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日本電子、日立、賽默飛
原理
透射電鏡的總體工作原理是:由電子槍發(fā)射出來的電子束,在真空通道中沿著鏡體光軸穿越聚光鏡,通過聚光鏡將之會聚成一束尖細、明亮而又均勻的光斑,照射在樣品室內(nèi)的樣品上;透過樣品后的電子束攜帶有樣品內(nèi)部的結(jié)構(gòu)信息,樣品內(nèi)致密處透過的電子量少,稀疏處透過的電子量多;經(jīng)過物鏡的會聚調(diào)焦和初級放大后,電子束進入下級的中間透鏡和第1、第2投影鏡進行綜合放大成像,最終被放大了的電子影像投射在觀察室內(nèi)的熒光屏板上;熒光屏將電子影像轉(zhuǎn)化為可見光影像以供使用者觀察。
透射電子顯微鏡的成像原理可分為三種情況:
吸收像:當電子射到質(zhì)量、密度大的樣品時,主要的成相作用是散射作用。樣品上質(zhì)量厚度大的地方對電子的散射角大,通過的電子較少,像的亮度較暗。早期的透射電子顯微鏡都是基于這種原理。
衍射像:電子束被樣品衍射后,樣品不同位置的衍射波振幅分布對應于樣品中晶體各部分不同的衍射能力,當出現(xiàn)晶體缺陷時,缺陷部分的衍射能力與完整區(qū)域不同,從而使衍射波的振幅分布不均勻,反映出晶體缺陷的分布。
相位像:當樣品薄至100Å以下時,電子可以穿過樣品,波的振幅變化可以忽略,成像來自于相位的變化。
應用
透射電子顯微鏡在材料科學 、生物學上應用較多。由于電子易散射或被物體吸收,故穿透力低,樣品的密度、厚度等都會影響到最后的成像質(zhì)量,必須制備更薄的超薄切片,通常為50~100nm。所以用透射電子顯微鏡觀察時的樣品需要處理得很薄。常用的方法有:超薄切片法、冷凍超薄切片法、冷凍蝕刻法、冷凍斷裂法等。對于液體樣品,通常是掛預處理過的銅網(wǎng)上進行觀察。