產(chǎn)品介紹：

    目前高溫加熱大都為管式爐或馬弗爐，原理為加熱絲或硅碳棒對爐體加熱，加熱與降溫速度慢，效率低下，也無法實現(xiàn)溫度的精度高的測量，加熱區(qū)域也存在不均勻的現(xiàn)象，華測儀器開發(fā)了一種可實現(xiàn)高的精度，高反射率的拋物面與高質(zhì)量的加熱源相配置，在高速加熱高速冷卻時，具有良好的溫度分布。 可實現(xiàn)寬域均熱區(qū)，高速加熱、高速冷卻 ，用石英管保護加熱式樣，無氣氛污染。可在高真空，高出純度氣體中加熱 。設(shè)備可組成均熱高速加熱爐，溫度斜率爐，階段加熱爐。

     華測儀器高溫管式爐/測試儀器提高了加熱試驗?zāi)芰Α?同電阻爐和其他爐相比，紅外線反射爐節(jié)省了升溫時間和保持時間及自然冷卻到室溫所需時間，再試驗中也可改寫設(shè)定溫度值。從各方面講，都節(jié)省時間并提高實驗速度。

  華測儀器高溫管式爐/測試儀器同高頻爐相比，不需特殊的安裝條件及對加熱試樣的要求。同電阻爐一樣安裝簡單，有冷卻系統(tǒng)安全可靠。以提高試驗人員的工作效率，實現(xiàn)溫度控制操作！

本試驗爐具有：1000度、1200度、1400度各種型號。也可根據(jù)用戶需求訂制！

設(shè)備優(yōu)勢：

高速加熱與冷卻方式：高能量的紅外燈和鍍金反射方式允許高速加熱到高溫。同時爐體可配置水冷系統(tǒng)，增設(shè)氣體冷卻裝置，可實現(xiàn)快速冷卻。

溫度高的精度控制：過紅外鍍金聚焦?fàn)t和溫度控制器的組合使用，可以精確控制樣品的溫度(遠(yuǎn)比普通加溫方式)。此外，冷卻速度和保持在任何溫度下可提供高的精度。

不同環(huán)境下的加熱與冷卻：加熱/冷卻可用真空、氣氛環(huán)境、低溫（高純度惰性氣體 靜態(tài)或流動），操作簡單，使用石英玻璃制成。紅外線可傳送到加熱/冷卻室。

 應(yīng)用范圍：

1. 電子材料

◆半導(dǎo)體用硅化合化的PRA（加熱后急速冷卻）

◆熱源薄膜形成

◆激活離子注入后

◆硅化物的形成

2. 陶瓷與無機材料

◆ 陶瓷基板退火爐

◆玻璃基板退火爐。

◆陶瓷張力、撓曲試驗退火爐。

3. 鋼鐵和金屬材料

◆ 薄鋼板加熱過程的數(shù)值模擬。

◆ 爐焊接模擬

◆ 高真空熱處理（1000°C以下）

◆ 大氣氣體熔化過程

◆ 壓力下耐火鋼和合金的熱循環(huán)試驗爐

4. 復(fù)合材料

◆ 耐熱性評價爐

◆ 無機復(fù)合材料熱循環(huán)試驗爐

5. 其它

◆ 高溫拉伸壓縮試驗爐。

◆ 分段分區(qū)控制爐

◆ 溫度梯度爐

◆ 爐氣分析

◆ 超導(dǎo)陶瓷退火爐