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- 西門(mén)子/SIEMENS 品牌
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- 上海市 所在地
訪問(wèn)次數(shù):728更新時(shí)間:2018-09-20 19:59:24
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![]() | 6ES7315-2EH14-0AB0 SIMATIC S7-300 CPU 315-2 PN/DP, *處理器,帶 384 KB 工作存儲(chǔ)器, 1 個(gè) MPI/DP 12MBit/s 接口, 2 個(gè) 以太網(wǎng) PROFINET 接口, 帶雙端換機(jī), 需要微型存儲(chǔ)卡 |
![]() | 6AG1315-2EH14-2AY0 SIPLUS S7-300 CPU 315-2PN/DP -25...+60°C 符合 EN 50155 T1 類(lèi)別 1 Kl A/B 基于 6ES7315-2EH14-0AB0 。 *處理器,帶 384 KB 工作存儲(chǔ)器, 第 1 個(gè) MPI/DP 接口 12MBit/ s, 第 2 個(gè)以太網(wǎng)接口 PROFINET, 帶雙端換機(jī), 需要微型存儲(chǔ)卡 |
![]() | 6AG1315-2EH14-7AB0 SIPLUS S7-300 CPU 315-2PN/DP -25...+70°C 帶防腐蝕涂層 基于 6ES7315-2EH14-0AB0 。 *處理器,帶 384 KB 工作存儲(chǔ)器, 第 1 個(gè) MPI/DP 接口 12MBit/ s, 第 2 個(gè)以太網(wǎng)接口 PROFINET, 帶雙端換機(jī), 需要微型存儲(chǔ)卡 |
S7-300 運(yùn)行的機(jī)械條件和氣候環(huán)境條件
運(yùn)行條件
S7-300 系統(tǒng)需要在不受氣候影響的固定地點(diǎn)使用。運(yùn)行條件基于 DIN IEC 60721-3-3 的 要求: ● Class 3M3 (機(jī)械要求) ● Class 3K3 (氣候要求)
采用其它措施時(shí)使用 如果不采取其它額外措施,S7-300將不能在下述條件下使用: ● 電離輻射嚴(yán)重的地方 ● 由以下原因?qū)е碌膼毫迎h(huán)境,例如由于 – 產(chǎn)生灰塵 – 腐蝕性蒸氣或氣體 – 強(qiáng)電場(chǎng)或磁場(chǎng) ● 在需要特殊監(jiān)控的設(shè)施中,例如 – 電梯 – 潛在危險(xiǎn)區(qū)域的電站
機(jī)械環(huán)境條件
下表說(shuō)明了正弦波振蕩形式的機(jī)械環(huán)境條件。
頻帶 連續(xù)性 偶爾 10 Hz ≤ f ≤ 58 Hz 0.0375 mm振幅 0.75 mm 振幅 58 Hz ≤ f ≤ 150 Hz 0.5 g 恒定加速度 1 g 恒定加速度
減少振動(dòng)
如果S7-300 模塊處在劇烈的沖擊或振動(dòng)環(huán)境下,需要采取適當(dāng)?shù)拇胧﹣?lái)降低加速度或振 幅。 建議在阻尼材料上安裝S7-300(例如,安裝在帶橡膠層的金屬上)。
機(jī)械環(huán)境條件測(cè)試 下表提供了有關(guān)機(jī)械環(huán)境條件測(cè)試類(lèi)型及范圍的重要信息。
測(cè)試條件 測(cè)試標(biāo)準(zhǔn) 注釋 振動(dòng) 振動(dòng)測(cè)試符合 IEC 60068-2-6 (正弦波) 振動(dòng)類(lèi)型:變化率為 1 倍頻程/分鐘的頻率掃描。 5 Hz ≤ f ≤ 9 Hz,等幅 3.5 mm 9 Hz ≤ f ≤ 150Hz,恒定加速度 1 g 振動(dòng)持續(xù)時(shí)間:在 3 個(gè)垂直對(duì)齊的坐標(biāo)軸上,每個(gè)坐標(biāo)軸進(jìn)行 10 次頻率掃描 沖擊 沖擊,經(jīng)測(cè)試符合 IEC 60068-2-27 規(guī)定 沖擊類(lèi)型:半正弦 沖擊嚴(yán)重程度:峰值為 15 g,持續(xù)時(shí)間為 11 ms 沖擊方向:在三個(gè)垂直對(duì)齊的坐標(biāo)軸的正/負(fù)方向上各進(jìn)行 3 次 沖擊
環(huán)境氣候條件
S7-300 可在下列環(huán)境條件下運(yùn)行:
環(huán)境條件 允許范圍 注釋 溫度: 水平安裝位置: 垂直安裝位置:
0°C 到 60°C 0°C 到 40°C - 相對(duì)濕度 10% 到 95% 非結(jié)露,相當(dāng)于 IEC 61131 第2 部分 2 級(jí)相對(duì)濕度(RH) 大氣壓 1140 至 795 hPa 對(duì)應(yīng)高度為 -1000 m到 2000 m 污染物濃度 SO2:< 0.5 ppm; RH < 60 %,無(wú)冷凝 H2S:< 0.1 ppm; RH < 60 %,無(wú)冷凝 測(cè)試:10 ppm; 4 天
測(cè)試:1 ppm; 4天 ISA-S71.04 severity level G1; G2; G3 -