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      高云峰 (董事長)

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      離心水洗機(jī)、離心微塵清洗機(jī)、全自動(dòng)二流體清洗機(jī)、硅片 晶圓清洗機(jī)、全自動(dòng)二流體離心清洗機(jī)、微塵二流體清洗機(jī)、攝像頭模組清洗機(jī)、芯片二流體清洗機(jī)

      離心水洗機(jī)、離心微塵清洗機(jī)、全自動(dòng)二流體清洗機(jī)、硅片 晶圓清洗機(jī)、全自動(dòng)二流體離心清洗機(jī)、微塵二流體清洗機(jī)、攝像頭模組清洗機(jī)、芯片二流體清洗機(jī)
      參考價(jià) 面議
      具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
      • 型號
      • 品牌
      • 廠商性質(zhì) 生產(chǎn)商
      • 所在地

      更新時(shí)間:2023-02-15 10:20:24瀏覽次數(shù):537

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      產(chǎn)品簡介
      二流體清洗:通過二流體噴嘴特殊的內(nèi)部結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)使液體與氣體均勻混合,形成高速的噴霧,當(dāng)從噴嘴中噴射出的噴霧噴射到被清洗物體上時(shí),就會(huì)立即崩解并對被清洗物體產(chǎn)生強(qiáng)大的沖擊,清洗物體上附著的微小顆粒,在雙流體產(chǎn)生的沖擊波和膨脹波作用下去除

      二流體清洗:

      通過二流體噴嘴特殊的內(nèi)部結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)使液體與氣體均勻混合,形成高速的噴霧,當(dāng)從噴嘴中噴射出的噴霧噴射到被清洗物體上時(shí),就會(huì)立即崩解并對被清洗物體產(chǎn)生強(qiáng)大的沖擊,清洗物體上附著的微小顆粒,在雙流體產(chǎn)生的沖擊波和膨脹波作用下去除。高速離心脫水:使用清洗盤高速運(yùn)轉(zhuǎn)產(chǎn)生的離心力和靜電消除裝置(選裝),將被洗工件表面殘留水分甩干。

      特點(diǎn)

      技術(shù)參數(shù)

      序號 參數(shù) 說明
      1 產(chǎn)品規(guī)格 長度范圍:150-270mm 寬度范圍:70-95mm
      2 治具規(guī)格 定制(清洗盤直徑680mm)
      3 清洗精度 清洗0.5μm 及以上的Particle顆粒
      4 清洗良率 99.7%以上
      5 整體尺寸 1900mm(L)×1455mm(W)×2200mm(H)
      6 上料機(jī)尺寸 600mm(L)×840mm(W)×1490mm(H)
      7 清洗機(jī)尺寸 1300mm(L)×1295mm(W)×2200mm(H)
      8 清洗方式 Plasma(選配)+二流體清洗+高速離心脫水
      9 純水連接口徑 ?12mm外徑軟管或PT 1/2″內(nèi)螺紋
      10 純水供應(yīng) 壓力>0.3Mpa;流量>10L/Min;電阻率>17MΩ
      序號 參數(shù) 說明
      11 純水消耗量 0-8L/Min,正常工作耗水量<120L/h
      12 排水出口徑 PT 1″內(nèi)螺紋
      13 氣源入口徑 ?12mm外徑軟管
      14 氣源供應(yīng) 0.4-0.7Mpa;過濾精度:0.01μm;含油量:無油;含水量:壓力露點(diǎn)-40℃
      15 氣體消耗量 100-400L/Min

      16 排風(fēng)口口徑 2″抽風(fēng)風(fēng)速大于3M/Sec
      17 排風(fēng)量 強(qiáng)排140m3/H
      18 電源供應(yīng) AC380V;50Hz;11Kw
      18 耗電量 清洗時(shí)3.5Kw; 待機(jī)時(shí):1Kw
      20 離心轉(zhuǎn)速 80-2000R/Min
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