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- a001 產(chǎn)品型號
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- 東莞市 所在地
訪問次數(shù):448更新時間:2019-06-24 10:55:04
在真空狀態(tài)下, 利用射頻輻射視得氫氣, 氧氣, 氮?dú)?,等氣體生成具有高反應(yīng)活性的等離子于氣體反應(yīng)形成揮發(fā)性化合物, 然后由真空系統(tǒng)將這些物質(zhì)清除出去 等離子體刻蝕機(jī),應(yīng)用刻蝕硅片邊緣的硅鱗層,擴(kuò)散過程中, 不但硅片的表面擴(kuò)散上了鱗,硅片邊緣也擴(kuò)散上了鱗,這會導(dǎo)致硅片正反兩極通過邊緣導(dǎo)通短路,所以必須將硅片邊緣這層被擴(kuò)散的 硅鱗去掉,大概去掉1到3個微米, 硅片在刻蝕機(jī)內(nèi)水平選裝, 通入的反應(yīng)氣體為四氟化碳,氧氣和氮?dú)?,其原理是在放電狀態(tài)下反應(yīng)氣體四氟化碳, 氧氣, 和硅片邊緣的規(guī)劃和物發(fā)生反應(yīng), 生成硅, 反應(yīng)形成粉末和氣態(tài)物質(zhì)后隨氣流一起被抽走