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- CMSD 產(chǎn)品型號
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- 上海市 所在地
訪問次數(shù):330更新時間:2019-06-18 18:45:39
微晶石墨粉末高速膠體磨,制備石墨烯改進型膠體磨,超高速立式膠體磨將IKN高剪切膠體磨進行進一步的改良,在原來CM2000系列的基礎(chǔ)上,將單一的膠體磨磨頭模塊,改良成兩級模塊,加入了一級分散盤(均質(zhì)盤、乳化盤)。從而形成改良型的膠體磨,先研磨后分散(均質(zhì)、乳化),將物料的處理一步到底的完成。
石墨烯制備要點:微晶石墨粉末、表面活性劑和溶劑等采用管線式循環(huán)研磨混合均勻
超細粉末在進行分散時會遇到的問題,分散不均勻,容易抱團(特別是含有添加劑的情況下更加明顯),傳統(tǒng)的方式是采用砂磨機或者球磨機進行長時間的反復研磨,這樣雖然也可以達到效果,但砂磨機價格昂貴(50L的進口砂磨機價格在數(shù)十萬以上),研磨時間過長,耗時耗能,占用空間大,維修成本較高。研磨分散機的應(yīng)用很好的解決了上述問題,研磨時間短,節(jié)能減耗,沒有易損件,維修成本極低,同時還兼具分散功能;是解決超細粉體分散抱團、不均勻的*選擇。
IKN研磨分散機是由膠體磨和分散機組合而成。這樣的設(shè)計既具有膠體磨的研磨功能,可以將物料由粗磨細;研磨后的物料經(jīng)過下端的分散頭,又可以瞬間均勻分散,形成均一體系。
研磨分散機的結(jié)構(gòu)特點:
IKN研磨分散機采用的是剪切研磨的方式,作用是對分子間作用力進行一個解聚的過程,從而保證了分子結(jié)構(gòu)的完整性,zui大程度保留了其性能。
微晶石墨粉末高速膠體磨,制備石墨烯改進型膠體磨,超高速立式膠體磨 上海依肯銷售工程師林萬翠
上海依肯CMSD研磨分散機轉(zhuǎn)速相較其它廠家2900轉(zhuǎn)左右高出三倍
CMSD2000/4為立式分體式結(jié)構(gòu),通過皮帶傳動,并實現(xiàn)加速,加速比為3:1即正常50HZ頻率下轉(zhuǎn)速為9000RPM,外加變頻可達140000RPM。CMSD2000/4分散頭直徑為55mm。
由此可得線速度(V=3.14*D(轉(zhuǎn)子直徑)*n/60)
V1= 3.14*0.055*9000/60 =24M/S
V2=3.14*0.055*14000/60=40M/S
CMSD的磨頭結(jié)構(gòu)更精密并有*設(shè)計,使之分散作用力更大,效果更好。
剪切速率的定義是兩表面之間液體層的相對速率。
– 剪切速率F(s-1)=v速率(m/s)/g定-轉(zhuǎn)子間距(m)
由上可知,剪切速率取決于以下因素:
– 分散頭的線速率
– 轉(zhuǎn)子-定子間距
結(jié)合1,2中的數(shù)據(jù)可得:
F1=24/0.7*1000=32857S-1
F2=40/0.7*1000=57142S-1
普通轉(zhuǎn)速為3000RPM的機型大約在14293~21544S-1
CMSD2000系列研磨分散機設(shè)備選型表
型號 | 流量 L/H | 轉(zhuǎn)速 rpm | 線速度 m/s | 功率 kw | 入/出口連接 DN |
CMSD2000/4 | 300 | 14000 | 41 | 4 | DN25/DN15 |
CMSD2000/5 | 1000 | 10500 | 41 | 11 | DN40/DN32 |
CMSD2000/10 | 4000 | 7200 | 41 | 22 | DN80/DN65 |
CMSD2000/20 | 10000 | 4900 | 41 | 45 | DN80/DN65 |
CMSD2000/30 | 20000 | 2850 | 41 | 90 | DN150/DN125 |
CMSD2000/50 | 60000 | 1100 | 41 | 160 | DN200/DN150 |
表中上限處理量是指介質(zhì)為“水”的測定數(shù)據(jù)。
設(shè)備的選型要點:
1、明確使用設(shè)備所需達到的效果和目的
2、詳細了解并掌握研究物料的性質(zhì)(包括物理、化學性質(zhì))
3、根據(jù)物料對設(shè)備的攪拌機進行選型
4、再次確定設(shè)備的操作參數(shù)及結(jié)構(gòu)設(shè)計
5、綜合考慮設(shè)備的成本
,制備石墨烯改進型膠體磨,超高速立式膠體磨 上海依肯銷售工程師林萬翠