產(chǎn)品介紹：

 中小型高溫爐是工業(yè)生產(chǎn)與科研中常用的設(shè)備之一。目前高溫爐基本均采用硅鉬棒、硅碳棒作為加熱體，升溫速率慢、無法實(shí)現(xiàn)變溫環(huán)境模擬，且不同氣氛環(huán)境難以共用。

 氣氛型可調(diào)高溫加熱裝置HCTD系列/HCHD系列可以進(jìn)行太陽能電池/化合物半導(dǎo)體等的工藝開發(fā)和各種應(yīng)用程序的安裝。此系列是將紅外線反射爐和溫度控制器組合，并且還將石英的熱處理室緊湊地裝備起來的高速加熱、冷卻裝置。也可以根據(jù)用戶的需要進(jìn)行定制。

氣氛型可調(diào)高溫加熱裝置

儀器規(guī)格：

儀器特點(diǎn)：

設(shè)定從高速加熱到低速加熱的廣泛條件

多步驟及循環(huán)加熱利用氣體冷卻機(jī)構(gòu)的高速氣體淬火

可以簡單地從電腦上輸入溫度程序設(shè)定和外部信號(hào)

可以在電腦上顯示加熱中的溫度數(shù)據(jù)

儀器應(yīng)用：

太陽能電池基板的熱處理

在氣氛環(huán)境下的熱處理

各種材料的基礎(chǔ)研究氣氛退火熱處理

模擬器漸變熱處理

熱循環(huán)熱沖擊試驗(yàn)研究

半導(dǎo)體材料的燒結(jié)和工藝退火爐