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      行業(yè)產(chǎn)品

      • 行業(yè)產(chǎn)品

      北京正通遠(yuǎn)恒科技有限公司


      脈沖電子束沉積系統(tǒng)

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      產(chǎn)品型號Pioneer 180 PED System

      品       牌其他品牌

      廠商性質(zhì)代理商

      所  在  地北京市

      聯(lián)系方式:Lisa查看聯(lián)系方式

      更新時間:2024-04-23 14:47:35瀏覽次數(shù):629次

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      產(chǎn)品簡介

      脈沖電子束沉積系統(tǒng)是高能脈沖(100ns) 電子束( 約1000 A,15 keV) 在靶材上穿透將近1 um,使靶材快速蒸發(fā)形成等離子體。對靶材的非平衡提?。疲┦沟入x子體的組成與靶材的化學(xué)計量組成*。在一定條件下,靶材的化學(xué)計量與沉積薄膜的保持*。所有的固態(tài)材料如金屬、半導(dǎo)體和絕緣體等都可以用PED 技術(shù)沉積各自的薄膜。

      詳細(xì)介紹

      產(chǎn)品簡介

      脈沖電子束沉積(Pulsed Electron Deposition)系統(tǒng)能發(fā)射高能脈沖(100ns) 電子束( 約1000 A,15 keV) 在靶材上穿透將近1 um,使靶材快速蒸發(fā)形成等離子體。在靶材上的非平衡提?。疲┠苁沟入x子體的組成與靶材的化學(xué)計量組成一致。在最\佳條件下,靶材的化學(xué)計量與沉積薄膜可以保持一致。所有的固態(tài)材料如金屬、半導(dǎo)體和絕緣體等都可以用PED 技術(shù)沉積各自的薄膜。


      產(chǎn)品特點

      * 獨立的交鑰匙脈沖電子束沉積系統(tǒng)PED
      * 外延薄膜沉積,多層異質(zhì)結(jié)構(gòu)(heterostructures)與超晶格
      * 氧化物薄膜沉積時氧氣兼容
      * 升級選項:離子輔助PED, 連續(xù)組份沉積PED, 進(jìn)樣系統(tǒng)load-lock
      * 可附加的沉積源:脈沖激光與射頻/ 直流濺射
      * 集成XPS/ARPES UHV 集群系統(tǒng),原位高真空基片傳送系統(tǒng)


      脈沖電子束沉積系統(tǒng)PED沉積的代表性材料示例
      * 高溫超導(dǎo)(HTS) YBCO( 和GdBCO) 薄膜
      * 順電(Ba-SrTiO3) 薄膜
      * 金屬氧化物(SrRuO3) 薄膜
      * 隔熱/ 音玻璃(SiO2) 膜和Al2O3
      * 聚四氟乙烯(PTFE) 薄膜


      技術(shù)指標(biāo)

      真空腔18" 直徑的球形腔體
      8"CF 窗口
      6.75"CF PED 源窗口
      3 個6"CF 窗
      額外的2.75" 與1.33"CF 窗口
      PED源電子槍能量:8-20 keV
      脈沖能量:大能量800 mJ
      小能量100 mJ
      工藝氣體壓強: 3-20 mTorr
      工藝氣體: 氧氣,氮氣,氬氣
      脈沖能量變化: ±10%
      脈沖寬度: 100 ns
      大重復(fù)率: 10Hz at 15kV,5Hz at 20kV
      小束截面: 8 x10-2 cm2
      大能量密度 :1.3 x 108 W/cm2
      Z 向?qū)?zhǔn)范圍: 50 mm
      XY 向?qū)?zhǔn)范偉: +/- 20 mm
      火花塞壽命 ~3x107 脈沖
      基片加熱器大直徑2",小10x10mm2
      大溫度:850 ℃
      基片旋轉(zhuǎn):1-30 RPM(360° 旋轉(zhuǎn))
      基片加熱器:兼容1 個大氣壓的氧壓
      加熱器溫度通過可編程的PID 控制
      多靶材旋轉(zhuǎn)臺6 個1" 的靶材或3 個2" 的靶材
      靶材旋轉(zhuǎn):360° 連續(xù)旋轉(zhuǎn)(1-20 RPM)
      靶材柵格式掃描
      *的靶材柵格化燒蝕方案
      靶材索引,鍍多層薄膜
      靶材高度可調(diào)
      靶材擋板避免靶材間的交叉污染
      提供連續(xù)組成擴展/ 組合PED 的能力
      PED系統(tǒng)軟件Windows 7, LabVIEW 2013
      控制基片加熱臺
      控制靶材公轉(zhuǎn)臺
      控制真空泵
      控制質(zhì)量流量計?
      外部的PED 源觸發(fā)器
      可選的工藝自動化選項
      真空泵干泵,渦輪分子泵
      本底真空壓強:標(biāo)準(zhǔn)配置8 x 10-8 Torr
      渦輪分子泵轉(zhuǎn)速由軟件控制
















































































































      關(guān)鍵詞:PID 質(zhì)量流量計
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