半連續(xù)式膠體磨，半連續(xù)式納米膠體磨，半連續(xù)式高速膠體磨，半連續(xù)式進(jìn)口膠體磨?，連續(xù)式膠體磨，在線式膠體磨，連續(xù)式生產(chǎn)膠體磨，連續(xù)式研磨機(jī)，連續(xù)式高剪切膠體磨采用管線式分體式結(jié)構(gòu)，物料從進(jìn)口進(jìn)行研磨腔體，研磨細(xì)化后從出口放出，可直接接入罐體釜底閥，可以連續(xù)式生產(chǎn)。
IKN連續(xù)式膠體磨和國(guó)產(chǎn)連續(xù)式膠體磨的區(qū)別在于轉(zhuǎn)速和機(jī)械密封！IKN轉(zhuǎn)速可達(dá)14000rpm，采用德國(guó)博格曼雙端面機(jī)械密封，研磨能力強(qiáng)，機(jī)械密封精度高，設(shè)備整體穩(wěn)定！
下面簡(jiǎn)單介紹一下IKN連續(xù)式膠體磨和國(guó)產(chǎn)連續(xù)式膠體磨的對(duì)比：
三級(jí)結(jié)構(gòu) | 磨頭結(jié)構(gòu) | 轉(zhuǎn)速 | 線速度 | 模塊頭 | 密封類(lèi)型 | 產(chǎn)品效果 | |
國(guó)內(nèi)連續(xù)式膠體磨 | 溝槽是直線，同級(jí)的溝槽深度一樣 | 溝槽的結(jié)構(gòu)式斜齒，每個(gè)磨頭的溝槽深度不一樣，并且斜齒的流道的體積從上往下是從大到下 | 目前是不通過(guò)變頻器來(lái)調(diào)節(jié)，若通過(guò)變頻調(diào)節(jié)，他們的軸承不能承受高速運(yùn)轉(zhuǎn)。一般在3000RPM（這是由于膠體磨的內(nèi)部結(jié)構(gòu)及精密的程度決定的。） | 大約在10-15M/S | 只有一種模塊頭 | 單機(jī)械密封或軸封，泄漏故障率高，產(chǎn)品泄漏進(jìn)入馬達(dá)，造成馬達(dá)燒毀 | 粒徑細(xì)度有限，100微米以下較困難，重復(fù)性差 |
IKN連續(xù)式膠體磨 | 溝槽是曲線，上下深度不一，上深下淺 | 斜齒的每個(gè)磨頭的溝槽深度一樣，流道體積是一樣大 | 可以通過(guò)變頻調(diào)速，轉(zhuǎn)速可達(dá)7890/13789RPM ，通過(guò)皮帶加速 我們軸承可以承受140000RPM(轉(zhuǎn)速是他們的3-4倍，研磨的力度也是他們的3-4倍，這樣研磨的細(xì)度更小) | 23-40 M/S | 可以選擇六種不同的模塊頭，實(shí)現(xiàn)多種功能，如三級(jí)乳化模塊，超高速模塊，CM膠體模塊，CMO膠體模塊，批次粉液液混合模塊，連續(xù)粉液混合模塊 | 雙機(jī)械密封，易于清洗，將泄漏降至更低，可24小時(shí)不停運(yùn)轉(zhuǎn) | 可實(shí)現(xiàn)1-10微米小粒徑材料加工 |
連續(xù)式膠體磨CM2000系列特別適合于膠體溶液，超細(xì)懸浮液和乳液的生產(chǎn)。除了高轉(zhuǎn)速和靈活可調(diào)的定轉(zhuǎn)子間隙外，CM在摩擦狀態(tài)下工作，也就被稱(chēng)做濕磨。在錐形轉(zhuǎn)子和定子之間有一個(gè)寬的入口間隙和窄的出口間隙，在工作中，分散頭偏心運(yùn)轉(zhuǎn)使溶液出現(xiàn)渦流，因此可以達(dá)到更好的研磨分散的效果。CM2000整機(jī)采用幾何機(jī)構(gòu)的研磨定轉(zhuǎn)子，的表面處理和優(yōu)質(zhì)材料，可以滿足不同行業(yè)的多種需求。
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連續(xù)式膠體磨適用于制藥、食品、化工及其它行業(yè)的濕物料超微粉碎，能起到各種半濕體及乳狀液物質(zhì)德粉碎、乳化、均質(zhì)和混合，主要技術(shù)指標(biāo)已達(dá)到國(guó)外同類(lèi)產(chǎn)品的*水平。
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