GMD2000/4改性環(huán)氧樹脂研磨分散機(jī)
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上海思峻機(jī)械設(shè)備有限公司
免費(fèi)會(huì)員·7年高純氧化鋁粉研磨分散機(jī)
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訪問(wèn)次數(shù)：328更新時(shí)間：2019-06-07 19:30:37
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產(chǎn)品簡(jiǎn)介
產(chǎn)品介紹
一、產(chǎn)品名稱：高純氧化鋁粉研磨分散機(jī),氧化鋁粉高速分散機(jī),高純氧化鋁漿料分散機(jī),金屬氧化物研磨分散機(jī),化工研磨分散機(jī)
二、高純氧化鋁粉的性質(zhì)及應(yīng)用
氧化鋁是白色晶狀粉末、具有多孔性、高分散性和絕緣性等特點(diǎn)。高純氧化鋁氧粉，又稱三氧化二鋁，分子量102，是一種白色無(wú)定形粉狀物，俗稱礬土。
高純氧化鋁的應(yīng)用：
一般3N高純氧化鋁主要應(yīng)用于*陶瓷，4N主要應(yīng)用于熒光粉，5N應(yīng)用于藍(lán)寶石晶體、鋰電池隔膜、高級(jí)陶瓷等。
：應(yīng)用于鋰電池隔膜及陶瓷涂層、對(duì)純度、粒徑、形貌等有嚴(yán)格要求，需要使用4N5N以上及納米尺度的超細(xì)高純氧化鋁。
中端：應(yīng)用于LED上游產(chǎn)業(yè)鏈，藍(lán)寶石襯底，對(duì)純度、雜質(zhì)、產(chǎn)品穩(wěn)定性的要求較為嚴(yán)格，需要使用4N5N以上及納米尺度的超細(xì)高純氧化鋁。
低端：集成電路基板、消費(fèi)電子，紫外固化涂料等方面的應(yīng)用，需要使用4N級(jí)別左右的高純超細(xì)氧化鋁，整體要求相對(duì)較低。
（價(jià)格電議，劉，，公司有樣機(jī)可實(shí)驗(yàn)?。?/span>
三、高純氧化鋁粉的應(yīng)用工藝
主要是將高純氧化鋁粉均勻的分散到須改性的基質(zhì)當(dāng)中，然而傳統(tǒng)的分散設(shè)備無(wú)法滿足分散效果的要求，傳統(tǒng)分散設(shè)備轉(zhuǎn)速較低，一般為3000rpm。而采用SGN管線式研磨分散機(jī)，轉(zhuǎn)速高達(dá)14000rpm，另外*的結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)，將膠體磨和分散機(jī)一體化，先研磨后分散，分散粒徑更小，粒徑分布更均勻。
四、SGN化工研磨分散機(jī)的優(yōu)勢(shì)
1、上海SGN研磨式分散機(jī)可以很好的解決這一問(wèn)題，“膠體磨+分散機(jī)”的*結(jié)構(gòu)，一級(jí)研磨模塊可以將團(tuán)聚體研磨打開，第二級(jí)分散模塊再瞬間對(duì)物料進(jìn)行充分的分散，一步到位，效果好，效率高。
2、傳統(tǒng)分散設(shè)備轉(zhuǎn)速一般不足3000rpm，難以分散。而SGN研磨分散機(jī)轉(zhuǎn)速高達(dá)14000rpm，剪切速率高，可以充分的將石墨烯分散到涂料當(dāng)中。
3、SGN研磨分散機(jī)采用管線式分體式結(jié)構(gòu)，物料從進(jìn)口進(jìn)入設(shè)備工作腔中，進(jìn)行處理，然后再?gòu)某隹诖虺觯锪?得的剪切細(xì)化分散，產(chǎn)品更均勻穩(wěn)定。另外可以實(shí)現(xiàn)在線式生產(chǎn)，滿足大工業(yè)化生要求。
五、GMD2000系列高純氧化鋁粉研磨分散機(jī)選型表
型號(hào) | 流量 L/H | 轉(zhuǎn)速 rpm | 線速度 m/s | 功率 kw | 入/出口連接 DN |
GMD2000/4 | 300 | 9000 | 23 | 2.2 | DN25/DN15 |
GMD2000/5 | 1000 | 6000 | 23 | 7.5 | DN40/DN32 |
GMD2000/10 | 2000 | 4200 | 23 | 22 | DN80/DN65 |
GMD2000/20 | 5000 | 2850 | 23 | 37 | DN80/DN65 |
GMD2000/30 | 8000 | 1420 | 23 | 55 | DN150/DN125 |
信息來(lái)源：www.sgnprocess。。ｃｎ
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