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【產(chǎn)品介紹】

一、產(chǎn)品名稱：納米碳酸鈣分散機(jī),納米碳酸鈣研磨分散機(jī),納米碳酸鈣分散設(shè)備,碳酸鈣分散機(jī),超細(xì)分散機(jī),納米分散機(jī)

二、納米碳酸鈣簡介

納米碳酸鈣又稱超微細(xì)碳酸鈣。標(biāo)準(zhǔn)的名稱即超細(xì)碳酸鈣。納米碳酸鈣應(yīng)用成熟的行業(yè)是塑料工業(yè)主要應(yīng)用于高檔塑料制品。可改善塑料母料的流變性，提高其成型性。用作塑料填料具有增韌補(bǔ)強(qiáng)的作用，提高塑料的彎曲強(qiáng)度和彎曲彈性模量，熱變形溫度和尺寸穩(wěn)定性，同時(shí)還賦予塑料滯熱性。納米碳酸鈣用于油墨產(chǎn)品中體現(xiàn)出了優(yōu)異的分散性和透明性和*的光澤、及優(yōu)異的油墨吸收性和高干燥性。納米碳酸鈣在樹脂型油墨中作油墨填料，具有穩(wěn)定性好，光澤度高，不影響印刷油墨的干燥性能．適應(yīng)性強(qiáng)等優(yōu)點(diǎn)。

三、納米碳酸鈣的分散難點(diǎn)

納米碳酸鈣分散到水中或者溶劑當(dāng)中，容易出現(xiàn)抱團(tuán)的現(xiàn)象，導(dǎo)致物料粒徑變大，分散效果不佳，產(chǎn)品改性不充分。如果使用普通的分散設(shè)備，很難將納米碳酸鈣分散均勻，會出現(xiàn)團(tuán)聚的現(xiàn)象，團(tuán)聚體難以打開，而如果采用CIK新研發(fā)的分散設(shè)備，研磨分散機(jī)的話，先研磨后分散機(jī)，解決團(tuán)聚問題，可達(dá)納米碳酸鈣還原至納米級。

四、CIK納米碳酸鈣分散設(shè)備簡介

CIK研磨式分散機(jī)，是由膠體磨+分散機(jī)結(jié)合而成的設(shè)備，主要是為了解決納米級物料的分散，如：納米碳酸鈣、納米氫氧化鎂、納米氧化鋁、石墨烯、碳納米管等納米級物料的分散。

CDL2000系列研磨分散設(shè)備是CIK（上海）公司經(jīng)過研究剛剛研發(fā)出來的一款新型產(chǎn)品，該機(jī)特別適合于需要研磨分散乳化均質(zhì)一步到位的物料。我們將三級高剪切均質(zhì)乳化機(jī)進(jìn)行改裝，我們將三級變跟為一級，然后在乳化頭上面加配了膠體磨磨頭，使物料可以先經(jīng)過膠體磨細(xì)化物料，然后再經(jīng)過乳化機(jī)將物料分散乳化均質(zhì)。膠體磨可根據(jù)物料要求進(jìn)行更換（我們提供了2P，2G，4M，4P，6F，8SF等六種乳化頭供客戶選擇）

五、CDL2000系列納米碳酸鈣分散機(jī)的特點(diǎn)：

① 線速度很高，剪切間隙非常小，當(dāng)物料經(jīng)過的時(shí)候，形成的摩擦力就比較劇烈，結(jié)果就是通常所說的濕磨

② 定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形，具有精細(xì)度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。

③ 定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。

④ 在增強(qiáng)的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。

⑤ 高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料，可以滿足不同行業(yè)的多種要求。

產(chǎn)品選型表：

1 表中上限處理量是指介質(zhì)為“水”的測定數(shù)據(jù)。

2 處理量取決于物料的粘度，稠度和zui終產(chǎn)品的要求。

3 如高溫，高壓，易燃易爆，腐蝕性等工況，必須提供準(zhǔn)確的參數(shù)，以便選型和定制。

4 本表的數(shù)據(jù)因技術(shù)改動(dòng)，定制而不符，正確的參數(shù)以提供的實(shí)物為準(zhǔn)。

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