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      上海依肯機(jī)械設(shè)備有限公司

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      CMSD2000納米材料研磨分散機(jī)
      參考價: 面議
      具體成交價以合同協(xié)議為準(zhǔn)
      • CMSD2000 產(chǎn)品型號
      • 品牌
      • 生產(chǎn)商 廠商性質(zhì)
      • 上海市 所在地

      訪問次數(shù):331更新時間:2019-06-18 18:45:44

      聯(lián)系我們時請說明是智能制造網(wǎng)上看到的信息,謝謝!

      濕法粉碎機(jī)

      石墨烯分散機(jī)

      乳化機(jī)

      膠體磨

      粉液混合機(jī)

      攪拌機(jī)

      均質(zhì)機(jī)

      分散機(jī)

      乳化泵

      研磨分散機(jī)

      混合機(jī)

      研磨機(jī)

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      聯(lián)人:
      于倩龍

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      產(chǎn)品簡介
      納米材料研磨分散機(jī),納米研磨分散機(jī),納米材料研磨機(jī)是由電動機(jī)通過皮帶傳動帶動轉(zhuǎn)齒(或稱為轉(zhuǎn)子)與相配的定齒(或稱為定子)作相對的高速旋轉(zhuǎn),定、轉(zhuǎn)齒之間的間隙(間隙可調(diào))時受到強(qiáng)大的剪切力、摩擦力、高頻振動等物理作用,使物料被有效地乳化、分散和粉碎,達(dá)到物料超細(xì)粉碎及的f分散效果。
      產(chǎn)品介紹

      納米材料研磨分散機(jī),納米研磨分散機(jī),納米材料研磨機(jī)是由電動機(jī)通過皮帶傳動帶動轉(zhuǎn)齒(或稱為轉(zhuǎn)子)與相配的定齒(或稱為定子)作相對的高速旋轉(zhuǎn),定、轉(zhuǎn)齒之間的間隙(間隙可調(diào))時受到強(qiáng)大的剪切力、摩擦力、高頻振動等物理作用,使物料被有效地乳化、分散和粉碎,達(dá)到物料超細(xì)粉碎及的f分散效果。

      納米材料納米材料可分為三大類:一是一維納米粒子;二是二維納米固體(包括薄膜和涂層、管、線);三是三維納米體材(包括介孔材料)

      包括納米金屬氧化物  納米二氧化硅,納米* 納米氧化鋁,納米氧化鋅,納米氧化鈰,納米氧化鐵,納米氧化鉍,納料ATO合金 納米金屬 如納米銀納米金等的功能還有一些納米鹽類 

      納米材料的

      納米粉體的團(tuán)聚是指原生的納米粉體顆粒在制備、分離、處理及存放過程中相互連接、由多個顆粒形成較大的顆粒團(tuán)簇的現(xiàn)象。由于團(tuán)聚顆粒粒度小,表面原子比例大,比表面積大,表面能大,處于能量不穩(wěn)定狀態(tài),因而細(xì)微的顆粒都趨向于聚集在一起,很容易團(tuán)聚,形成團(tuán)聚狀的二次顆粒,乃至三次顆粒,使粒子粒徑變大,在每個顆粒內(nèi)部有細(xì)小孔隙。

      納米顆粒的團(tuán)聚一般分為兩種:軟團(tuán)聚和硬團(tuán)聚。對于軟團(tuán)聚機(jī)理,人們的看法比較*,即,軟團(tuán)聚是由納米粉體表面分子或原子之間的范德華力和靜電引力所致,由于作用力較弱,可以通過一些化學(xué)作用或施加機(jī)械能的方式來消除。對于硬團(tuán)聚,不同化學(xué)組成不同制備方法有不同的團(tuán)聚機(jī)理,無法用統(tǒng)一的理論來解釋。因此需要采取一些特殊的方法來對其進(jìn)行控制。

      納米材料研磨分散機(jī)是

      是IKN(上海)公司經(jīng)過研究剛剛研發(fā)出來的一款新型產(chǎn)品,該機(jī)特別適合于需要研磨分散乳化均質(zhì)一步到位的物料。我們將三級高剪切均質(zhì)乳化機(jī)進(jìn)行改裝,我們將三級變跟為一級,然后在乳化頭上面加配了膠體磨磨頭,使物料可以先經(jīng)過膠體磨細(xì)化物料,然后再經(jīng)過乳化機(jī)將物料分散乳化均質(zhì)。膠體磨可根據(jù)物料要求進(jìn)行更換(我們提供了2P,2G,4M,6F,8SF等五種乳化頭供客戶選擇)

      1  線速度很高,剪切間隙非常小,當(dāng)物料經(jīng)過的時候,形成的摩擦力就比較劇烈,結(jié)果就是通常所說的濕磨

      ②   定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形,具有精細(xì)度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。

      ③   定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離

      ④   在增強(qiáng)的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。

      ⑤   高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料,可以滿足不同行業(yè)的多種要求。

      包括CMD2000,CMSD2000研磨機(jī)  

      ru 

      研磨分散機(jī)

      流量*

      輸出

      線速度

      功率

      入口/出口連接

      類型

      l/h

      rpm

      m/s

      kW


      CMD 2000/4

      300

      9,000

      23

      2.2

      DN25/DN15

      CMD 2000/5

      1000

      6,000

      23

      7.5

      DN40/DN32

      CMD 2000/10

      3000

      4,200

      23

      22

      DN80/DN65

      CMD 2000/20

      8000

      2,850

      23

      37

      DN80/DN65

      CMD 2000/30

      20000

      1,420

      23

      55

      DN150/DN125

      CMD2000/50

      60000

      1,100

      23

      110

      DN200/DN150

      *流量取決于設(shè)置的間隙和被處理物料的特性,同時流量可以被調(diào)節(jié)到zui大允許量的10%。

      1 表中上限處理量是指介質(zhì)為“水"的測定數(shù)據(jù)。

      2 處理量取決于物料的粘度,稠度和zui終產(chǎn)品的要求。

       德國IKN制造



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