN125

      CMD2000/50

      15000

      1,100

      23

      110

      DN200/DN150

      *流量取決于設(shè)置的間隙和被處理物料的特性,同時流量可以被調(diào)節(jié)到zui大允許量的10%。

      表中上限處理量是指介質(zhì)為“水"的測定數(shù)據(jù)。

      處理量取決于物料的粘度,稠度和zui終產(chǎn)品的要求。

      如高溫,高壓,易燃易爆,腐蝕性等工況,必須提供準確的參數(shù),以便選型和定制。

      聚 氨酯( PUR)改性環(huán)氧樹脂研磨分散機  跟多的信息,請上海依肯即系額設(shè)備有限公司  曹



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