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      上海思峻機(jī)械設(shè)備有限公司

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      SGN思峻GMD系列氧化鋅高剪切研磨分散機(jī)
      參考價(jià): 面議
      具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
      • 產(chǎn)品型號(hào)
      • 品牌
      • 生產(chǎn)商 廠(chǎng)商性質(zhì)
      • 上海 所在地

      訪(fǎng)問(wèn)次數(shù):316更新時(shí)間:2019-02-21 20:23:10

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      產(chǎn)品簡(jiǎn)介
      SGN思峻GMD系列氧化鋅高剪切研磨分散機(jī)的定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形,具有精細(xì)度遞升的三級(jí)鋸齒突起和凹槽。定子可以無(wú)限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強(qiáng)的流體湍流下,凹槽在每級(jí)都可以改變方向。高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料,可以滿(mǎn)足不同行業(yè)的多種要求。
      產(chǎn)品介紹

      SGN思峻GMD系列氧化鋅高剪切研磨分散機(jī),氧化鋅研磨分散機(jī),氧化鋅高速分散機(jī),氧化鋅超細(xì)均質(zhì)機(jī),氧化鋅管線(xiàn)式分散機(jī)

      納米氧化鋅是一種多功能性的新型無(wú)機(jī)材料,其顆粒大小約在1~100納米。由于晶粒的細(xì)微化,其表面電子結(jié)構(gòu)和晶體結(jié)構(gòu)發(fā)生變化,產(chǎn)生了宏觀(guān)物體所不具有的表面效應(yīng)、體積效應(yīng)、量子尺寸效應(yīng)和宏觀(guān)隧道效應(yīng)以及高透明度、高分散性等特點(diǎn)。近年來(lái)發(fā)現(xiàn)它在催化、光學(xué)、磁學(xué)、力學(xué)等方面展現(xiàn)出許多特殊功能,使其在陶瓷、化工、電子、光學(xué)、生物、醫(yī)藥等許多領(lǐng)域有重要的應(yīng)用價(jià)值,具有普通氧化鋅所無(wú)法比較的特殊性和用途。納米氧化鋅在紡織、涂料等領(lǐng)域可用于紫外光遮蔽材料、抗菌劑、熒光材料、光催化材料等。 

      影響納米材料分散要素:

      1、分散介質(zhì)

      (1)根據(jù)粘度不同,分散介質(zhì)分為高粘度、中粘度和低粘度三種。在低粘度介質(zhì)中,如水和有機(jī)溶劑,納米材料易于分散。中粘度介質(zhì)如液態(tài)環(huán)氧樹(shù)脂、液態(tài)硅橡膠等,高粘度介質(zhì)如熔融態(tài)的塑料。

      2、分散劑

      (1)分散劑的選擇,與分散介質(zhì)的結(jié)構(gòu)、極性、溶度參數(shù)等密切相關(guān)。

      (2)分散劑的用量,與納米材料比表面積和共價(jià)鍵修飾的功能基團(tuán)有關(guān)。

      (3)水性介質(zhì)中,*使用TNWDIS。強(qiáng)極性有機(jī)溶劑中,如醇、DMF、NMP, *使用TNADIS。中等極性有機(jī)溶劑如酯類(lèi)、液態(tài)環(huán)氧樹(shù)脂、液態(tài)硅橡膠,*使用TNEDIS 

       

      詢(xún)價(jià)和技術(shù)問(wèn)題請(qǐng)來(lái)電:李 ()   公司有樣機(jī)可供客戶(hù)免費(fèi)實(shí)驗(yàn),歡迎廣大客戶(hù)來(lái)我司參觀(guān)指導(dǎo)。

       

      上海SGN思峻)機(jī)械設(shè)備有限公司專(zhuān)門(mén)應(yīng)對(duì)納米材料分散開(kāi)發(fā)的高剪切研磨分散機(jī)GMD2000系列適合大規(guī)模地分散納米氧化鋁,納米氧化鋅,納米氧化鈰,納米氧化鐵,納米氧化鉍,納料ATO合金等產(chǎn)品。納米金屬粉體、碳納米管、高純Al2O3、高純納米TiO2系列粉體、超活性納米TiO2催化劑、納米TiO2液體、納米TiO2銀抗菌劑、納米高純ZrO2、超細(xì)高純ZrO2、納米涂層材料、納米載銀抗菌粉、納米SiO2、納米ZnO、光觸媒、納米三防整理劑等系列粉體、液體、制劑在中、低粘度介質(zhì)里的分散。

      SGN思峻GMD系列氧化鋅高剪切研磨分散機(jī)是由膠體磨,分散機(jī)組合而成的高科技產(chǎn)品。

      *級(jí)由具有精細(xì)度遞升的三級(jí)鋸齒突起和凹槽。定子可以無(wú)限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強(qiáng)的流體湍流下,凹槽在每級(jí)都可以改變方向。

      第二級(jí)由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計(jì)也很好地滿(mǎn)足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線(xiàn)式的定子和轉(zhuǎn)子(乳化頭)和批次式機(jī)器的工作頭設(shè)計(jì)的不同主要是因?yàn)樵趯?duì)輸送性的要求方面,特別要引起注意的是:在粗精度、中等精度、細(xì)精度和其他一些工作頭類(lèi)型之間的區(qū)別不光是轉(zhuǎn)子齒的排列,還有一個(gè)很重要的區(qū)別是不同工作頭的幾何學(xué)特征不一樣。狹槽數(shù)、狹槽寬度以及其他幾何學(xué)特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能。根據(jù)以往的慣例,依據(jù)以前的經(jīng)驗(yàn)工作頭來(lái)滿(mǎn)足一個(gè)具體的應(yīng)用。在大多數(shù)情況下,機(jī)器的構(gòu)造是和具體應(yīng)用相匹配的,因而它對(duì)制造出zui終產(chǎn)品是很重要。當(dāng)不確定一種工作頭的構(gòu)造是否滿(mǎn)足預(yù)期的應(yīng)用。

      GMD2000系列的線(xiàn)速度很高,剪切間隙非常小,這樣當(dāng)物料經(jīng)過(guò)的時(shí)候,形成的摩擦力就比較劇烈,結(jié)果就是通常所說(shuō)的濕磨。定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形,具有精細(xì)度遞升的三級(jí)鋸齒突起和凹槽。定子可以無(wú)限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強(qiáng)的流體湍流下,凹槽在每級(jí)都可以改變方向。高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料,可以滿(mǎn)足不同行業(yè)的多種要求。

      設(shè)備參數(shù):

      研磨分散機(jī)

      流量*

      輸出

      線(xiàn)速度

      功率

      入口/出口連接

      類(lèi)型

      l/h

      rpm

      m/s

      kW

       

      GMD 2000/4

      300

      9,000

      23

      2.2

      DN25/DN15

      GMD 2000/5

      3000

      6,000

      23

      7.5

      DN40/DN32

      GMD 2000/10

      8000

      4,200

      23

      22

      DN80/DN65

      GMD 2000/20

      20000

      2,850

      23

      37

      DN80/DN65

      GMD 2000/30

      40000

      1,420

      23

      55

      DN150/DN125

      GMD2000/50

      120000

      1,100

      23

      110

      DN200/DN150

      *流量取決于設(shè)置的間隙和被處理物料的特性,同時(shí)流量可以被調(diào)節(jié)到zui大允許量的10%。

       



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