科研類真空均質(zhì)機，用于實驗室研發(fā)用，模擬工業(yè)化生產(chǎn)，為工業(yè)化生產(chǎn)提供可靠的試驗數(shù)據(jù)。
  
  科研類真空均質(zhì)機可以有效的消除乳化過程中泡沫，可以是物料乳化的更*；真空均質(zhì)機也可以用于一些不易于空氣接觸的物料（易燃易爆），規(guī)避風(fēng)險，提高生產(chǎn)的安全性。
                 
 科研類真空均質(zhì)機是由真空系統(tǒng)和均質(zhì)機組成，一個真空罐體和管線式均質(zhì)機相結(jié)合，真空罐內(nèi)可以根據(jù)物料的粘稠度來配置相應(yīng)的攪拌機（普通攪拌或者刮壁攪拌），小型真空罐有進料口、觀察窗、放空閥等。小型管線式均質(zhì)機為CR2000/4高剪切均質(zhì)機，是一款小試和中試的乳化設(shè)備，CR2000/4設(shè)備轉(zhuǎn)速高達9000rpm，三級工作頭，采用德國博格曼雙端面機械密封，乳化效果。

影響分散乳化結(jié)果的因素有以下幾點

1 乳化頭的形式（批次式和連續(xù)式）（連續(xù)式比批次好）

2 乳化頭的剪切速率 （越大，效果越好）

3 乳化頭的齒形結(jié)構(gòu)（分為初齒，中齒，細齒，超細齒，約細齒效果越好）

4  物料在分散墻體的停留時間，乳化分散時間（可以看作同等的電機，流量越小，效果越好）

5 循環(huán)次數(shù)（越多，效果越好，到設(shè)備的期限，就不能再好）

線速度的計算

剪切速率的定義是兩表面之間液體層的相對速率。

– 剪切速率 (s-1) =           v  速率 (m/s)   
                         g 定-轉(zhuǎn)子 間距 (m)

由上可知，剪切速率取決于以下因素：

– 轉(zhuǎn)子的線速率

– 在這種請況下兩表面間的距離為轉(zhuǎn)子-定子 間距。 
CIK 定-轉(zhuǎn)子的間距范圍為 0.2 ~ 0.4 mm 

速率V=  3.14 X  D（轉(zhuǎn)子直徑）X 轉(zhuǎn)速 RPM  /   60
                        

 科研類真空均質(zhì)機，小型均質(zhì)機，上海切可專業(yè)從事乳化設(shè)備的研發(fā)與生產(chǎn)，小型均質(zhì)機在全國各*高校以及研究所都有著廣泛的應(yīng)用。